CN104407476B - 一种阵列基板、显示面板和显示装置 - Google Patents

一种阵列基板、显示面板和显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种阵列基板、显示面板和显示装置，其中，阵列基板包括：基板；设置在基板上的多条栅极线和多条数据线，其中，多条栅极线和多条数据线交叉形成呈阵列排布的多个像素单元；设置在像素单元上且呈面状的公共电极，所述公共电极对应像素单元的区域内包括多个条形狭缝，其中与同一行像素单元对应的多个条形狭缝的长轴互相平行，与任意相邻两行像素单元对应的条形狭缝的长轴延长线相交；在公共电极所在的平面内，每个条形狭缝的长轴与垂直于栅极线的方向的夹角设置为第一角度，其中，第一角度大于等于6°且小于等于8°。本发明可以减少显示面板中无法正常配向的液晶分子，从而可以改善显示面板和显示装置处于黑态时的漏光现象。

Description

一种阵列基板、显示面板和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、包括该阵列基板的显示面板和显示装置。
背景技术
随着显示技术的发展，液晶显示面板的显示效果不断地得到改善，从而使液晶显示面板的应用越来越广泛。
FFS型(Fringe Field Switching，边缘场开关型)液晶驱动模式的液晶显示面板一种常见的显示面板。FFS型液晶显示面板通过设置在阵列基板中的互相平行的像素电极和公共电极之间形成的电场来控制液晶分子的旋转，以使液晶显示面板实现显示效果。
图1a示出了现有技术中对设置在FFS型液晶显示面板的彩膜基板上的配向膜层进行配向摩擦的过程。如图1a所示，在彩膜基板11上设置有配向膜层12；以及设置在配向膜层12上的支撑体13。
如图1a所示，随着滚轮14的转动带动摩擦布15沿配向摩擦方向X对配向膜层12进行配向摩擦，以使配向膜层12对显示面板中的液晶分子具有配向能力。图1b是图1a中区域A的放大示意图。如图1b所示，在配向摩擦过程中，由于沿配向摩擦方向X上支撑体13对摩擦布15具有阻挡作用，因此，在支撑体13周边沿配向摩擦方向X上会形成未完全摩擦配向区域B，其中，所述未完全摩擦配向区域B可以理解为：相对于完全摩擦配向区域，未被摩擦配向的区域和部分被摩擦配向的区域均属于未完全摩擦配向区域B。由于经配向摩擦后的配向膜层12具有未完全摩擦配向区域B，因此，会导致显示面板中与未完全摩擦配向区域B对应的液晶分子无法正常配向，从而使显示面板处于黑态时呈现较严重的漏光现象。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供一种阵列基板，包括：
基板；
设置在所述基板上的多条栅极线和多条数据线，其中，所述多条栅极线和所述多条数据线交叉形成多个像素单元，所述多个像素单元呈阵列排布；
设置在所述像素单元上且呈面状的公共电极，所述公共电极对应所述像素单元的区域内包括多个条形狭缝，其中与同一行像素单元对应的多个条形狭缝的长轴互相平行，与任意相邻两行像素单元对应的条形狭缝的长轴延长线相交；
在所述公共电极所在的平面内，每个所述条形狭缝的长轴与垂直于所述栅极线的方向的夹角设置为第一角度，其中，所述第一角度大于等于6°且小于等于8°。
本发明实施例还提供一种阵列基板，包括：
基板；
设置在所述基板上的多条栅极线和多条数据线，其中，所述多条栅极线和所述多条数据线交叉形成多个像素单元，所述多个像素单元呈阵列排布；
每个所述像素单元包括条状的像素电极，所述像素电极包括多个条形狭缝，其中位于同一行所述像素单元中的像素电极中的多个条形狭缝的长轴互相平行，位于任意相邻两行所述像素单元中的像素电极中的条形狭缝的长轴延长线相交；
在所述像素电极所在的平面内，每个所述像素电极中的条形狭缝的长轴与垂直于所述栅极线的方向的夹角设置为第一角度，其中，所述第一角度大于等于6°且小于等于8°。
本发明实施例还提供一种显示面板，包括彩膜基板和与所述彩膜基板相对设置的上述各实施例所述的阵列基板，其中，所述彩膜基板靠近所述阵列基板的一侧设置有第二配向膜层以及支撑体，在所述支撑体周边的所述第二配向膜层沿配向摩擦方向具有未完全摩擦配向的第一区域。
本发明实施例还提供一种显示装置，包括上述实施例所述的显示面板。
