CN104232812A - 皮衣原纹无痕补伤修复的方法 - Google Patents
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Abstract
一种皮衣原纹无痕补伤修复的方法，把皮衣伤口粘好修平，用补伤膏加色膏调涂抹伤口补平，选取皮衣一处皮纹与伤口处皮纹最为相似的位置表面，在该位置表面均匀涂上硅胶，晾干后，取下凝固的硅胶片备用，所选取的与伤口皮纹最为相似位置表面的皮纹图案已复制在硅胶片上，形成凝固的硅胶皮纹印模。把快干补伤膏和慢干补伤膏按1:1混和,再加入色膏调至与皮衣颜色相似时涂抹在修平后的伤口处,再用硅胶皮纹印模盖严,压上物体使之受力;晾干后取下硅胶皮纹印模,此时硅胶上的皮纹已复印在伤口上，再修补上色完成。工艺简单，易于操作，所用的修补原料容易取得，皮衣伤口修补后外观原纹无痕，显著的提高了修补质量。
Description
技术领域
本发明涉及皮衣补伤修复的技术领域。
背景技术
现有的皮衣伤口修复技术，普遍采用在伤口下面垫衬布，用胶水将伤口粘合，再用补伤膏加入色膏调至与皮衣颜色相似后，涂抹将伤口补平后晾干。这种皮衣修补方法，在修补后是看不见伤口，但没有皮纹又形成新的疤痕。如何实现皮衣原纹无痕补伤修复是现有皮衣伤口修复技术领域需要解决的技术问题。
发明内容
本发明提供一种皮衣原纹无痕补伤修复的方法，把皮衣伤口粘好修平，用补伤膏加色膏调至与皮衣顔色相似，涂抹伤口补平，其特征在于：在皮衣上选取一处皮纹与伤口处皮纹最为相似的位置表面，在该位置表面均匀涂上硅胶；待2小时后，取下凝固的硅胶片备用，此时所选取的与伤口处皮纹最为相似位置表面的皮纹图案已复制在硅胶片上，形成凝固的硅胶皮纹印模；把快干补伤膏和慢干补伤膏按1:1混和,再加入色膏调至与皮衣颜色相似时涂抹在修平后的伤口处,再用硅胶皮纹印模盖严,压上物体使之受力;.待12小时后,取下硅胶皮纹印模,此时硅胶上的皮纹已复印在修补的伤口表面，再修补上色完成。
本发明的皮衣补伤修复方法，工艺简单，易于操作，所用的修补原料容易取得，皮衣伤口修补后外观原纹无痕，显著的提高了修补质量。
具体实施方式
准备工作：备好需要修补的皮衣伤口，备好或市场购买修补用胶水、色膏、无色硅胶、阳离子快干补伤膏、阳离子慢干补伤膏,熨斗、砂纸修磨工具。
修补工作：首先用普通修补方法把皮衣伤口用胶水粘好，找平，再用阳离子慢干补伤膏加色膏慢慢混合调至与皮衣颜色相似后，涂抹皮衣伤口至补平。然后：
a．选取皮衣上一处皮纹与伤口处皮纹最为相似的位置表面，在该位置表面均匀涂上硅胶，略大于伤口面积即可；
b．大约2小时后，取下已凝固的硅胶片备用，所选取的与伤口皮纹最为相似位置表面的皮纹图案已复制在凝固的硅胶片上，形成凝固的硅胶皮纹印模；
c．把阳离子快干补伤膏和阳离子慢干补伤膏按1:1混合后,再加入色膏，稍烯一些，调至与皮衣颜色相似后，涂抹在修平后的伤口处,再用硅胶皮纹印模盖严,压上物体使之受力;
d．待12小时后,取下硅胶皮纹印模, 此时硅胶皮纹印模上的皮纹已复印在伤口修复面上，再修补上色,获得与原纹相近无痕的修复表面。
Claims (1)
1.一种皮衣原纹无痕补伤修复的方法，把皮衣伤口粘好修平，用补伤膏加色膏调至与皮衣颜色相似，涂抹粘好的伤口补平，其特征在于：
a．选取皮衣上一处皮纹与伤口处皮纹最为相似的位置表面，在该位置表面均匀涂上硅胶；
b．待2小时后，取下凝固的硅胶片备用，所选取的与伤口皮纹最为相似位置表面的皮纹图案已复制在硅胶片上，形成凝固的硅胶皮纹印模；
c．把快干补伤膏和慢干补伤膏按1:1混合,再加入色膏调至与皮衣颜色相似时涂抹在修平后的伤口处,再用硅胶皮纹印模盖严,压上物体使之受力;
d.待12小时后,取下硅胶皮纹印模,皮衣伤口原纹无痕修补上色完成。
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Publications (1)
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| CN (1) | CN104232812A (zh) |
Cited By (3)
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|---|---|---|---|---|
| CN111893220A (zh) * | 2020-07-31 | 2020-11-06 | 杭州鼎洪科技有限公司 | 一种皮革修复工艺 |
| CN113815245A (zh) * | 2021-11-10 | 2021-12-21 | 徐州小野影视科技有限公司 | 一种硅胶产品合模线精致修补方法 |
| CN114018737A (zh) * | 2021-11-17 | 2022-02-08 | 江苏工程职业技术学院 | 一种基于机械制造的工件硬度检测装置及其使用方法 |
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2013
- 2013-06-08 CN CN201310226418.XA patent/CN104232812A/zh active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20141224 |