CN104124161B - 栅极侧壁层的形成方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 59
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 40
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 5
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical group N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims description 4
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 15
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 183
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000001936 parietal effect Effects 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000000101 transmission high energy electron diffraction Methods 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical compound CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N tungsten disilicide Chemical compound [Si]#[W]#[Si] WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021342 tungsten silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
- H01L29/423—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/42312—Gate electrodes for field effect devices
- H01L29/42316—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors
- H01L29/4232—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate
- H01L29/42356—Disposition, e.g. buried gate electrode
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
本申请公开了一种栅极侧壁层的形成方法。该形成方法包括以下步骤:在半导体衬底上形成上表面具有掩膜层的核心结构，刻蚀去除掩膜层;在半导体衬底上沉积侧壁层;刻蚀去除核心结构，形成栅极侧壁层。由于在栅极侧壁层沉积之前就将位于核心结构顶部的掩膜层刻蚀去除，所以不需要在侧壁层形成后再对掩膜层刻蚀，也就避免了现有技术中存在的对掩膜层的刻蚀过程中对栅极侧壁层造成的损伤，使得形成的侧壁层保持有较好的高度。
Description
技术领域
本申请涉及半导体制造技术领域，具体而言，涉及一种栅极侧壁层的形成方法。
背景技术
目前，伴随着半导体制造技术的发展，为了使半导体器件达到更快的运算速度、更大的数据存储量，晶片朝向更高的原件密度、高集成度方向发展，栅极宽度的最小特征尺寸己经达到45nm，甚至更小。侧壁层的形成质最会对器件的性能产生较大的影响，如何形成高质量的侧壁层是半导体制造工艺中备受关注的问题。
现有技术中，对于衬底上形成的精细图案，一般采用自对准双图案(SADP，self-aligned double patterning)技术。现有采用SADP技术形成精细图案的方法主要包括以下步骤:
如图1a至1e所示，在半导体衬底30'的表面依次沉淀牺牲层、掩膜层，并图案化掩膜层20'，图案化的掩膜层20'宽度用于定义精细图案的间隔，以图案化的掩膜层20'为掩膜，刻蚀牺牲层形成核心结构10'，其中，图1a示出了半导体衬底上形成的上表面具有掩膜层的核心结构的剖面结构示意图。然后，在核心结构10'表面以及显露出的半导体衬底30'表面沉淀侧壁层40'，即形成了如图1b所示的结构，并各向异性刻蚀侧壁层40'，使得经过刻蚀的侧壁层40'位于核心结构10'的两侧，即形成了如图1c所示的结构，其宽度为精细图案的线宽。湿法去除核心结构10'，即形成了如图1d所示的结构，以刻蚀后的侧壁层40'为掩膜，对半导体衬底进行刻蚀，形成精细图案。具体地，侧壁层40'的形成包括以下步骤，以图案化的掩膜层20'(也包括在光阻胶层下设置其他功能掩膜层的情况)为掩膜，刻蚀牺牲层形成核心结构10'，在上端仍存在掩膜层20'的核心结构10'上面沉积侧壁层40'，各向异性刻蚀侧壁层40'，使得经过刻蚀的侧壁层40'位于核心结构10'的两侧。