本发明实施例提供的阵列基板、显示面板和显示装置，通过在公共电极对应像素单元的区域内设置多个条形狭缝，其中与同一行像素单元对应的多个条形狭缝的长轴互相平行，与任意相邻两行像素单元对应的条形狭缝的长轴延长线相交，且在公共电极所在的平面内，每个条形狭缝的长轴与垂直于栅极线的方向的夹角设置为第一角度；或者在像素电极中设置多个条形狭缝，其中位于同一行像素单元中的像素电极中的多个条形狭缝的长轴互相平行，位于任意相邻两行像素单元中的像素电极中的条形狭缝的长轴延长线相交，且在公共电极所在的平面内，每个条形狭缝的长轴与垂直于栅极线的方向的夹角设置为第一角度，且所述第一角度在公共电极所在的平面内，每个所述条形狭缝的长轴与垂直于所述栅极线的方向的夹角设置为第一角度；再通过将上述第一角度设置为大于等于6°且小于等于8°，这样可以减少显示面板中无法正常配向的液晶分子，从而可以改善显示面板和显示装置处于黑态时的漏光现象。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1a是现有技术的对设置在彩膜基板上的配向膜层进行配向摩擦的示意图；
图1b是图1a中区域A的放大示意图；
图2是本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；
图3是本发明实施例提供的一种未完全摩擦配向区域有效面积占比与第一角度的关系曲线图；
图4是本发明实施例提供的一种透光率与第一角度的关系曲线图；
图5是本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；
图6是本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；
图7是图2中沿A1-A2方向的剖面示意图；
图8是本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；
图9是本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；
图10是本发明实施例提供的另一种未完全摩擦配向区域有效面积占比与第一角度的关系曲线图；
图11是本发明实施例提供的另一种透光率与第一角度的关系曲线图；
图12是本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；
图13是本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；
图14是图9中沿B1-B2方向的剖面示意图；
图15是本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；
图16是本发明实施例提供的一种显示面板的结构图；
图17是图16中关于第二配向膜层和支撑体的一种俯视示意图；
图18是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部内容。
本发明实施例提供一种阵列基板。图2是本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图。如图2所示，阵列基板包括：基板21；设置在基板21上的多条栅极线22和多条数据线23，其中，多条栅极线22和多条数据线23交叉形成多个像素单元24，所述多个像素单元24呈阵列排布；设置在像素单元24上且呈面状的公共电极25，所述公共电极25对应像素单元24的区域内包括多个条形狭缝251，其中与同一行像素单元24对应的多个条形狭缝的长轴X1互相平行，与任意相邻两行像素单元24对应的条形狭缝251的长轴X1延长线相交；在公共电极25所在的平面内，每个条形狭缝251的长轴与垂直于栅极线22的方向X2的夹角设置为第一角度α，其中，所述第一角度α大于等于6°且小于等于8°。
需要说明的是，在本发明实施例中，均以从基板21到公共电极25的方向作为朝上的方向，相反的方向则作为朝下的方向，其中上方或者下方仅仅是对所处方位的描述，对具体结构不构成限定。
在图2中，与同一行像素单元24对应的多个条形狭缝的长轴X1互相平行，与任意相邻两行像素单元24对应的条形狭缝251的长轴X1延长线相交，这表明公共电极25中与每个像素单元24对应的区域构成了伪双畴的像素结构。
具体地，对设置在彩膜基板上的配向膜层进行配向摩擦时，由于支撑体对摩擦布的阻挡作用，在支撑体周边沿配向摩擦方向上会形成未完全摩擦配向区域，该未完全摩擦配向区域在阵列基板上的正投影占公共电极25对应像素单元24的区域的面积与未完全摩擦配向区域的面积之比定义为未完全摩擦配向区域有效面积占比。如果未完全摩擦配向区域有效面积占比的比值越大，则未完全摩擦配向区域在阵列基板上的正投影占公共电极25对应像素单元24的区域的面积也就越大，相应地，受未完全摩擦配向区域的影响而不能正常配向的液晶分子也就越多，从而使显示面板的漏光现象也就越严重。
图3是本发明实施例提供的一种未完全摩擦配向区域有效面积占比与第一角度的关系曲线图。在图3中，纵坐标代表未完全摩擦配向区域有效面积占比AR，横坐标代表第一角度α。如图3所示，当第一角度α小于等于8°时，随着第一角度α的增大，未完全摩擦配向区域有效面积占比AR减小，因此，在本发明实施例中，通过选取第一角度α为大于等于6°且小于等于8°，可以有效地减小未完全摩擦配向区域有效面积占比AR，相应地，受未完全摩擦配向区域的影响而不能正常配向的液晶分子减少，从而可以改善显示面板处于黑态时的漏光现象。
