CN104156110B - 具有触摸功能的显示器件及其制作方法、显示装置 - Google Patents
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- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 374
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims abstract description 112
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims abstract description 68
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 claims abstract description 56
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 35
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 143
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 59
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 22
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims 2
- VPBPKFIZNWQANG-UHFFFAOYSA-N [F].[Sn] Chemical class [F].[Sn] VPBPKFIZNWQANG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 5
- 230000004044 response Effects 0.000 abstract description 5
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 abstract description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 8
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 6
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 241000288147 Meleagris gallopavo Species 0.000 description 4
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 229910002899 Bi2Te3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910004262 HgTe Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910017629 Sb2Te3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- -1 BixSb1-x Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical compound O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 1
- 239000002120 nanofilm Substances 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000012163 sequencing technique Methods 0.000 description 1
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
- G06F3/0445—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using two or more layers of sensing electrodes, e.g. using two layers of electrodes separated by a dielectric layer
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/13338—Input devices, e.g. touch panels
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1341—Filling or closing of cells
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
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- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
- G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
- G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
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- G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
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Abstract
本发明提供了一种具有触摸功能的显示器件及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，解决了现有的显示器件上第一电极和第二电极的电阻值偏大，触控响应速率慢且容易发热，功耗较大的问题。一种具有触摸功能的显示器件，包括对盒的阵列基板和彩膜基板，以及位于在阵列基板和彩膜基板之间的显示功能层，在阵列基板和/或彩膜基板上形成有互不接触的第一电极和第二电极，第一电极和第二电极分别为驱动电极和感应电极；形成第一电极和/或第二电极的材料包括拓扑绝缘体，第一电极和/或第二电极具有二维纳米结构，且由拓扑绝缘体形成的二维纳米结构的第一电极和/或第二电极通过黏着层粘附在阵列基板和/或彩膜基板上。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种具有触摸功能的显示器件及其制作方法、显示装置。
背景技术
触摸屏(touch screen)又称为“触控屏”，是目前最简单、方便、自然的一种人机交互方式。它赋予了多媒体以崭新的面貌，是极富吸引力的全新多媒体交互设备。
以液晶触摸显示屏为例，早期的液晶触摸显示屏包括触摸面板和显示面板，且触摸面板和显示面板是分开的。现有的液晶触摸显示屏一般是将触摸面板和液晶显示面板一体化，包括“In-cell”液晶触摸显示屏和“On-cell”液晶触摸显示屏。
但无论是哪一种液晶触摸显示屏，其触控的原理相同，如图1所示，液晶触摸显示屏包括多条沿第一方向101排布的第一电极11以及多条沿第二方向102排布的第二电极21。如图2所示，第一电极11和第二电极21之间还设置有绝缘层12，用于使得第一电极11和第二电极21绝缘。如图3所示，以电容式触摸面板为例，当手指30触摸屏幕时，触摸位置处的第一电极11和第二电极21的电容会发生变化，从而可以检出触控位置，实现触摸功能。
现有液晶触摸显示屏的第一电极和第二电极一般是通过透明导电氧化物(transparent conductive oxide，TOC)形成，例如用ITO(Indium tin oxide，氧化铟锡)形成第一电极和第二电极。ITO薄膜的电阻值偏大，因此触控响应速率慢且容易发热，功耗较大。
发明内容
本发明的实施例提供一种具有触摸功能的显示器件及其制作方法、显示装置，解决了现有的显示器件上第一电极和第二电极的电阻值偏大，触控响应速率慢且容易发热，功耗较大的问题。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
本发明实施例提供了一种具有触摸功能的显示器件，包括对盒的阵列基板和彩膜基板，以及位于在所述阵列基板和所述彩膜基板之间的显示功能层，在所述阵列基板和/或所述彩膜基板上形成有互不接触的第一电极和第二电极，所述第一电极和所述第二电极分别为驱动电极和感应电极；
形成所述第一电极和/或所述第二电极的材料包括拓扑绝缘体，所述第一电极和/或所述第二电极具有二维纳米结构，且由拓扑绝缘体形成的二维纳米结构的第一电极和/或第二电极通过黏着层粘附在所述阵列基板和/或所述彩膜基板上。
本发明实施例提供了一种具有触摸功能的显示器件的制作方法，包括：
利用拓扑绝缘体形成二维纳米结构的第一电极图案和/或第二电极图案；
形成阵列基板和彩膜基板，包括：将所述第一电极图案和/或所述第二电极图案通过黏着层粘附在阵列基板的第一衬底和/或彩膜基板的第二衬底上，以在所述阵列基板和/或所述彩膜基板上形成互不接触的第一电极和第二电极；其中，所述第一电极和所述第二电极分别为驱动电极和感应电极
在所述阵列基板和所述彩膜基板之间填充显示功能层；
将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒。
本发明实施例提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的任一所述的具有触摸功能的显示器件。
本发明的实施例提供一种具有触摸功能的显示器件及其制作方法、显示装置，所述具有触摸功能的显示器件包括互不接触的第一电极和第二电极，所述第一电极和/或所述第二电极包括二维纳米结构的拓扑绝缘体，相对于现有的由ITO或金属形成的电极，大大减小了电极的电阻，进而可以提高触控响应速率，且二维纳米结构的拓扑绝缘体形成的电极使用时间再长也不会发热，不仅可以减小功耗，还可以避免温度高影响其他器件的性能的问题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有的触摸面板第一电极和第二电极示意图；
图2为现有的触摸面板截面示意图；
图3为电容式触摸面板的触摸原理示意图；
图4为本发明实施例提供的一种具有触摸功能的显示器件示意图；
图5为本发明实施例提供的另一种具有触摸功能的显示器件示意图；
图6为本发明实施例提供的另一种具有触摸功能的显示器件示意图；
图7为本发明实施例提供的另一种具有触摸功能的显示器件示意图；
图8为本发明实施例提供的另一种具有触摸功能的显示器件示意图；
图9为本发明实施例提供的另一种具有触摸功能的显示器件示意图；
图10为本发明实施例提供的一种二维菱形结构示意图；
图11为本发明实施例提供的一种形成具有触摸功能的显示器件的制作方法示意图；
图12为本发明实施例提供的一种形成二维纳米结构的拓扑绝缘体的第一电极图案的制作方法示意图；
图13为本发明实施例提供的另一种形成具有触摸功能的显示器件的制作方法示意图；
图14为本发明实施例提供的另一种形成具有触摸功能的显示器件的制作方法示意图；
图15为本发明实施例提供的另一种形成具有触摸功能的显示器件的制作方法示意图；
图16为本发明实施例提供的另一种形成具有触摸功能的显示器件的制作方法示意图；
图17为本发明实施例提供的另一种形成具有触摸功能的显示器件的制作方法示意图。
附图标记：
10-第一衬底；11-第一电极；12-绝缘层；13-钝化层；20-第二衬底；21-第二电极；22-彩色膜层；30-手指；40-黏着层；100-阵列基板；200-彩膜基板；300-液晶层；400-封装基板。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供了一种具有触摸功能的显示器件，如图4-图9所示，包括对盒的阵列基板100和彩膜基板200，以及位于在所述阵列基板100和彩膜基板200之间的显示功能层(图4-图9中以液晶层300为例)，在阵列基板100和/或彩膜基板200上形成有互不接触的第一电极11和第二电极21，其中，第一电极11和/或第二电极21包括二维纳米结构的拓扑绝缘体，且二维纳米结构的拓扑绝缘体通过黏着层40粘附在阵列基板11和/或彩膜基板21上；第一电极11和第二电极21分别为驱动电极和感应电极。
