CN104378921B - 一种镀金电路板的制作方法 - Google Patents

一种镀金电路板的制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104378921B
CN104378921B CN201410646789.8A CN201410646789A CN104378921B CN 104378921 B CN104378921 B CN 104378921B CN 201410646789 A CN201410646789 A CN 201410646789A CN 104378921 B CN104378921 B CN 104378921B
Authority
CN
China
Prior art keywords
heavy copper
copper
plating
plated
time
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201410646789.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104378921A (zh
Inventor
曾巨湘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Xiangyu Circuit Co., Ltd.
Original Assignee
SHENZHEN XIANGYU CIRCUIT CO Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SHENZHEN XIANGYU CIRCUIT CO Ltd filed Critical SHENZHEN XIANGYU CIRCUIT CO Ltd
Priority to CN201410646789.8A priority Critical patent/CN104378921B/zh
Publication of CN104378921A publication Critical patent/CN104378921A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104378921B publication Critical patent/CN104378921B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

本发明公开了一种镀金电路板的制作方法,包括开料、内层图形制作、压合、钻孔、铣槽、第一次沉铜电镀、一次铣、第二次沉铜电镀、二次铣、内层图形蚀刻、外层图形制作、图形电镀铜镍金、外层图形蚀刻、防焊、表面处理工序,其中,第一次沉铜电镀与第二次沉铜电镀工序中的铜厚度相同。将现有技术中的沉铜电镀及一次铣工序分为第一次沉铜电镀、一次铣、第二次沉铜电镀、二次铣工序,有效减少了该工序过程中的毛刺,不会产生中间过程的废料,极大的节约了能源。