上述选取第一角度α为大于等于6°且小于等于8°，仅是本发明的一个具体示例，在另一个具体示例中，第一角度α也可以进一步地选取为大于等于7°且小于等于8°。由图3可知，通过选取第一角度α为大于等于7°且小于等于8°，可以改善显示面板处于黑态时的漏光现象。
图4是本发明实施例提供的一种透光率与第一角度的关系曲线图。在图4中，纵坐标代表显示面板处于白态时的透光率TR，横坐标代表第一角度α。如图4所示，第一角度α由2°增大到6°的过程中，显示面板处于白态时的透光率TR随着第一角度α的增大而减小；当第一角度α由6°增大到8°的过程中，显示面板处于白态时的透光率TR随着第一角度α的增大而增大，因此，上述选取第一角度α为大于等于7°且小于等于8°，不但可以改善显示面板处于黑态时的漏光现象，而且在第一角度α增大的情况下还可以保证显示面板处于白态时的透光率。
在本发明的另一个具体示例中，也可以选取第一角度α为8°。如图3可知，对于第一角度α在大于等于6°到小于等于8°范围内，如果选取第一角度α为8°，则可以更加有效地减小未完全摩擦配向区域有效面积占比AR，相应地，受未完全摩擦配向区域的影响而不能正常配向的液晶分子会减少得更多，这样不但可以更好地改善显示面板处于黑态时的漏光现象，而且在第一角度α增大的情况下还可以更好地保证显示面板处于白态时的透光率。
如图2所示，进一步地，任意相邻两行像素单元24对应的条形狭缝251沿栅极线22对称设置。如上所述，在图2所示的阵列基板中，条形狭缝251的排列方式构成了伪双畴的像素结构，因此，通过设置与任意相邻两行像素单元24对应的条形狭缝251沿栅极线22相互对称，可以得到排列整齐的条形狭缝251构成的伪双畴的像素结构，这样不仅有利于设计和制造伪双畴的像素结构，而且还可以有利于设计和制造阵列基板中其他结构。然而，在其他的具体示例中，任意相邻两行像素单元对应的条形狭缝也可以不沿栅极线对称设置，只要条形狭缝构成为双畴的像素结构即可，在此不作限定。
如图2所示，在每个与像素单元24对应的公共电极25的区域中，条形狭缝251数量为2个，这仅是在每个与像素单元对应的公共电极的区域设置条形狭缝的一种具体示例，在其他的具体示例中，也可以在每个与像素单元对应的公共电极的区域设置3个或者4个条形狭缝。例如，如图5所示，在每个与像素单元24对应的公共电极25的区域设置3个条形狭缝251；如图6所示，在每个与像素单元24对应的公共电极25的区域设置4个条形狭缝251。
在本发明实施例中，如图2所示，条形狭缝251的端部未设置拐角；在图5中，在条形狭缝251的一端设置有拐角252，且在第一行条形狭缝251的上端设置有拐角252，在第二行条形狭缝251的下端设置有拐角252，也可以在第一行条形狭缝251的下端设置有拐角，在第二行条形狭缝251的上端设置有拐角，本实施例并未对此作出限制；在图6中，在条形狭缝251的两端设置有拐角252，且条形狭缝251两端的拐角252拐向两个不同的方向，即条形狭缝251上端的拐角252拐向条形狭缝251的右侧，条形狭缝251下端的拐角252拐向条形狭缝251的左侧，反之亦可。
需要说明的是，上述图2、图5和图6所示的阵列基板，仅是本发明的一些具体的示例，关于阵列基板中公共电极与像素电极对应的区域包括的条形狭缝的个数、条形狭缝的端部是否包括拐角以及拐角的个数、角度等，在此不作限定。
在本发明实施例中，如图2所示，条形狭缝251的形状为平行四边形。如图5和图6所示，条形狭缝251包括位于其端部的拐角252，由于拐角252所占条形狭缝251的面积很小，且又设置在条形狭缝251的端部，因此，拐角252对条形狭缝251的形状影响很小，仍可以将条形狭缝251的形状看成是平行四边形。通过将条形狭缝251的形状选定为平行四边形，这样可以很容易制造出本发明实施例所需的条形狭缝251，也就是该条形狭缝251的长轴X1与垂直于栅极线22的方向X2具有第一角度α。
在图2、图5和图6中，阵列基板还包括多个像素电极26，其中，像素电极26位于公共电极25与基板21之间且与公共电极25电绝缘。图7是图2中沿A1-A2方向的剖面示意图。如图7所示，在基板21上设置有薄膜晶体管膜层27，在薄膜晶体管膜层27上设置有像素电极26，在像素电极26上设置有公共电极25，且像素电极26与公共电极25通过第一绝缘层28电绝缘。由于像素电极26和公共电极25均位于阵列基板中，且两电极位于不同层，因此，对应的阵列基板为FFS型显示面板所需的阵列基板。又由于像素电极26位于公共电极25与基板21之间，因此上述实施例中所述的阵列基板为公共电极设置像素电极上方的阵列基板。