形成第一电极和/或第二电极的材料包括拓扑绝缘体，即形成第一电极和/或第二电极的材料可以仅包括拓扑绝缘体，还可以是拓扑绝缘体和聚合物等形成的混合材料，本发明实施例均以形成第一电极和/或第二电极的材料为拓扑绝缘体为例进行详细说明。
需要说明的是，本发明实施例均以显示功能层为液晶层为例。在阵列基板和/或彩膜基板上形成有第一电极和第二电极，即可以是在阵列基板上形成有第一电极和第二电极，则第一电极和第二电极通过黏着层粘附在阵列基板上；或者，在彩膜基板上形成有第一电极和第二电极，则第一电极和第二电极通过黏着层粘附在彩膜基板上；或者，在阵列基板和彩膜基板上分别形成有第一电极和第二电极。即可以是在阵列基板上形成有第一电极，则在彩膜基板上形成有第二电极，此时，第一电极通过黏着层粘附在阵列基板上，第二电极通过黏着层粘附在彩膜基板上；或者，在阵列基板上形成有第二电极，则在彩膜基板上形成有第一电极，此时，第二电极通过黏着层粘附在阵列基板上，第一电极通过黏着层粘附在彩膜基板上。且具体的第一电极和第二电极可以是通过胶水等具有黏着特性的物质形成黏着层以粘附在阵列基板和/或彩膜基板上。
第一电极和/或第二电极为二维纳米结构的拓扑绝缘体，即可以是仅第一电极为二维纳米结构的拓扑绝缘体，则第二电极可以为现有的导电材料，例如可以是ITO形成；或者，仅第二电极为二维纳米结构的拓扑绝缘体，则第一电极可以为现有的导电材料形成；或者，第一电极和第二电极均为二维纳米结构的拓扑绝缘体。且本发明实施例及附图以第一电极和第二电极均为二维纳米结构的拓扑绝缘体为例进行详细说明。
拓扑绝缘体(topological insulator)是近年来新认识到的一种物质形态。拓扑绝缘体的体能带结构和普通绝缘体一样，都在费米能级处有一有限大小的能隙，但是在它的边界或表面却是无能隙的、狄拉克(Dirac)型、自旋非简并的导电的边缘态，这是它有别于普通绝缘体的最独特的性质。这样的导电边缘态是稳定存在的，信息的传递可以通过电子的自旋，而不像传统材料通过电荷，因此，拓扑绝缘体的导电性能更好且不涉及耗散即不发热。
二维纳米结构的拓扑绝缘体即由拓扑绝缘体形成的纳米尺寸厚度的膜，可以是由拓扑绝缘体形成的二维纳米薄膜、二维纳米薄片、二维纳米带等。二维纳米结构的拓扑绝缘体具有超高比表面积和能带结构的可调控性，能显著降低体态载流子的比例和凸显拓扑表面态，进而导电性能更好。
需要说明的是，二维纳米结构的拓扑绝缘体因其与石墨烯结构类似具有较高的柔韧性，以及基本肉眼不可见的高透过率，使其更适用于显示器件。
需要说明的是，第一电极和第二电极可以分别为驱动(Touch Driving)电极和感应(Touch Sensing)电极。则当对第一电极添加驱动信号(Tx)，第二电极接收到感应信号(Rx)，电容式触摸屏通过计算手指触摸前后第二电极与第一电极构成电容的变化量来判断是否有手指触摸，以实现触摸功能。
本发明实施例提供的一种具有触摸功能的显示器件，第一电极和/或第二电极为二维纳米结构的拓扑绝缘体，相对于现有的由ITO或金属形成的电极，大大减小了电极的电阻，进而可以提高触控响应速率，且二维纳米结构的拓扑绝缘体形成的电极使用时间再长也不会发热，不仅可以减小功耗，还可以避免温度高影响其他器件的性能的问题。
需要说明的是，阵列基板和彩膜基板上均还形成有其他的薄膜或层结构等，例如阵列基板上一般还形成有薄膜晶体管、像素电极等，彩膜基板一般还形成有彩色膜层、黑矩阵等。本发明实施例仅以与本发明的发明点相关的薄膜或层结构为例进行说明。
优选的，导电薄膜为二维条带状纳米结构或为二维菱形纳米结构，二维菱形纳米结构可以是如图10所示。当然，导电薄膜也可以是二维网状纳米结构，二维网状纳米结构具有多个阵列排布的网孔。且具体的，网孔为菱形、正四边形或正六边形等。
可选的，拓扑绝缘体包括HgTe、BixSb1-x、Sb2Te3、Bi2Te3、Bi2Se3、TlBiTe2、TlBiSe2、Ge1Bi4Te7、Ge2Bi2Te5、Ge1Bi2Te4、AmN、PuTe、单层锡以及单层锡变体材料中的至少一种。
其中，Ge1Bi4Te7、Ge2Bi2Te5以及Ge1Bi2Te4属于硫属化物。AmN以及PuTe属于具有强相互作用的拓扑绝缘体。当然，拓扑绝缘体还可以是三元赫斯勒化合物等其他材料。
具体的，拓扑绝缘体包括HgTe、BixSb1-x、Sb2Te3、Bi2Te3、Bi2Se3、TlBiTe2、TlBiSe2、Ge1Bi4Te7、Ge2Bi2Te5、Ge1Bi2Te4、AmN、PuTe、单层锡以及单层锡变体材料中的至少一种，即拓扑绝缘体可以为HgTe或BixSb1-x或Sb2Te3或Bi2Te3或Bi2Se3或TlBiTe2或TlBiSe2或Ge1Bi4Te7或Ge2Bi2Te5或Ge1Bi2Te4或AmN或PuTe或单层锡或单层锡变体材料。还可以是上述材料中的多种形成的混合材料，例如可以是上述材料中的两种形成的混合材料。当然，也可以是上述材料中的三种形成的混合材料等。且当拓扑绝缘体为至少两种材料形成的混合材料，则还可以通过选择具有互补特性的材料混合，以提高混合后材料的特性。
优选的，拓扑绝缘体为单层锡或单层锡的变体材料。单层锡为只有一个锡原子厚度的二维材料，原子层厚度的级别使其具有较好的光透过率；与石墨烯类似，具有较好的韧性，且透过率高。
单层锡原子在常温下导电率可以达到100％，可能成为一种超级导体材料。具体的，单层锡的变体材料是通过对单层锡进行表面修饰或磁性掺杂形成。其中，对单层锡进行表面修饰可以是对单层锡添加-F,-Cl,-Br,-I和–OH等功能基实现其改性。
进一步优选的，单层锡的变体材料为对单层锡进行氟原子的表面修饰，形成的锡氟化合物。当添加F原子到单层锡原子结构中时，单层锡在温度高达100℃时导电率也能达到100％，且性质依然稳定。
下面将具体说明第一电极位于阵列基板，第二电极位于彩膜基板；或，第一电极和第二电极均位于阵列基板；或，第一电极和第二电极均位于彩膜基板的各种情况。其中，第一电极和第二电极为二维纳米结构的拓扑绝缘体。