Description

一种镀金电路板的制作方法
技术领域
本发明属于电路板的生产领域,具体涉及一种镀金电路板的制作方法。
背景技术
传统的镀金电路板制作流程如下:
一、开料:根据工程资料MI的要求,在符合要求的大张板材上,裁切成小块生产板件,符合客户要求的小块板料,流程:大板料→按MI要求切板→锔板→啤圆角\磨边→出板。
二、钻孔:根据工程资料(客户资料),在所开符合要求尺寸的板料上,相应的位置钻出所求的孔径,流程:叠板销钉→上板→钻孔→下板→检查\修理。
三、沉铜:沉铜是利用化学方法在绝缘孔壁上沉积上一层薄铜,流程:粗磨→挂板→沉铜自动线→下板→浸1%稀H2SO4→加厚铜。
四、图形转移:图形转移是生产菲林上的图像转移到板上,
流程:(蓝油流程):磨板→印第一面→烘干→印第二面→烘干→爆光→冲影→检查;
(干膜流程):麻板→压膜→静置→对位→曝光→静置→冲影→检查。
五、图形电镀:图形电镀是在线路图形裸露的铜皮上或孔壁上电镀一层达到要求厚度的铜层与要求厚度的金镍或锡层,流程:上板→除油→水洗二次→微蚀→水洗→酸洗→镀铜→水洗→浸酸→镀锡→水洗→下板。
六、退膜:用NaOH溶液退去抗电镀覆盖膜层使非线路铜层裸露出来,流程:水膜:插架→浸碱→冲洗→擦洗→过机;干膜:放板→过机。
七、蚀刻:蚀刻是利用化学反应法将非线路部位的铜层腐蚀去。
八、绿油:绿油是将绿油菲林的图形转移到板上,起到保护线路和阻止焊接零件时线路上锡的作用,流程:磨板→印感光绿油→锔板→曝光→冲影;磨板→印第一面→烘板→印第二面→烘板。
九、字符:字符是提供的一种便于辩认的标记,流程:绿油终锔后→冷却静置→调网→印字符→后锔。
十、镀金手指:在插头手指上镀上一层要求厚度的镍\金层,使之更具有硬度的耐磨性,流程:上板→除油→水洗两次→微蚀→水洗两次→酸洗→镀铜→水洗→镀镍→水洗→镀金。
十一、成型:通过模具冲压或数控锣机锣出客户所需要的形状成型的方法有机锣,啤板,手锣,手切,说明:数据锣机板与啤板的精确度较高,手锣其次,手切板最低具只能做一些简单的外形。
十二、测试:通过电子100%测试,检测目视不易发现到的开路,短路等影响功能性之缺陷,流程:上模→放板→测试→合格→FQC目检→不合格→修理→返测试→OK→REJ→报废。
十三、终检:通过100%目检板件外观缺陷,并对轻微缺陷进行修理,避免有问题及缺陷板件流出,具体工作流程:来料→查看资料→目检→合格→FQA抽查→合格→包装→不合格→处理→合格。
传统流程均通过一次铣的方法将PTH孔或槽铣破,再通过外层蚀刻将多余的披锋毛刺蚀刻掉,以达到避免毛刺的目的,但是,在镀金线路板的“金属包边”或“铣破PTH孔”的制作中,常会发现蚀刻过程无法将所有的披锋毛刺蚀刻掉的问题。
申请号为201310577461.0,申请日为2013-11-18的发明专利公开了一种镀金线路板制作方法,属于印制线路板技术领域。该制作方法包括开料、内层图形制作、压合、钻孔、铣槽、沉铜电镀、镀保护层、一次铣、蚀刻、退保护层、外层图形制作、图形电镀铜镍金、外层图形蚀刻、防焊、表面处理工序。采用该制作方法能够解决镀金板毛刺的问题,不需要人工修整,且流程简单,易于控制,既大大地节约了人工成本,又提高了生产效率。
上述专利虽然解决了现有技术中镀金板毛刺的问题,但是,上述专利采用了先设置一层镀锡保护膜,然后再去除镀锡膜,经过这两个处理后的锡必须经过处理才能够再次利用,这样,就大大的浪费了资源,不能够有效做到节能环保。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种镀金电路板的制作方法,解决了现有技术中解决镀金板毛刺过程中造成能源浪费的问题。
本发明为解决上述技术问题采用以下技术方案:
一种镀金电路板的制作方法,依次包括开料、内层图形制作、压合、钻孔、铣槽、第一次沉铜电镀、一次铣、第二次沉铜电镀、二次铣、内层图形蚀刻、外层图形制作、图形电镀铜镍金、外层图形蚀刻、防焊、表面处理工序,其中,第一次沉铜电镀与第二次沉铜电镀工序中的铜厚度相同。
所述内层图形制作和外层图形制作均采用干膜曝光显影的方式。
所述显影时的显像点占显影总长度的50%~70%,显影时的温度为28~32℃。
所述内层图形蚀刻和外层图形蚀刻均采用酸性蚀刻液。
所述酸性蚀刻液为氯化铜溶液。
所述第一次沉铜电镀和第二次沉铜电镀工序中的铜厚度为4~6um,沉铜电镀的控制电流密度均为5~10ASF,沉铜电镀的时间均为10~30分钟。
所述第一次沉铜电镀和第二次沉铜电镀工序中的铜厚度为3um,沉铜电镀的控制电流密度均为6ASF,沉铜电镀的时间均为20分钟。
所述图形电镀铜镍金工序中镀金的厚度为0.01~0.04um,镀金的控制电流密度为2~3ASF,镀金时间为50~100秒。
与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:
1、将现有技术中的沉铜电镀及一次铣工序分为第一次沉铜电镀、一次铣、第二次沉铜电镀、二次铣工序,有效减少了该工序过程中的毛刺,不会产生中间过程的废料,极大的节约了能源。
2、在酸性蚀刻溶液中,将Cu+氧化成Cu++,使蚀刻液能更快的将金属铜蚀刻掉,提高了蚀刻效率。
具体实施方式
下面对本发明的结构及工作过程作进一步说明。
一种镀金电路板的制作方法,依次包括开料、内层图形制作、压合、钻孔、铣槽、第一次沉铜电镀、一次铣、第二次沉铜电镀、二次铣、内层图形蚀刻、外层图形制作、图形电镀铜镍金、外层图形蚀刻、防焊、表面处理工序,其中,第一次沉铜电镀与第二次沉铜电镀工序中的铜厚度相同。
所述内层图形制作和外层图形制作均采用干膜曝光显影的方式。
所述显影时的显像点占显影总长度的50%~70%,显影时的温度为28~32℃。
所述内层图形蚀刻和外层图形蚀刻均采用酸性蚀刻液。
所述酸性蚀刻液为氯化铜溶液。
所述第一次沉铜电镀和第二次沉铜电镀工序中的铜厚度为4~6um,沉铜电镀的控制电流密度均为5~10ASF,沉铜电镀的时间均为10~30分钟。
所述第一次沉铜电镀和第二次沉铜电镀工序中的铜厚度为3um,沉铜电镀的控制电流密度均为6ASF,沉铜电镀的时间均为20分钟。
所述图形电镀铜镍金工序中镀金的厚度为0.01~0.04um,镀金的控制电流密度为2~3ASF,镀金时间为50~100秒。
具体实施例一,
一种镀金电路板的制作方法,依次包括开料、内层图形制作、压合、钻孔、铣槽、第一次沉铜电镀、一次铣、第二次沉铜电镀、二次铣、内层图形蚀刻、外层图形制作、图形电镀铜镍金、外层图形蚀刻、防焊、表面处理工序,其中,第一次沉铜电镀与第二次沉铜电镀工序中的铜厚度相同。所述内层图形制作和外层图形制作均采用干膜曝光显影的方式。
所述显影时的显像点占显影总长度的50%,显影时的温度为32℃。
所述内层图形蚀刻和外层图形蚀刻均采用酸性蚀刻液。
所述酸性蚀刻液为氯化铜溶液。
所述第一次沉铜电镀和第二次沉铜电镀工序中的铜厚度为4um,沉铜电镀的控制电流密度均为10ASF,沉铜电镀的时间均为10分钟。
所述图形电镀铜镍金工序中镀金的厚度为0.01um,镀金的控制电流密度为3ASF,镀金时间为100秒。
具体实施例二,
一种镀金电路板的制作方法,依次包括开料、内层图形制作、压合、钻孔、铣槽、第一次沉铜电镀、一次铣、第二次沉铜电镀、二次铣、内层图形蚀刻、外层图形制作、图形电镀铜镍金、外层图形蚀刻、防焊、表面处理工序,其中,第一次沉铜电镀与第二次沉铜电镀工序中的铜厚度相同。所述内层图形制作和外层图形制作均采用干膜曝光显影的方式。
所述内层图形制作和外层图形制作均采用干膜曝光显影的方式。
所述显影时的显像点占显影总长度的70%,显影时的温度为28℃。
所述内层图形蚀刻和外层图形蚀刻均采用酸性蚀刻液。
所述酸性蚀刻液为氯化铜溶液。
所述第一次沉铜电镀和第二次沉铜电镀工序中的铜厚度为6um,沉铜电镀的控制电流密度均为5~10ASF,沉铜电镀的时间均为10分钟。
所述第一次沉铜电镀和第二次沉铜电镀工序中的铜厚度为3um,沉铜电镀的控制电流密度均为6ASF,沉铜电镀的时间均为20分钟。
所述图形电镀铜镍金工序中镀金的厚度为0.04um,镀金的控制电流密度为2ASF,镀金时间为50秒。
具体实施例三,
一种镀金电路板的制作方法,依次包括开料、内层图形制作、压合、钻孔、铣槽、第一次沉铜电镀、一次铣、第二次沉铜电镀、二次铣、内层图形蚀刻、外层图形制作、图形电镀铜镍金、外层图形蚀刻、防焊、表面处理工序,其中,第一次沉铜电镀与第二次沉铜电镀工序中的铜厚度相同。所述内层图形制作和外层图形制作均采用干膜曝光显影的方式。
所述内层图形制作和外层图形制作均采用干膜曝光显影的方式。
所述显影时的显像点占显影总长度的60%,显影时的温度为30℃。
所述内层图形蚀刻和外层图形蚀刻均采用酸性蚀刻液。
所述酸性蚀刻液为氯化铜溶液。
所述第一次沉铜电镀和第二次沉铜电镀工序中的铜厚度为5um,沉铜电镀的控制电流密度均为7.5ASF,沉铜电镀的时间均为20分钟。
所述图形电镀铜镍金工序中镀金的厚度为0.03um,镀金的控制电流密度为1.5ASF,镀金时间为70秒。