在本发明实施例中，在图2所示的阵列基板的基础上，如图8所示，阵列基板还可以包括设置在公共电极背离基板21的表面的第一配向膜层29，其中，对第一配向膜层29进行配向摩擦的配向摩擦方向X3与在公共电极所在的平面内垂直于栅极线的方向X2平行。需要说明的是，在图8中，通过公共电极中的条形狭缝251用虚线表示出来可知，第一配向膜层29设置在公共电极背离基板21的表面。
上述各实施例给出了公共电极设置在像素电极上方的阵列基板的结构，该阵列基板为FFS型显示面板所需的阵列基板。除此之外，公共电极也可以设置在像素电极和基板之间，即公共电极设置在像素电极的下方，这样得到的阵列基板也为FFS型显示面板所需的阵列基板。接下来的各实施例就给出该结构的阵列基板。
如图9所示，阵列基板包括：基板31；设置在基板31上的多条栅极线32和多条数据线33，其中，多条栅极线32和多条数据线33交叉形成多个像素单元34，所述多个像素单元34呈阵列排布；每个像素单元34包括条状的像素电极35，所述像素电极35包括多个条形狭缝351，其中位于同一行像素单元34中的像素电极35中的多个条形狭缝351的长轴Y1互相平行，位于任意相邻两行像素单元34中的像素电极35中的条形狭缝351的长轴Y1延长线相交；在像素电极35所在的平面内，每个像素电极35中的条形狭缝351的长轴Y1与垂直于栅极线32的方向Y2的夹角设置为第一角度β，其中，第一角度β大于等于6°且小于等于8°。
需要说明的是，在本发明实施例中，均以从基板31到像素电极35的方向作为朝上的方向，相反的方向则作为朝下的方向，其中上方或者下方仅仅是对所处方位的描述，对具体结构不构成限定。
在图9中，位于同一行像素单元34中的像素电极35中的多个条形狭缝351的长轴Y1互相平行，位于任意相邻两行像素单元34中的像素电极35中的条形狭缝351的长轴Y1延长线相交，这表明阵列基板中的像素电极35构成了伪双畴的像素结构。
具体地，对设置在彩膜基板上的配向膜层进行配向摩擦时，由于支撑体对摩擦布的阻挡作用，在支撑体周边沿配向摩擦方向上会形成未完全摩擦配向区域，该未完全摩擦配向区域在阵列基板上的正投影占像素电极35的面积与未完全摩擦配向区域的面积之比定义为未完全摩擦配向区域有效面积占比。如果未完全摩擦配向区域有效面积占比的比值越大，则未完全摩擦配向区域在阵列基板上的正投影占像素电极35的面积也就越大，相应地，受未完全摩擦配向区域的影响而不能正常配向的液晶分子也就越多，从而使显示面板的漏光现象也就越严重。
图10是本发明实施例提供的另一种未完全摩擦配向区域有效面积占比与第一角度的关系曲线图。其中，关于未完全摩擦配向区域有效面积占比的解释，请参见上述实施例中的解释，在此不再赘述。在图10中，纵坐标代表未完全摩擦配向区域有效面积占比AR，横坐标代表第一角度β。如图10所示，当第一角度β小于等于8°时，随着第一角度β的增大，未完全摩擦配向区域有效面积占比AR减小，因此，在本发明实施例中，通过选取第一角度β为大于等于6°且小于等于8°，可以有效地减小未完全摩擦配向区域有效面积占比AR，相应地，受未完全摩擦配向区域的影响而不能正常配向的液晶分子减少，从而可以改善显示面板处于黑态时的漏光现象。
上述选取第一角度β为大于等于6°且小于等于8°，仅是本发明的一个具体示例，在另一个具体示例中，第一角度β也可以进一步地选取为大于等于7°且小于等于8°。由图10可知，通过选取第一角度β为大于等于7°且小于等于8°，可以改善显示面板处于黑态时的漏光现象。
图11是本发明实施例提供的另一种透光率与第一角度的关系曲线图。在图11中，纵坐标代表显示面板处于白态时的透光率TR，横坐标代表第一角度β。如图11所示，第一角度β由2°增大到6°的过程中，显示面板处于白态时的透光率TR随着第一角度β的增大而减小；当第一角度β由6°增大到8°的过程中，显示面板处于白态时的透光率TR随着第一角度β的增大而增大，因此，上述选取第一角度β为大于等于7°且小于等于8°，不但可以改善显示面板处于黑态时的漏光现象，而且在第一角度β增大的情况下还可以保证显示面板处于白态时的透光率。
在本发明的另一个具体示例中，也可以选取第一角度β为8°。如图10可知，对于第一角度β在大于等于6°到小于等于8°范围内，如果选取第一角度β为8°，则可以更加有效地减小未完全摩擦配向区域有效面积占比AR，相应地，受未完全摩擦配向区域的影响而不能正常配向的液晶分子会减少得更多，这样不但可以更好地改善显示面板处于黑态时的漏光现象，而且在第一角度β增大的情况下还可以更好地保证显示面板处于白态时的透光率。