可选的，如图4、图5所示，第一电极11和第二电极21为二维纳米结构的拓扑绝缘体，第一电极11位于阵列基板100，第二电极21位于彩膜基板200具体为：
阵列基板100包括第一衬底10，且在第一衬底10靠近彩膜基板200的一侧形成有第一电极11，其中，第一电极11为二维纳米结构的拓扑绝缘体，且第一电极11通过黏着层40粘附在第一衬底10上；且如图4、图5所示，阵列基板100在第一电极11上还形成有钝化层13，钝化层13用于使得液晶层300与第一电极11不接触。当然，阵列基板还包括其他薄膜或层结构等，第一电极和液晶层还可以是通过其他薄膜或层结构不接触，本发明实施例仅以图4、图5所示的为例。
彩膜基板200包括第二衬底20，且在第二衬底20靠近阵列基板100的一侧形成有第二电极21，其中，第二电极21为二维纳米结构的拓扑绝缘体。
需要说明的是，图4、图5中，以彩膜基板200还包括彩色膜层22为例。则当第二电极21形成在彩膜基板200上，可以是如图4所示，第二电极21位于第二衬底20和彩色膜层22之间，第二电极21通过黏着层40粘附在第二衬底20上。还可以是如图5所示，彩色膜层22位于第二衬底20和第二电极21之间，第二电极21通过黏着层40粘附在彩色膜层22上。且当第二电极21位于彩色膜层22的上面，如图5所示，为了防止第二电极21和液晶层300接触，在第二电极21的上面形成钝化层13。当然，彩膜基板还包括其他薄膜或层结构等，第二电极和液晶层还可以是通过其他薄膜或层结构不接触，本发明实施例仅以图5所示的为例。
需要说明的是，本发明实施例中的“上”、“下”以制造膜层时的先后顺序为准，例如，在上的薄膜或图案是指相对在后形成的薄膜或图案，在下的薄膜或图案是指相对在先形成的薄膜或图案。彩色膜层一般包括红、绿、蓝三种不同颜色的膜层，且彩膜基板上还形成有黑矩阵，黑矩阵将彩色膜层不同颜色的膜层分割形成多个不同颜色的像素，以实现彩色显示。本发明实施例及附图以彩膜基板还形成有彩色膜层为例进行详细说明。当然，阵列基板和彩膜基板还可以包括其他薄膜或层结构，则阵列基板和彩膜基板上的第一电极和第二电极的具体位置还可以进一步进行调整。本发明实施例仅以上述为例，对其他薄膜或层结构等不作具体限定。
本发明实施例提供的一种具有触摸功能的显示器件，如图6所示，其中，第一电极11和第二电极21为二维纳米结构的拓扑绝缘体，第一电极11和第二电极21均位于阵列基板100，第一电极11和第二电极21之间通过绝缘层12不接触，第一电极11通过黏着层40粘附在第一衬底10上，第二电极21通过黏着层40粘附在绝缘层12上。且如图6所示，阵列基板上100上还形成有钝化层13，防止第二电极21和液晶层300接触。图6中彩膜基板200在第二衬底20上还形成有彩色膜层22。
需要说明的是，第一电极和第二电极均位于阵列基板，第一电极和第二电极互不接触，可以是第一电极和第二电极同层设置，其中，第一电极在对应第二电极的位置处断开，以与第二电极不接触。还可以是第一电极和第二电极位于不同层，在第一电极和第二电极之间形成绝缘层以使得第一电极和第二电极不接触。如图6所示，本发明实施例中以所述第一电极11和第二电极21之间还包括绝缘层12，绝缘层12使得第一电极11和第二电极21不接触为例进行详细说明。
本发明实施例提供的一种具有触摸功能的显示器件，如图7所示，第一电极11和第二电极21为二维纳米结构的拓扑绝缘体，其中，第一电极11和第二电极21均位于彩膜基板200。如图7所示，以第一电极11和第二电极21位于第二衬底20和彩色膜层22之间，第一电极11和第二电极21之间通过绝缘层12不接触为例，第一电极11通过黏着层40粘附在第二衬底20上，第二电极21通过黏着层40粘附在绝缘层12上。当然，第一电极11和第二电极21在彩膜基板200上的具体位置还可以进行相应的变化和调整，本发明实施例仅以图7所示的为例进行详细说明。
需要说明的是，第一电极和第二电极均位于彩膜基板，第一电极和第二电极互不接触，可以是第一电极和第二电极同层设置，其中，第一电极在对应第二电极的位置处断开，以与第二电极不接触。还可以是第一电极和第二电极位于不同层，在第一电极和第二电极之间形成绝缘层以使得第一电极和第二电极不接触。如图7所示，本发明实施例中以第一电极11和第二电极21之间还包括绝缘层12，所述绝缘层12使得第一电极11和第二电极21不接触为例进行详细说明。
可选的，如图8所示，具有触摸功能的显示器件还包括封装基板400，彩膜基板200位于封装基板400和阵列基板100之间，第一电极11和第二电极21为二维纳米结构的拓扑绝缘体，第一电极11位于阵列基板100，第二电极21位于彩膜基板200具体为：
阵列基板100包括第一衬底10，且在第一衬底10靠近彩膜基板200的一侧形成有第一电极11，其中，第一电极11为二维纳米结构的拓扑绝缘体，且第一电极11通过黏着层40粘附在第一衬底10上。
彩膜基板200包括第二衬底20，且在第二衬底20靠近封装基板400的一侧形成有第二电极21，其中，第二电极21为二维纳米结构的拓扑绝缘体，第二电极21通过黏着层40粘附在第二衬底20靠近封装基板400的一侧。
即第二电极21位于彩膜基板200和封装基板400之间。当然，还可以是在封装基板400上形成第二电极21。本发明实施例仅以在阵列基板和彩膜基板上形成第一电极和第二电极为例进行详细说明。
可选的，如图9所示，具有触摸功能的显示器件还包括封装基板400，彩膜基板200位于封装基板200和阵列基板100之间，第一电极11和第二电极21为二维纳米结构的拓扑绝缘体，第一电极11和第二电极21均位于所述彩膜基板200具体为：
彩膜基板200包括第二衬底20，且在第二衬底20靠近阵列基板100的一侧形成有第一电极11，在第二衬底20靠近封装基板400的一侧形成有第二电极21，第一电极11和第二电极21为二维纳米结构的拓扑绝缘体，第一电极11通过黏着层40粘附在第二衬底靠近阵列基板100的一侧，第二电极21通过黏着层40粘附在第二衬底20靠近封装基板400的一侧。
即如图9所示，第一电极11和第二电极21分别位于第二衬底20的相对的两侧。
需要说明的是，具有触摸功能的显示器件如图4-图9所示，包括阵列基板100、彩膜基板200以及液晶层300(即显示功能层)，阵列基板100和彩膜基板200均还包括有其他薄膜或层结构，则第一电极11和第二电极21具体在阵列基板100和彩膜基板200的位置还可以有相应的变换，本发明实施例仅以图4-图9所示的为例进行说明。