在接下来的步骤中，需要将核心结构10'上面的掩膜层20'去除，然后去除位于侧壁层40'中间的核心结构10'。但是在去除掩膜层20'的过程中同时会对核心结构10'两侧的侧壁层40'及裸露的半导体衬底30'造成损伤，如图1e所示，一方面，会造成侧壁层40'高度降低，另一方面，在去除侧壁层40'中间的核心结构10'后会出现半导体衬底30'位于侧壁层40'两侧的刻蚀深度呈奇偶不同深度不均一的情况，即覆盖有核心结构10'的半导体衬底30'部分刻蚀深度浅，裸露的半导体衬底30'部分刻蚀深度大。这两方面问题的存在将直接影响半导体器件性能。
发明内容
本申请旨在提供一种栅极侧壁层的形成方法，以解决现有技术中由于核心结构上面的掩膜去除过程中对栅极侧壁层造成损伤的技术问题。
本申请提供的栅极侧壁层的形成方法包括以下步骤:S1，在半导体衬底上形成上表面具有掩膜层的核心结构后，刻蚀去除掩膜层;S2，在半导体衬底及核心结构上沉积侧壁层;S3，刻蚀去除核心结构上表面及半导体衬底上的侧壁层后，刻蚀去除核心结构，形成栅极侧壁层。
采用本申请的技术方案，由于在栅极侧壁层沉积之前就将位于核心结构顶部的掩膜层刻蚀去除，所以就不需要在侧壁层形成后再对掩膜层刻蚀，也就避免了现有技术中存在的对掩膜层的刻蚀过程中对栅极侧壁层造成的损伤，使得形成的侧壁层保持有较好的高度。
附图说明
构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本申请的进一步理解，本申请的示意性实施方式及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中:
图1a示出了现有技术中半导体衬底上形成的上表面具有掩膜层的核心结构的剖面结构示意图;
图1b示出了根据图1a的结构沉淀侧壁层后的剖面结构示意图;
图1c示出了对图1b中的结构进行侧壁层各向异性刻蚀后的剖面结构示意图;
图1d示出了对图1c中的结构进行掩膜层去除后的剖面结构示意图;
图1e示出了对图1d中的结构进行核心结构去除后的剖面结构示意图;
图2示出了根据本申请实施方式的栅极侧壁层的形成工艺流程图;以及
图3a示出了根据本申请实施方式的在半导体衬底上形成的上表面覆盖有掩膜层的核心结构，且位于两个核心结构之间留有残余牺牲层的结构剖面示意图;
图3b示出了对图3a中的结构进行掩膜层去除后的剖面结构示意图;
图3c示出了对图3b中的结构进行残余牺牲层彻底去除后的剖面结构示意图;
图3d示出了对图3c中的结构进行沉淀侧壁层后的剖面结构示意图;
图3e示出了对图3d中的结构进行核心结构上表面及两个核心结构之间的侧壁层去除后的剖面结构示意图;以及
图3f示出了对图3e中的结构进行核心结构去除后的剖面结构示意图。
具体实施方式
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施方式来详细说明本申请。
为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如"在......之上"、"在......上方”、"上面的"等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为"在其他器件或构造上方"或"在其他器件或构造之上"的器件之后将被定位为"在其他器件或构造下方"或"在其他器件或构造之下"。因而，示例性术语"在......上方”可以包括"在......上方”和"在......下方"两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述符作出相应解释。
现在，将参照附图更详细地描述根据本申请的示例性实施方式。然而，这些示例性实施方式可以由多种不同的形式来实施，并且不应当被解释为只限于这里所阐述的实施方式。应当理解的是，提供这些实施方式是为了使得本申请的公开彻底且完整，并且将这些示例性实施方式的构思充分传达给本领域普通技术人员，在附图中，为了清楚起见，扩大了层和区域的厚度，并且使用相同的附图标记表示相同的器件，因而将省略对它们的描述。