如图9所示，进一步地，位于任意相邻两行像素单元34中的像素电极35中的条形狭缝351沿栅极线32对称设置。如上所述，在图9所示的阵列基板中，条形狭缝351的排列方式构成了伪双畴的像素结构，因此，通过设置任意相邻两行像素单元34中的像素电极35中的条形狭缝351沿栅极线32相互对称，可以得到排列整齐的条形狭缝351构成的伪双畴的像素结构，这样不仅有利于设计和制造伪双畴的像素结构，而且还可以有利于设计和制造阵列基板中其他结构。然而，在其他的具体示例中，位于任意相邻两行像素单元中的像素电极中的条形狭缝也可以不沿栅极线对称设置，只要条形狭缝构成为双畴的像素结构即可，在此不作限定。
如图9所示，每个像素电极35中的条形狭缝351数量为2个，这仅是在每个每个像素电极中设置条形狭缝的一种具体示例，在其他的具体示例中，也可以在每个像素电极中设置3个或者4个条形狭缝。例如，如图12所示，在每个像素电极35中设置3个条形狭缝351；如图13所示，在每个像素电极35中设置4个条形狭缝351。
在本发明实施例中，如图9所示，条形狭缝351的端部未设置拐角；在图12中，在条形狭缝351的一端设置有拐角352，且在第一行条形狭缝351的上端设置有拐角352，在第二行条形狭缝351的下端设置有拐角352；在图13中，在条形狭缝351的两端设置有拐角352，且条形狭缝351两端的拐角352拐向两个不同的方向，例如条形狭缝351上端的拐角352拐向条形狭缝351的右侧，条形狭缝351下端的拐角352拐向条形狭缝351的左侧。
需要说明的是，上述图9、图12和图13所示的阵列基板，仅是本发明的一些具体的示例，关于阵列基板中的像素电极包括的条形狭缝的个数、条形狭缝的端部是否包括拐角以及拐角的个数、角度，在此不作限定。
在本发明实施例中，如图9所示，条形狭缝351的形状为平行四边形。如图12和图13所示，条形狭缝351包括位于其端部的拐角352，由于拐角352所占条形狭缝351的面积很小，且又设置在条形狭缝351的端部，因此，拐角352对条形狭缝351的形状影响很小，仍可以将条形狭缝351的形状看成是平行四边形。通过将条形狭缝351的形状选定为平行四边形，这样可以很容易制造出本发明实施例所需的条形狭缝351，也就是该条形狭缝351的长轴Y1与垂直于栅极线32的方向Y2具有第一角度β。
图14是图9中沿B1-B2方向的剖面示意图。如图14所示，阵列基板还包括面状的公共电极37，其中，公共电极37位于像素电极35与基板31之间且通过第一绝缘层36与像素电极35实现电绝缘。其中，在图14中，阵列基板还包括薄膜晶体管膜层38，且薄膜晶体管膜层38设置在基板31和公共电极37之间。如图14可知，像素电极35和公共电极37均位于阵列基板中，且两电极位于不同层，因此，上述的阵列基板为FFS型显示面板所需的阵列基板。又由于像素电极35位于公共电极37与基板31之间，因此上述实施例中所述的阵列基板为公共电极设置像素电极下方的阵列基板。
在本发明实施例中，在图9所示的阵列基板的基础上，如图15所示，阵列基板还可以包括设置在像素电极35背离基板31的表面的第一配向膜层39，其中，对第一配向膜层39进行配向摩擦的配向摩擦方向Y3与在像素电极35所在的平面内垂直于栅极线的方向Y2平行。
本发明实施例还提供一种显示面板。图16是本发明实施例提供的一种显示面板的结构图。如图16所示，显示面板包括彩膜基板41和与彩膜基板41相对设置的阵列基板42，其中，所述阵列基板42为上述各个实施例所述的阵列基板；所述彩膜基板41靠近阵列基板42的一侧设置有第二配向膜层411以及支撑体412；如图17所示，在支撑体412周边的第二配向膜层411沿配向摩擦方向Z具有未完全摩擦配向的第一区域C。需要说明的是，需要说明的是，此处的未完全摩擦配向的第一区域C与阵列基板的各实施例中所述的未完全摩擦配向区域完全相同。
进一步地，根据阵列基板的实施例中图3所示的曲线示意图，第一区域C在阵列基板上的正投影占包括条形狭缝的公共电极对应像素单元的区域的面积与第一区域C的面积之比随第一角度的增大而减小，其中所述第一角度大于等于6°且小于等于8°。需要说明的是，上述第一区域C在阵列基板上的正投影占包括条形狭缝的公共电极对应像素单元的区域的面积与第一区域C的面积之比即为像素电极设置在公共电极和基板之间的阵列基板的实施例中所述的未完全摩擦配向区域有效面积占比。
根据阵列基板实施例中图10所示的曲线示意图，第一区域C在阵列基板上的正投影占包括条形狭缝的像素电极的面积与第一区域C的面积之比随第一角度的增大而减小，其中所述第一角度大于等于6°且小于等于8°。需要说明的是，第一区域C在阵列基板上的正投影占包括条形狭缝的像素电极的面积与第一区域C的面积之比即为公共电极设置在像素电极和基板之间的阵列基板的实施例中所述的未完全摩擦配向区域有效面积占比。