另外，第一电极和/或第二电极位于阵列基板或彩膜基板上时，第一电极和/或第二电极还可以用作公共电极。如图4、图5所示的液晶显示屏，位于彩膜基板上的第二电极还可以用作公共电极。则液晶显示屏的显示时间分为触控时间和显示时间，在触控时间向所述第二电极添加触摸传感信号(当第二电极为第一电极则向第二电极添加驱动信号，当第二电极为第二电极则第二电极接收感应信号)；在显示时间向第二电极添加公共电极信号，则第二电极用作公共电极，以和阵列基板上的像素电极形成垂直电场。
本发明实施例提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的任一所述的具有触摸功能的显示器件。所述显示装置可以为液晶显示器等显示器件以及包括这些显示器件的电视、数码相机、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或者部件。
本发明实施例提供了一种用于形成本发明实施例提供的具有触摸功能的显示器件的制作方法，如图11所示，所述方法包括：
步骤101、利用拓扑绝缘体形成二维纳米结构的第一电极图案和/或第二电极图案。
当显示器件只有第一电极为二维纳米结构的拓扑绝缘体，则只需要利用拓扑绝缘体形成二维纳米结构的第一电极图案；当显示器件只有第二电极为二维纳米结构的拓扑绝缘体，则只需要利用拓扑绝缘体形成二维纳米结构的第二电极图案；当显示器件的第一电极和第二电极均为二维纳米结构的拓扑绝缘体，则利用拓扑绝缘体形成二维纳米结构的第一电极图案和第二电极图案。
具体的，以利用拓扑绝缘体形成二维纳米结构的第一电极图案为例，具体说明上述步骤101的制作方法，如图12所示，包括：
步骤1011、对基底进行图案化刻蚀，形成对应第一电极的图案。
具体的，基底可以是云母，还可以是SrTiO3(111)，以及通过分子束外延法可在其表面生长拓扑绝缘体薄膜的其他基底。本发明实施例中以所述基底为云母为例进行详细说明。
具体对基底进行图案化刻蚀形成对应第一电极的图案，可以是采用与第一电极图案相同的掩膜板，在掩膜板的掩膜下对云母基底进行等离子体刻蚀，得到与第一电极图案相同的图案化的云母基底。
步骤1012、在图案化的基底表面形成二维纳米结构的拓扑绝缘体的薄膜。
具体的，在图案化的云母基底表面，通过分子束外延生长Bi2Se3薄膜。当然，还可以生长其他拓扑绝缘体薄膜，本发明实施例以拓扑绝缘体为Bi2Se3为例进行详细说明。
步骤1013、将基底去除，得到第一电极图案。
将云母基底溶解掉，得到二维纳米结构的拓扑绝缘体的第一电极图案。
上述仅以形成二维纳米结构的拓扑绝缘体的第一电极的图案为例，形成二维纳米结构的拓扑绝缘体的第二电极的图案可参考形成第一电极的图案的具体说明，本发明实施例不作赘述。
步骤102、形成阵列基板和彩膜基板。
具体包括：将第一电极图案和/或第二电极图案通过黏着层粘附在阵列基板的第一衬底和/或彩膜基板的第二衬底上，以在阵列基板和/或彩膜基板上形成互不接触的第一电极和第二电极；其中，所述第一电极和所述第二电极分别为驱动电极和感应电极。
在阵列基板和/或彩膜基板上形成有第一电极和第二电极，即可以是在阵列基板上形成有第一电极和第二电极；或者，在彩膜基板上形成有第一电极和第二电极；或者，在阵列基板和彩膜基板上分别形成有第一电极和第二电极。即可以是在阵列基板上形成有第一电极，则在彩膜基板上形成有第二电极；或者，在阵列基板上形成有第二电极，则在彩膜基板上形成有第一电极。本发明实施例将列举具体的实施例用于说明以上几种不同情况。
将第一电极图案和/或第二电极图案通过黏着层粘附在阵列基板的第一衬底和/或彩膜基板的第二衬底上具体包括：在第一电极图案和/或第二电极图案表面形成黏着层，将第一电极图案和/或第二电极图案贴附在阵列基板的第一衬底和/或彩膜基板的第二衬底对应的第一电极区和/或第二电极区。
以在阵列基板上形成有第一电极为例，即可以是在第一电极图案表面形成黏着层，将第一电极图案形成有黏着层的一侧贴附在阵列基板的第一衬底的第一电极区以形成第一电极。需要说明的是，第一衬底可以是玻璃基板也可以是形成在玻璃基板上的其他薄膜或层结构。
步骤103、在阵列基板和彩膜基板之间填充显示功能层。
具体的，在阵列基板和彩膜基板之间填充显示功能层，可以是在阵列基板或彩膜基板上先形成封框胶，再在封框胶形成的区域滴注液晶，以形成液晶显示功能层。
步骤104、将阵列基板和彩膜基板对盒。
具体的，阵列基板和彩膜基板对盒可以是根据阵列基板和彩膜基板上的膜层结构，其对盒方式有所不同，下面将在具体实施例中具体说明。
下面列举几个具体的实施例以说明本发明实施例提供的制作方法。
实施例一：
如图13所示，本发明实施例提供的一种具有触摸功能的显示器件的制作方法，包括：
步骤201、利用拓扑绝缘体形成二维纳米结构的第一电极图案和第二电极图案。具体可以参照上述步骤101。
步骤202、在第一电极图案的表面形成黏着层，将第一电极图案贴附在第一衬底上的第一电极区。
当然，还可以在第一衬底上形成钝化层等，形成后的基板可以是如图4或图5所示的阵列基板100，即阵列基板100上形成有第一电极11，且第一电极11通过黏着层40粘附在第一衬底10上。
步骤203、在第二电极图案的表面形成黏着层，将第二电极图案贴附在第二衬底上的第二电极区。
当然，还可以在第二衬底上形成彩色膜层以及黑矩阵等，则形成的基板可以是如图4、图5所示的彩膜基板200，即彩膜基板200上形成有第二电极21。
步骤204、在第二衬底上填充显示功能层。
具体可以是在形成有彩色膜层以及第二电极的第二衬底上形成封框胶，再在封框胶区域滴注液晶形成液晶显示功能层。
步骤205、将第一衬底形成有第一电极的一侧和第二衬底形成有第二电极的一侧相对对盒。
对盒后可以是形成如图4、图5所示的显示器件。
实施例二：
如图14所示，本发明实施例提供的一种具有触摸功能的显示器件的制作方法，包括：
步骤301、利用拓扑绝缘体形成二维纳米结构的第一电极图案和第二电极图案。具体可以参照上述步骤101。
步骤302、在第一电极图案和第二电极图案的表面形成黏着层，将第一电极图案和第二电极图案贴附在第一衬底的第一电极区和第二电极区。