图2示出了根据本申请实施方式的栅极侧壁层的形成工艺流程图，如图2所示，该形成方法包括以下步骤:S1，在半导体衬底上形成上表面具有掩膜层的核心结构后，刻蚀去除掩膜层;S2，在半导体衬底及核心结构上沉积侧壁层;S3，刻蚀去除核心结构上表面及半导体衬底上的侧侧层后，刻蚀去除核心结构，形成栅极侧壁层。采用本申请的技术方案，由于在侧壁层沉积之前就将位于核心结构顶部的掩膜层刻蚀去除，所以就不需要在侧壁层形成后再对掩膜层刻蚀，也就避免了现有技术中存在的对掩膜层的刻蚀过程中对侧壁层造成的损伤，使得形成的侧壁层保持有较好的高度。
上述S1步骤中的在半导体衬底上形成上表面具有掩膜层的核心结构可以包括:在半导体衬底上依次形成牺牲层及图案化的掩膜层，在掩膜层的遮蔽下刻蚀牺牲层，形成上表面覆盖有掩膜层的核心结构(core structure)。可采用本申请技术方案的结构包括核心结构和掩膜层这种简单的结构，但是本申请不限于此种结构，可采用本申请技术方案的结构还可以包括在半导体衬底与牺牲层之间、牺牲层及掩膜层之间设置有其他功能层的结构，例如该核心结构中包括光刻胶、底层抗反射层、有机层、无定型碳层、电介质层等的情况。
根据本申请一种典型的实施方式，半导体衬底与牺牲层之间还设置有刻蚀阻挡属，刻蚀阻挡层的设置使得其与半导体衬底之间具有良好的刻蚀选择性，优选地，刻蚀阻挡层由选自由SiCN、SiC或SiON组成的组中的一种或多种形成。该刻蚀阻挡层可以使对侧壁层的刻蚀停止在此层上，防止对半导体衬底造成损伤。该刻蚀阻挡层可以通过原子层沉积、化学气相沉积，物理气相沉积或其他适合的方法形成。
根据本申请一种典型的实施方式，牺牲层由底层的无定型碳层和设置在无定型层上的覆盖层组成，其中，覆盖层可以在掩膜层的去除过程中保护无定型碳层免受损伤。优选地，覆盖层由选自由无定型硅、氮化硅、氧氮化硅、氧化硅、掺杂氧化硅、氧碳化硅、碳化物、碳化硅、钛和氮化钛组成的组中的一种或多种形成。
图3a示出了根据本申请实施方式的在半导体衬底上形成的上表面覆盖有掩膜层的核心结构，且位于两个核心结构之间留有残余牺牲层的结构剖面示意图;如图3a所示，半导体衬底30上形成有上表面覆盖有掩膜层20的核心结构10，且位于两个核心结构10之间留有残余牺牲层。
其中，"残余牺牲层"是指在刻蚀牺牲层形成核心结构10时，没有掩膜层20覆盖的区域并不是完全刻蚀去除，而是留有部分厚度的牺牲层没有刻蚀去除，留的这部分牺牲层在本申请中称之为"残余牺牲层"。此残牺牲层的存在可以在后续的掩膜层20的去除过程中对衬底形成保护，避免在去除核心结构10后会出现半导体衬底30位于侧壁层40两侧的刻蚀深度呈奇偶不同、深度不均一的情况。
优选地，残余牺牲层的厚度为牺牲层的厚度的10%～30%，此厚度的残余牺牲层足够可以在后续的掩膜层20的去除过程中对衬底形成保护。
图3a中所示的结构可以通过以下工艺步骤形成:首先，在半导体衬底30上依次形成牺牲层及图案化的掩膜层20;在掩膜层20的遮蔽下刻蚀牺牲层，形成上表面覆盖有掩膜层20的核心结构10，且位于两个核心结构10之间留有残余牺牲层。本申请中的半导体衬底30可以由选自由硅、多晶硅、氧化物、氮化物、钨、硅化钨、铝、氧碳化硅组成的组中的一种或多种形成。
本申请中的牺牲层可以由现有技术中通常作为牺牲层的材料形成，例如氧化硅。形成材质为氧化硅的牺牲层所能采用的制备方法包括原子层沉积、化学气相沉积，物理气相沉积或其他适合的方法。氧化硅层的厚度可以在3～5nm，在本申请提供的具体实施方式中，氧化硅层的厚度为5nm。优选地，牺牲层由无定型碳形成;无定型碳形成的核心结构10在后续步骤中可以通过灰化工艺去除，操作较为方便。无定型碳可以通过各种方法来沉积，诸如化学气相沉积、等离子体增强化学气相沉淀、高密度等离子化学气相沉淀、或其组合。无定型碳可以包括碳和氢，或者碳、氢和掺杂剂，掺杂剂包括诸如氮、硼、氟、磷或者他们的混合，以及其他。根据本申请一种典型的实施方式，无定型碳由烃化合物和诸如氩、氦、氙、氪、氖或其组合的惰性气体的气体混合物形成。优选地，碳源是气态烃，诸如线性烃。在一种实施方式中，牺牲层通过由包含一种或多种具有通式CxHy的烃的气体混合物气相沉积形成，其中，x的范围为2到4，y的范围为2到10，例如，丙烯、丙炔、丙烷、丁烷等。优选地，无定型碳在1～100W/in2的功率下沉积。
本申请中的掩膜层20可以是本领域通常所称的能够在各种刻蚀工艺中起到遮蔽作用的材料形成，优选地，掩膜层20为氮化硅或氧氮化硅通过化学气相沉积或物理气相沉积等方法形成，硬掩膜层20的厚度范围可以在。该掩膜层20在后续的工艺步骤中可以通过H3P04湿法刻蚀去除。图案化的掩膜层20可以通过图案化光刻工艺之后再刻蚀掩膜层20形成，在本申请提供的具体实施方式中，采用的光刻制备工艺包括旋转烘胶、软烘、对准和曝光、曝光后烘焙、显影、坚膜烘焙、显影检查等步骤，光刻工艺已经被本领域技术人员所公知，其常用或变形均在本申请保护的范围内，在此不再赘述。