在本发明实施例中，显示面板为FFS型显示面板，因此，对设置在阵列基板中的第一配向膜层进行配向摩擦的配向摩擦方向与对设置在彩膜基板靠近阵列基板一侧的第二配向膜层进行配向摩擦的配向摩擦方向相同。
如图16所示，显示面板还包括位于彩膜基板41和阵列基板42之间的液晶层43，所述液晶层43由多个液晶分子431构成，其中，液晶分子431为正性液晶分子。
需要说明的是，上述显示面板可以具有触控功能，也可以不具有触控功能，在实际制作时，可以根据具体的需要进行选择和设计。其中，触控功能可以为电磁触控功能、电容触控功能或者电磁电容触控功能等。
本发明实施例还提供一种显示装置。图18是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。如图18所示，显示装置50包括显示面板51，还可以包括用于支持显示面板51正常工作的其他部件，其中，所述显示面板51为上述各个实施例所述的显示面板。上述的显示装置50可以为手机、台式电脑、笔记本、平板电脑、电子相册和电子纸等。
本发明实施例提供的阵列基板、显示面板和显示装置，通过在公共电极对应像素单元的区域内设置多个条形狭缝，其中与同一行像素单元对应的多个条形狭缝的长轴互相平行，与任意相邻两行像素单元对应的条形狭缝的长轴延长线相交，且在公共电极所在的平面内，每个条形狭缝的长轴与垂直于栅极线的方向的夹角设置为第一角度；或者在像素电极中设置多个条形狭缝，其中位于同一行像素单元中的像素电极中的多个条形狭缝的长轴互相平行，位于任意相邻两行像素单元中的像素电极中的条形狭缝的长轴延长线相交，且在公共电极所在的平面内，每个条形狭缝的长轴与垂直于栅极线的方向的夹角设置为第一角度，且所述第一角度在公共电极所在的平面内，每个所述条形狭缝的长轴与垂直于所述栅极线的方向的夹角设置为第一角度；再通过将上述第一角度设置为大于等于6°且小于等于8°，这样可以减少显示面板中无法正常配向的液晶分子，从而可以改善显示面板和显示装置处于黑态时的漏光现象。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (22)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：
基板；
设置在所述基板上的多条栅极线和多条数据线，其中，所述多条栅极线和所述多条数据线交叉形成多个像素单元，所述多个像素单元呈阵列排布；
设置在所述像素单元上且呈面状的公共电极，所述公共电极对应所述像素单元的区域内包括多个条形狭缝，其中与同一行像素单元对应的多个条形狭缝的长轴互相平行，与任意相邻两行像素单元对应的条形狭缝的长轴延长线相交；
在所述公共电极所在的平面内，每个所述条形狭缝的长轴与垂直于所述栅极线的方向的夹角设置为第一角度，其中，所述第一角度大于等于6°且小于等于8°；
未完全摩擦配向区域有效面积占比随所述第一角度的增大而减小；
彩膜基板靠近所述阵列基板的一侧设置有第二配向膜层以及支撑体，在所述支撑体周边的所述第二配向膜层沿配向摩擦方向具有未完全摩擦配向的第一区域；
所述第一区域在所述阵列基板上的正投影占包括条形狭缝的公共电极对应像素单元的区域的面积与所述第一区域的面积之比，为所述未完全摩擦配向区域有效面积占比。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一角度为大于等于7°且小于等于8°。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一角度为8°。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的阵列基板，其特征在于，任意相邻两行像素单元对应的条形狭缝沿所述栅极线对称设置。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的阵列基板，其特征在于，在每个与所述像素单元对应的公共电极的区域中，所述条形狭缝数量为2个至4个。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述条形狭缝的形状为平行四边形。
7.根据权利要求1至3中任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述条形狭缝还包括位于其至少一端的拐角。
8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括多个像素电极，其中，所述像素电极位于所述公共电极与所述基板之间且与所述公共电极电绝缘。
9.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括设置在所述公共电极背离所述基板的表面的第一配向膜层，其中，对所述第一配向膜层进行配向摩擦的配向摩擦方向与在所述公共电极所在的平面内垂直于所述栅极线的方向平行。