当然，还可以在第一衬底上形成钝化层等，形成后的基板可以是如图6所示的阵列基板100，即阵列基板100上形成有第一电极11和第二电极21，且第一电极11通过黏着层40粘附在第一衬底10上，第二电极21通过黏着层40粘附在绝缘层12上。
步骤303、形成彩膜基板。
具体的，可以是在第二衬底上形成彩色膜层等。
步骤304、在彩膜基板上填充显示功能层。
具体可以是在形成有彩色膜层的第二衬底上形成封框胶，再在封框胶区域滴注液晶形成液晶显示功能层。
步骤305、将第一衬底形成有第一电极和第二电极的一侧和彩膜基板对盒。
对盒后可以是形成如图6所示的显示器件。
实施例三：
如图15所示，本发明实施例提供的一种具有触摸功能的显示器件的制作方法，包括：
步骤401、利用拓扑绝缘体形成二维纳米结构的第一电极图案和第二电极图案。具体可以参照上述步骤101。
步骤402、在第一电极图案和第二电极图案的表面形成黏着层，将第一电极图案和第二电极图案贴附在第二衬底的第一电极区和第二电极区。
当然，还可以在第二衬底上形成彩色膜层等，形成后的基板可以是如图7所示的彩膜基板200，即彩膜基板200上形成有第一电极11和第二电极21，且第一电极11通过黏着层40粘附在第二衬底20上，第二电极21通过黏着层40粘附在绝缘层12上。
步骤403、形成阵列基板。
具体的，可以是在第一衬底上形成薄膜晶体管以及像素电极等。
步骤404、在第二衬底上填充显示功能层。
具体可以是在形成有第一电极、第二电极以及彩色膜层的第二衬底上形成封框胶，再在封框胶区域滴注液晶形成液晶显示功能层。
步骤405、将第二衬底形成有第一电极和第二电极的一侧和阵列基板对盒。
对盒后可以是形成如图7所示的显示器件。
实施例四：
如图16所示，本发明实施例提供的一种具有触摸功能的显示器件的制作方法，包括：
步骤501、利用拓扑绝缘体形成二维纳米结构的第一电极图案和第二电极图案。具体可以参照上述步骤101。
步骤502、在第一电极图案的表面形成黏着层，将第一电极图案贴附在第一衬底的第一电极区。
当然，还可以在第一衬底上形成钝化层等，形成后的基板可以是如图8所示的阵列基板100，即阵列基板100上形成有第一电极11，且第一电极11通过黏着层40粘附在第一衬底10上。
步骤503、在第二电极图案的表面形成黏着层，将第二电极图案贴附在第二衬底的第二电极区。
具体的，可以是在第二衬底未形成第二电极的一侧形成彩色膜层等，形成后的基板可以是如图8所示的彩膜基板200，即彩膜基板200上形成有第二电极21和彩色膜层22，且第二电极21和彩色膜层22位于第二衬底20的相对两侧。
步骤504、在第二衬底上填充显示功能层。
具体可以是在形成有彩色膜层的第二衬底上形成封框胶，再在封框胶区域滴注液晶形成液晶显示功能层。
步骤505、将第一衬底形成有第一电极的一侧和第二衬底未形成有第二电极的一侧相对对盒，利用封装基板对彩膜基板形成有第二电极的一侧进行封装。
对盒后可以是形成如图8所示的显示器件。
实施例五：
如图17所示，本发明实施例提供的一种具有触摸功能的显示器件的制作方法，包括：
步骤601、利用拓扑绝缘体形成二维纳米结构的第一电极图案和第二电极图案。具体可以参照上述步骤101。
步骤602、在第一电极图案和第二电极图案的表面形成黏着层，将第一电极图案和第二电极图案贴附在第二衬底相对两侧的第一电极区和第二电极区。
当然，还可以在第一衬底上形成彩色膜层等，形成后的基板可以是如图9所示的彩膜基板200，即彩膜基板200的第二衬底20的一侧形成有第一电极11和彩色膜层22，且第二衬底20的另一侧形成有第二电极21，且第一电极11和第二电极21分别通过黏着层40粘附在第二衬底20上。
步骤603、形成阵列基板。
具体的，可以是在第一衬底上形成薄膜晶体管以及像素电极等。
步骤604、在第二衬底上填充显示功能层。
具体可以是在形成有彩色膜层的第二衬底上形成封框胶，再在封框胶区域滴注液晶形成液晶显示功能层。
步骤605、将第二衬底形成有第一电极的一侧和阵列基板对盒，利用封装基板对彩膜基板形成有第二电极的一侧进行封装。
对盒后可以是形成如图9所示的显示器件。
需要说明的是，以上仅为本发明实施例及附图列举的具体实施例为例进行说明，且其具体的制作方法也可以根据需要进行相应的步骤调整，本发明实施例仅以上述制作方法为例进行详细说明。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (13)
1.一种具有触摸功能的显示器件，包括对盒的阵列基板和彩膜基板，以及位于在所述阵列基板和所述彩膜基板之间的显示功能层，其特征在于，在所述阵列基板和/或所述彩膜基板上形成有互不接触的第一电极和第二电极，所述第一电极和所述第二电极分别为驱动电极和感应电极；
形成所述第一电极和/或所述第二电极的材料包括拓扑绝缘体，所述第一电极和/或所述第二电极为包括单层锡以及单层锡变体材料中的至少一种的二维网状纳米图案化薄膜，所述二维网状纳米结构具有多个阵列排布的网孔；
所述第一电极和/或所述第二电极在图案化的基底表面形成的，且所述第一电极和/或所述第二电极通过黏着层粘附在所述阵列基板和/或所述彩膜基板上。
2.根据权利要求1所述的具有触摸功能的显示器件，其特征在于，形成所述第一电极和所述第二电极的材料包括拓扑绝缘体，所述第一电极和所述第二电极为包括单层锡以及单层锡变体材料中的至少一种的二维网状纳米图案化薄膜，所述二维网状纳米结构具有多个阵列排布的网孔；
所述第一电极和/或所述第二电极在图案化的基底表面形成的；
所述第一电极形成于所述阵列基板，所述第二电极形成于所述彩膜基板；或，
所述第一电极和所述第二电极均形成于所述阵列基板；或，
所述第一电极和所述第二电极均形成于所述彩膜基板。
3.根据权利要求2所述的具有触摸功能的显示器件，其特征在于，所述第一电极形成于所述阵列基板，所述第二电极形成于彩膜基板，具体为：
所述阵列基板包括第一衬底，在所述第一衬底靠近彩膜基板的一侧形成有第一电极；
所述彩膜基板包括第二衬底，在所述第二衬底靠近阵列基板的一侧形成有第二电极。
4.根据权利要求2所述的具有触摸功能的显示器件，其特征在于，所述显示器件还包括封装基板，所述彩膜基板位于所述封装基板和所述阵列基板之间；所述第一电极形成于所述阵列基板，所述第二电极形成于所述彩膜基板具体为：