在本申请提供的具体实施方式中，上述掩膜层20、牺牲层的刻蚀可以采用干法蚀刻的方法进行，并且根据实际情况选择设当的刻蚀条件，例如，对掩膜层20的刻蚀可采用如下的条件进行:刻蚀气体为HBr/O2，Cl2/O2或者SO2/O2，或者其他适合的气体。干法刻蚀中的气体压力为1mT至1000mT，功率为500W至3000W，偏电压为100V至500V，总的气流速度为10sccm至1000sccm。
图3b示出了对图3a中的结构进行掩膜层去除后的剖面结构示意图，如图3b所示，在刻蚀去除掩膜层20的同时刻蚀去除部分残余牺牲层，在两个核心结构10中间还留有部分的残余牺牲层。因为对掩膜层刻蚀的同时，也会对牺牲层造成刻蚀，因此残余牺牲层可以在刻蚀去除掩膜层20的同时刻蚀去除。当然，也可以在刻蚀去除掩膜层20的同时刻蚀去除部分残余牺牲层，然后再对残余牺牲层剩余的部分进行清除。因为残余牺牲层需要清除彻底，以免对后续形成的侧壁层40造成不良影响。
图3c示出了对图3b中的结构进行残余牺牲层彻底去除后的剖面结构示意图，即为了避免残余牺牲层对后续形成的侧壁层造成不良影响，将残余牺牲层进行彻底清除。这种彻底切除过程的工艺参数，参照上述牺牲层刻蚀形成核心结构的工艺参数即可，在此不再赘述。完成上述步骤后，残余牺牲层彻底去除后形成如图3c所示的结构。
图3d示出了对图3c中的结构进行沉淀侧壁层后的剖面结构示意图，即在将残余牺牲层彻底去除后即可沉积侧壁层40。本申请中的侧壁层40可以由氮化物或硬化的有机物形成，例如，当该氮化物为氮化硅时，可采用硅甲烷或二氯硅甲烷与含氮气体为反应源，利用ALD(原子层沉积法)方法，形成氮化硅介质层。完成上述步骤后，侧壁层40沉积在半导体衬底30及核心结构10的上表面，形成如图3d所示的结构。
图3e示出了对图3d中的结构进行核心结构上表面及两个核心结构之间的侧壁层去除后的剖面结构示意图;对侧壁层40的刻蚀可以采用选择性的干法刻蚀方法进行。例如，采用的刻蚀方法为干法刻蚀，刻蚀气体为HBr/Cl2/O2/He，气压为1mT至1000mT，功率为50W至1000W，偏电压为100V至500V，HBr的气流速度为10sccm至500sccm，Cl2的气流速度为0sccm至500sccm，O2的气流速度为0sccm至100sccm，He的气流速度为0sccm至1000sccm。因为，上述方法已经被本领域技术人员所公知，其常用或变形均在本申请保护的范围内，在此不再赘述。完成上述步骤后，核心结构上表面及两个核心结构之间的侧壁层被清除，只有位于核心结构10两侧的侧壁层40保留，保留下来的侧壁层40也叫栅极侧壁层，即形成如图3e所示的结构。
图3f示出了对图3e中的结构进行核心结构去除后的剖面结构示意图。由牺牲层刻蚀形成的核心结构，在去除时可以根据实际情况挑选合适的工艺进行去除，例如通过氧、氢和诸如NF3、SF6、CF4的含氟气体或其混合物的等离子体来进行刻蚀去除。完成上述步骤后，半导体衬底30上形成有以核心结构10为间距形成的栅极侧壁层40，即形成了如图3f所示的结构。
综上，采用本申请的技术方案，一方面，由于在栅极侧壁层沉积之前就将位于核心结构顶部的掩膜层刻蚀去除，所以就不需要在侧壁层形成后再对掩膜层刻蚀，也就避免了现有技术中存在的对掩膜层的刻蚀过程中对栅极侧壁层造成的损伤，使得形成的侧壁层保持有较好的高度。另一方面，两个核心结构之间的残余牺牲层的存在，可以在后续的掩膜层的去除过程中对衬底形成保护，避免在去除核心结构后会出现半导体衬底位于侧壁层两侧的刻蚀深度呈奇偶不同、深度不均一的情况。
以上所述仅为本申请的优选实施方式而己，并不用于限制本申请，对于本领域的技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种栅极侧壁层的形成方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1，在半导体衬底上形成上表面具有掩膜层的核心结构后，刻蚀去除所述掩膜层；
S2，在所述半导体衬底及所述核心结构上沉积侧壁层；
S3，刻蚀去除所述核心结构上表面及所述半导体衬底上的侧壁层后，刻蚀去除所述核心结构，形成所述栅极侧壁层；
所述步骤S1具体包括如下步骤：
在所述半导体衬底上依次形成牺牲层及图案化的掩膜层；
在所述掩膜层的遮蔽下刻蚀所述牺牲层，形成上表面覆盖有所述掩膜层的所述核心结构，且相邻的两个所述核心结构之间留有残余牺牲层；
刻蚀去除所述掩膜层的同时刻蚀去除所述残余牺牲层，或刻蚀去除所述掩膜层的同时刻蚀去除部分所述残余牺牲层，然后刻蚀去除剩余部分的所述残余牺牲层。
2.根据权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述残余牺牲层的厚度为所述牺牲层厚度的10％～30％。