10.一种阵列基板，其特征在于，包括：
基板；
设置在所述基板上的多条栅极线和多条数据线，其中，所述多条栅极线和所述多条数据线交叉形成多个像素单元，所述多个像素单元呈阵列排布；
每个所述像素单元包括条状的像素电极，所述像素电极包括多个条形狭缝，其中位于同一行所述像素单元中的像素电极中的多个条形狭缝的长轴互相平行，位于任意相邻两行所述像素单元中的像素电极中的条形狭缝的长轴延长线相交；
在所述像素电极所在的平面内，每个所述像素电极中的条形狭缝的长轴与垂直于所述栅极线的方向的夹角设置为第一角度，其中，所述第一角度大于等于6°且小于等于8°；
未完全摩擦配向区域有效面积占比随所述第一角度的增大而减小；
彩膜基板靠近所述阵列基板的一侧设置有第二配向膜层以及支撑体，在所述支撑体周边的所述第二配向膜层沿配向摩擦方向具有未完全摩擦配向的第一区域；
所述第一区域在所述阵列基板上的正投影占包括条形狭缝的像素电极对应像素单元的区域的面积与所述第一区域的面积之比，为所述未完全摩擦配向区域有效面积占比。
11.根据权利要求10所述的阵列基板，其特征在于，所述第一角度为大于等于7°且小于等于8°。
12.根据权利要求10所述的阵列基板，其特征在于，所述第一角度为8°。
13.根据权利要求10至12中任一项所述的阵列基板，其特征在于，位于任意相邻两行所述像素单元中的像素电极中的条形狭缝沿所述栅极线对称设置。
14.根据权利要求10至12中任一项所述的阵列基板，其特征在于，每个所述像素电极中的条形狭缝数量为2个至4个。
15.根据权利要求10至12中任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述条形狭缝的形状为平行四边形。
16.根据权利要求10至12中任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述条形狭缝还包括位于其至少一端的拐角。
17.根据权利要求10所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括面状的公共电极，其中，所述公共电极位于所述像素电极与所述基板之间且与所述像素电极电绝缘。
18.根据权利要求10所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括设置在所述像素电极背离所述基板的表面的第一配向膜层，其中，对所述第一配向膜层进行配向摩擦的配向摩擦方向与在所述像素电极所在的平面内垂直于所述栅极线的方向平行。
19.一种显示面板，包括彩膜基板和与所述彩膜基板相对设置的如权利要求1至9中任一项或者如权利要求10至18中任一项所述的阵列基板，其中，所述彩膜基板靠近所述阵列基板的一侧设置有第二配向膜层以及支撑体，在所述支撑体周边的所述第二配向膜层沿配向摩擦方向具有未完全摩擦配向的第一区域。
20.根据权利要求19所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括第一配向膜层，对第一配向膜层进行配向摩擦的配向摩擦方向与对所述第二配向膜层进行配向摩擦的配向摩擦方向相同。
21.根据权利要求19所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述彩膜基板和所述阵列基板之间的液晶层，所述液晶层由多个液晶分子形成，其中，所述液晶分子为正性液晶分子。
22.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求19至21中任一项所述的显示面板。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5246782B2 (ja) 2008-03-06 2013-07-24 株式会社ジャパンディスプレイウェスト 液晶装置および電子機器
CN104407476B (zh) * 2014-12-23 2017-11-14 厦门天马微电子有限公司 一种阵列基板、显示面板和显示装置
CN106383423B (zh) * 2015-07-29 2019-11-22 群创光电股份有限公司 具有共用电极层间隙图案设计的显示装置
CN107045233A (zh) * 2016-02-05 2017-08-15 瀚宇彩晶股份有限公司 液晶显示装置与其像素结构
JP6892575B2 (ja) * 2016-03-01 2021-06-23 天馬微電子有限公司 液晶表示装置
CN106200157B (zh) * 2016-09-28 2019-09-24 上海中航光电子有限公司 显示面板及包含其的显示装置