所述阵列基板包括第一衬底，在所述第一衬底靠近彩膜基板的一侧形成有第一电极；
所述彩膜基板包括第二衬底，在所述第二衬底靠近封装基板的一侧形成有第二电极。
5.根据权利要求2所述的具有触摸功能的显示器件，其特征在于，所述显示器件还包括封装基板，所述彩膜基板位于所述封装基板和所述阵列基板之间；所述第一电极和所述第二电极均形成于所述彩膜基板具体为：
所述彩膜基板包括第二衬底，在所述第二衬底靠近阵列基板的一侧形成有第一电极，在所述第二衬底靠近封装基板的一侧形成有第二电极。
6.根据权利要求1～5任一项所述的具有触摸功能的显示器件，其特征在于，单层锡的变体材料通过对单层锡进行表面修饰或磁性掺杂形成。
7.根据权利要求6所述的具有触摸功能的显示器件，其特征在于，单层锡的变体材料为对单层锡进行氟原子的表面修饰，形成的锡氟化合物。
8.根据权利要求1所述的具有触摸功能的显示器件，其特征在于，所述显示功能层为液晶层。
9.一种具有触摸功能的显示器件的制作方法，其特征在于，包括：
利用拓扑绝缘体形成第一电极图案和/或第二电极图案，包括：在图案化的基底表面形成具有二维网格状纳米结构的单层锡或单层锡变体薄膜，将所述图案化的基底去除得到第一电极图案和/或第二电极图案；
形成阵列基板和彩膜基板，包括：将所述第一电极图案和/或所述第二电极图案通过黏着层粘附在阵列基板的第一衬底和/或彩膜基板的第二衬底上，以在所述阵列基板和/或所述彩膜基板上形成互不接触的第一电极和第二电极；其中，所述第一电极和所述第二电极分别为驱动电极和感应电极；
在所述阵列基板和所述彩膜基板之间填充显示功能层；
将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒。
10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，形成所述第一电极和所述第二电极的材料包括拓扑绝缘体，所述第一电极和所述第二电极为包括单层锡以及单层锡变体材料中的至少一种的二维网状纳米图案化薄膜，所述二维网状纳米结构具有多个阵列排布的网孔；
所述第一电极和/或所述第二电极在图案化的基底表面形成的；所述方法还包括：
利用封装基板对彩膜基板进行封装；其中，
形成阵列基板具体包括：在第一衬底的一侧形成第一电极；
形成彩膜基板具体包括：在第二衬底的一侧形成第二电极；
将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒具体为：
将阵列基板形成有第一电极的一侧与彩膜基板未形成有第二电极的一侧相对对盒；
所述利用封装基板对彩膜基板进行封装具体为：
利用封装基板对彩膜基板形成有第二电极的一侧进行封装。
11.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，形成所述第一电极和所述第二电极的材料包括拓扑绝缘体，所述第一电极和所述第二电极为包括单层锡以及单层锡变体材料中的至少一种的二维网状纳米图案化薄膜，所述二维网状纳米结构具有多个阵列排布的网孔；
所述第一电极和/或所述第二电极在图案化的基底表面形成的；所述方法还包括：
利用封装基板对彩膜基板进行封装；其中，
形成彩膜基板具体包括：在第二衬底的一侧形成第一电极，在第二衬底的另一侧形成第二电极；
所述将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒具体为：
将阵列基板与彩膜基板形成有第一电极的一侧相对对盒；
所述利用封装基板对彩膜基板进行封装具体为：
利用封装基板对彩膜基板形成有第二电极的一侧进行封装。
12.根据权利要求9-11任一项所述的制作方法，其特征在于，将所述第一电极图案和/或第二电极图案通过黏着层粘附在阵列基板的第一衬底和/或彩膜基板的第二衬底上具体包括：
在所述第一电极图案和/或所述第二电极图案表面形成黏着层，将所述第一电极图案和/或所述第二电极图案贴附在所述阵列基板的第一衬底和/或所述彩膜基板的第二衬底对应的第一电极区和/或第二电极区。
13.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的具有触摸功能的显示器件。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201410381530.5A CN104156110B (zh) | 2014-08-05 | 2014-08-05 | 具有触摸功能的显示器件及其制作方法、显示装置 |
| US14/774,902 US20160202563A1 (en) | 2014-08-05 | 2014-12-01 | Display Unit with Touch Function, Manufacturing Method Thereof and Display Device |
| PCT/CN2014/092696 WO2016019660A1 (zh) | 2014-08-05 | 2014-12-01 | 具有触摸功能的显示器件及其制作方法、显示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201410381530.5A CN104156110B (zh) | 2014-08-05 | 2014-08-05 | 具有触摸功能的显示器件及其制作方法、显示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN104156110A CN104156110A (zh) | 2014-11-19 |
| CN104156110B true CN104156110B (zh) | 2018-10-12 |
Family
ID=51881624
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201410381530.5A Expired - Fee Related CN104156110B (zh) | 2014-08-05 | 2014-08-05 | 具有触摸功能的显示器件及其制作方法、显示装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20160202563A1 (zh) |