3.根据权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述半导体衬底与所述牺牲层之间还设置有刻蚀阻挡层。
4.根据权利要求3所述的形成方法，其特征在于，所述刻蚀阻挡层由选自由SiCN、SiC或SiON组成的组中的一种或多种形成。
5.根据权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述掩膜层为氮化硅或氧氮化硅形成。
6.根据权利要求5所述的形成方法，其特征在于，所述掩膜层通过H3PO4湿法刻蚀去除。
7.根据权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述牺牲层由底层的无定型碳层和设置在所述无定型层上的覆盖层组成。
8.根据权利要求7所述的形成方法，其特征在于，所述覆盖层由选自由无定型硅、氮化硅、氧氮化硅、氧化硅、掺杂氧化硅、氧碳化硅、碳化硅、钛和氮化钛组成的组中的一种或多种形成。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310144021.6A CN104124161B (zh) | 2013-04-23 | 2013-04-23 | 栅极侧壁层的形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310144021.6A CN104124161B (zh) | 2013-04-23 | 2013-04-23 | 栅极侧壁层的形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN104124161A CN104124161A (zh) | 2014-10-29 |
| CN104124161B true CN104124161B (zh) | 2017-02-08 |
Family
ID=51769530
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201310144021.6A Active CN104124161B (zh) | 2013-04-23 | 2013-04-23 | 栅极侧壁层的形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN104124161B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108573865B (zh) * | 2017-03-07 | 2020-06-09 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 半导体器件及其形成方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101393846A (zh) * | 2007-09-18 | 2009-03-25 | 海力士半导体有限公司 | 形成半导体器件的图案的方法 |
| CN103165415A (zh) * | 2011-12-16 | 2013-06-19 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 具有偏移部件的半导体器件 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101105508B1 (ko) * | 2009-12-30 | 2012-01-13 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 메모리 소자의 제조 방법 |
-
2013
- 2013-04-23 CN CN201310144021.6A patent/CN104124161B/zh active Active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101393846A (zh) * | 2007-09-18 | 2009-03-25 | 海力士半导体有限公司 | 形成半导体器件的图案的方法 |
| CN103165415A (zh) * | 2011-12-16 | 2013-06-19 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 具有偏移部件的半导体器件 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN104124161A (zh) | 2014-10-29 |
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