CN108761930B (zh) * 2018-05-18 2021-11-09 上海天马微电子有限公司 液晶显示面板与液晶显示装置
CN108732805B (zh) * 2018-05-28 2021-09-14 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板、显示面板及显示装置
CN111025773A (zh) * 2019-12-11 2020-04-17 成都中电熊猫显示科技有限公司 液晶显示面板及显示装置
CN112147819A (zh) * 2020-09-22 2020-12-29 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种液晶显示面板
CN116339020B (zh) * 2023-05-30 2023-10-17 武汉华星光电技术有限公司 显示面板及显示装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6839117B1 (en) * 2003-12-11 2005-01-04 Hannstar Display Corp. Compensating electrode structure of a display device
CN101162339A (zh) * 2007-11-21 2008-04-16 友达光电股份有限公司 液晶显示面板及液晶显示器
CN101750804A (zh) * 2008-12-19 2010-06-23 索尼株式会社 液晶面板及电子设备

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100760940B1 (ko) * 2003-12-29 2007-09-21 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치 및 그의 제조방법
JP5054656B2 (ja) * 2008-10-28 2012-10-24 カシオ計算機株式会社 液晶表示素子
KR101278558B1 (ko) * 2008-12-17 2013-06-25 엘지디스플레이 주식회사 횡전계형 액정표시장치용 어레이 기판
KR101250318B1 (ko) * 2009-05-22 2013-04-03 엘지디스플레이 주식회사 프린지 필드 스위칭 모드 액정표시장치용 어레이 기판
KR20120021373A (ko) * 2010-07-29 2012-03-09 전북대학교산학협력단 프린지 필드 스위칭 방식의 액정표시소자
KR101325068B1 (ko) 2012-03-29 2013-11-05 엘지디스플레이 주식회사 프린지 필드 스위칭 모드 액정표시장치용 어레이 기판
JP2014066761A (ja) * 2012-09-24 2014-04-17 Dainippon Printing Co Ltd 横電界方式液晶表示素子および横電界方式液晶表示素子用カラーフィルタ
JP6071605B2 (ja) * 2013-02-07 2017-02-01 三菱電機株式会社 マルチプルビュー液晶表示装置
JP2015072434A (ja) * 2013-10-04 2015-04-16 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
TWM479436U (zh) * 2013-12-30 2014-06-01 Chunghwa Picture Tubes Ltd 液晶顯示面板
CN103955067B (zh) * 2014-04-15 2016-11-02 京东方科技集团股份有限公司 一种三维显示系统
CN104407476B (zh) * 2014-12-23 2017-11-14 厦门天马微电子有限公司 一种阵列基板、显示面板和显示装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6839117B1 (en) * 2003-12-11 2005-01-04 Hannstar Display Corp. Compensating electrode structure of a display device
CN101162339A (zh) * 2007-11-21 2008-04-16 友达光电股份有限公司 液晶显示面板及液晶显示器
CN101750804A (zh) * 2008-12-19 2010-06-23 索尼株式会社 液晶面板及电子设备

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