Claims (6)

1.一种镀金电路板的制作方法,其特征在于:依次包括开料、内层图形制作、压合、钻孔、铣槽、第一次沉铜电镀、一次铣、第二次沉铜电镀、二次铣、内层图形蚀刻、外层图形制作、图形电镀铜镍金、外层图形蚀刻、防焊、表面处理工序,其中,第一次沉铜电镀与第二次沉铜电镀工序中的铜厚度相同;
所述内层图形制作和外层图形制作均采用干膜曝光显影的方式,显影时的显像点占显影总长度的50%~70%,显影时的温度为28~32℃。
2.根据权利要求1所述的镀金电路板的制作方法,其特征在于:所述内层图形蚀刻和外层图形蚀刻均采用酸性蚀刻液。
3.根据权利要求2所述的镀金电路板的制作方法,其特征在于:所述酸性蚀刻液为氯化铜溶液。
4.根据权利要求1所述的镀金电路板的制作方法,其特征在于:所述第一次沉铜电镀和第二沉次铜电镀工序中的铜厚度为4~6um,沉铜电镀的控制电流密度均为5~10ASF,沉铜电镀的时间均为10~30分钟。
5.根据权利要求1所述的镀金电路板的制作方法,其特征在于:所述第一次沉铜电镀和第二次沉铜电镀工序中的铜厚度为3um,沉铜电镀的控制电流密度均为6ASF,沉铜电镀的时间均为20分钟。
6.根据权利要求1所述的镀金电路板的制作方法,其特征在于:所述图形电镀铜镍金工序中镀金的厚度为0.01~0.04um,镀金的控制电流密度为2~3ASF,镀金时间为50~100秒。
CN201410646789.8A 2014-11-14 2014-11-14 一种镀金电路板的制作方法 Active CN104378921B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410646789.8A CN104378921B (zh) 2014-11-14 2014-11-14 一种镀金电路板的制作方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410646789.8A CN104378921B (zh) 2014-11-14 2014-11-14 一种镀金电路板的制作方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104378921A CN104378921A (zh) 2015-02-25
CN104378921B true CN104378921B (zh) 2018-01-02