| CN (1) | CN104156110B (zh) |
| WO (1) | WO2016019660A1 (zh) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104156110B (zh) * | 2014-08-05 | 2018-10-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 具有触摸功能的显示器件及其制作方法、显示装置 |
| CN104679335A (zh) * | 2015-03-07 | 2015-06-03 | 安徽方兴科技股份有限公司 | 一种On-cell触摸屏的制作方法 |
| DE102016206922A1 (de) * | 2015-05-08 | 2016-11-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Touchscreen |
| CN106129102A (zh) * | 2016-09-13 | 2016-11-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种oled封装基板及其制备方法、oled显示面板 |
| CN113109964B (zh) * | 2021-04-26 | 2022-08-09 | 厦门天马微电子有限公司 | 一种阵列基板、液晶显示面板和显示装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN102914920A (zh) * | 2012-09-11 | 2013-02-06 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种电容式内嵌触摸屏、其驱动方法及显示装置 |
| CN202854779U (zh) * | 2012-10-15 | 2013-04-03 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种电容式内嵌触摸屏及显示装置 |
| CN103238101A (zh) * | 2010-12-07 | 2013-08-07 | 小利兰斯坦福大学理事会 | 并入有包括拓扑绝缘体的拓扑材料的电装置及光学装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5183584B2 (ja) * | 2009-06-29 | 2013-04-17 | 株式会社ジャパンディスプレイウェスト | タッチセンサ、表示装置および電子機器 |
| US9323403B2 (en) * | 2012-06-29 | 2016-04-26 | Shanghai Tianma Micro-electronics Co., Ltd. | Capacitive touch LCD panel |
| CN103022344B (zh) * | 2012-12-21 | 2015-01-21 | 清华大学 | 拓扑绝缘体结构 |
| CN103022341B (zh) * | 2012-12-21 | 2015-01-21 | 清华大学 | 拓扑绝缘体结构 |
| CN103294253A (zh) * | 2012-12-26 | 2013-09-11 | 厦门天马微电子有限公司 | 触控显示面板 |
| CN103413594B (zh) * | 2013-08-12 | 2016-04-20 | 北京大学 | 拓扑绝缘体柔性透明导电材料及其制备方法与应用 |
| CN104156110B (zh) * | 2014-08-05 | 2018-10-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 具有触摸功能的显示器件及其制作方法、显示装置 |
-
2014
- 2014-08-05 CN CN201410381530.5A patent/CN104156110B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-12-01 US US14/774,902 patent/US20160202563A1/en not_active Abandoned
- 2014-12-01 WO PCT/CN2014/092696 patent/WO2016019660A1/zh active Application Filing
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN103238101A (zh) * | 2010-12-07 | 2013-08-07 | 小利兰斯坦福大学理事会 | 并入有包括拓扑绝缘体的拓扑材料的电装置及光学装置 |
| CN102914920A (zh) * | 2012-09-11 | 2013-02-06 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种电容式内嵌触摸屏、其驱动方法及显示装置 |
| CN202854779U (zh) * | 2012-10-15 | 2013-04-03 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种电容式内嵌触摸屏及显示装置 |
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| Title |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2016019660A1 (zh) | 2016-02-11 |
| CN104156110A (zh) | 2014-11-19 |
| US20160202563A1 (en) | 2016-07-14 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
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