Family

ID=52557478

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410646789.8A Active CN104378921B (zh) 2014-11-14 2014-11-14 一种镀金电路板的制作方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104378921B (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104883827A (zh) * 2015-06-05 2015-09-02 成都航天通信设备有限责任公司 一种线路板导电孔进行树脂塞孔的制造工艺
CN106132082A (zh) * 2016-07-26 2016-11-16 胜宏科技(惠州)股份有限公司 一种侧面贴片的led线路板及其制作方法
CN110881246B (zh) * 2019-12-04 2021-06-04 深圳市景旺电子股份有限公司 一种改善金手指pcb锣板白边的制作方法
CN111343790B (zh) * 2020-03-09 2023-01-10 四川锐宏电子科技有限公司 一种pcb板软硬结合工艺

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102970834A (zh) * 2011-09-02 2013-03-13 悦虎电路(苏州)有限公司 一种线路板金属化半孔的制作方法
CN103124476A (zh) * 2011-11-18 2013-05-29 北大方正集团有限公司 印制电路板及其加工方法
CN103687312A (zh) * 2013-11-18 2014-03-26 广州兴森快捷电路科技有限公司 镀金线路板制作方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4401096B2 (ja) * 2003-03-26 2010-01-20 Dowaホールディングス株式会社 回路基板の製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102970834A (zh) * 2011-09-02 2013-03-13 悦虎电路(苏州)有限公司 一种线路板金属化半孔的制作方法
CN103124476A (zh) * 2011-11-18 2013-05-29 北大方正集团有限公司 印制电路板及其加工方法
CN103687312A (zh) * 2013-11-18 2014-03-26 广州兴森快捷电路科技有限公司 镀金线路板制作方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN104378921A (zh) 2015-02-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104378921B (zh) 一种镀金电路板的制作方法
CN101835351B (zh) 分段式金手指制作方法
CN103249253B (zh) 高精密铝基材电路板制造工艺及其系统
CN101702869B (zh) 由无覆铜的绝缘基板直接制作线路板的方法
CN104994688B (zh) 一种集多种表面处理的pcb的制作方法
CN103687312B (zh) 镀金线路板制作方法
CN104105361B (zh) 一种电路板选择性电镀导电孔的方法
CN103140059B (zh) 具有盲孔的多层电路板的加工方法
CN101959373A (zh) 一种提高印制电路板盲孔对准度的方法
CN108521724B (zh) 一种高挠曲高密度柔性印刷线路板的制作方法
CN104284520B (zh) 一种pcb表面处理方法
WO2021164203A1 (zh) 一种高精度通信光模块印制电路板制备方法
CN103945648B (zh) 一种高频电路板生产工艺
CN104363704A (zh) 一种厚孔铜pcb的制作方法
CN104241025B (zh) 一种继电器外壳的多层镀镍方法
CN102364999A (zh) 一种表面无孔形的机械导通孔的电路板制作方法
CN103096645A (zh) 多层电路板压合定位方法
CN106793578A (zh) 一种电厚金孔的pcb制作方法
CN107995802A (zh) 一种印刷电路板的化学沉镍金的制备方法
CN105764270A (zh) 一种具有整板电金及金手指表面处理的pcb的制作方法
CN105228357B (zh) 一种阶梯线路板的制作方法
CN101394711B (zh) 加厚层积基板的制造方法
CN105208777B (zh) 一种带金属化背钻孔的线路板制作方法
CN105120600B (zh) 一种镍表面处理方法
CN106686901B (zh) 一种线路板的抗氧化制作方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
CB03 Change of inventor or designer information

Inventor after: Zeng Juxiang

Inventor before: Shen Zhiguang

CB03 Change of inventor or designer information
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20171205

Address after: 518000, Sha Yi Wan Industrial Park, Shenzhen, Baoan District, Shenzhen, Guangdong Province, 8

Applicant after: Shenzhen Xiangyu Circuit Co., Ltd.

Address before: 214028 Jiangsu Province, Wuxi New District No. 7 Changjiang Road, Science Park, No. two, No. 501

Applicant before: Wuxi Cocis Electronics Science and Technology Co., Ltd.

TA01 Transfer of patent application right
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant