CN104114509A - 化学研磨装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)具备有多个搬送辊(50)以及多个喷射管(322)。多个搬送辊(50)构成为分别从下面支承玻璃基板(100)的同时向水平方向搬送玻璃基板(100)。喷射管(322)构成为对由多个搬送辊(50)搬送的玻璃基板(100)至少从下侧喷射研磨液。此外，喷射管(322)以利用研磨液至少使化学研磨处理空间内的全部的搬送辊的周面形成湿润状态的方式喷射研磨液。
Description
技术领域
本发明涉及一种化学研磨装置，其构成为对被连续搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理。
背景技术
为了使玻璃基板薄型化，通常需要使用含有氟酸的化学研磨液对玻璃基板进行化学研磨处理。作为这种化学研磨处理，可以举出分批式化学研磨和单片式化学研磨，所述分批式化学研磨将待处理玻璃基板以规定时间浸渍于放入有化学研磨液的槽中，所述单片式化学研磨将待处理玻璃基板用搬送辊依次搬送且同时喷洒化学研磨液。
在这些化学研磨的方式中，对于分批方式的研磨而言，其通过将待处理玻璃基板以规定时间浸渍于研磨液浴槽中，从而使玻璃基板薄板化至所期望的板厚，因此具有能够一次性处理大量玻璃基板这样的优点。然而，分批方式的研磨至少存在以下问题。
首先，在分批方式的研磨中，由于研磨液浴槽是向上方开放的结构，因此存在研磨液浴槽的周围形成浓氟酸气氛这样的问题。特别是，在对研磨液浴槽的研磨液进行发泡处理的情况下，具有气体状的氟酸容易向周围扩散这样的问题。在这样的氟酸气氛中操作的操作人员，如果不身着适当的保护装备进行操作，则有可能损害健康。因此，发给操作人员的保护装备的成本变高。
此外，在分批方式的研磨中，为了消除研磨液浴槽的周围的浓氟酸气氛，需要强有力的气体洗涤器等排气设备，从而增加设备成本。进而，由于氟酸气体而容易发生设备腐蚀，因此存在为实施适当防蚀处理而花费成本或者设备的更换频率变大而花费成本这样的问题。
因此，近年来，有时使用单片方式的化学研磨处理。例如，在以往技术中，存在平板显示器玻璃基板蚀刻设备，该设备构成为：利用能够附着玻璃基板的夹具来纵向支承玻璃基板，并且在搬送该夹具的同时对玻璃基板喷射化学研磨液(例如，参照专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2008-266135号公报。
发明内容
发明所要解决的课题
然而，专利文献1中所记载的技术依然不得不使用用于支承玻璃基板的夹具。因此，与上述分批式化学研磨装置同样，也存在准备夹具的费用高、而且容易在玻璃基板上产生夹具痕迹这样的问题。如果在玻璃基板上产生夹具痕迹，则会使进行高效的倒角设计变得极其困难，因此存在使倒角效率降低这样的问题。
本发明鉴于上述课题而做出的，其提供不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。
解决课题的手段
根据本发明的化学研磨装置构成为对被连续搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理。该化学研磨装置具备多个搬送辊以及研磨液喷射单元。多个搬送辊构成为分别从下方支承各个玻璃基板且同时向水平方向搬送玻璃基板。研磨液喷射单元构成为对由多个搬送辊搬送的玻璃基板至少从下侧喷射研磨液。利用研磨液喷射单元的喷射优选从上下两方进行喷射，但即使在不进行从上侧喷射的情况下，也能够实施本发明。此外，研磨液喷射单元以利用研磨液使至少化学研磨处理空间内的全部的搬送辊的周面形成湿润状态的方式喷射研磨液。
在该构成中，由于来自研磨液喷射单元的研磨液被喷涂于化学研磨处理空间内的搬送辊，因此搬送辊的周面借助研磨液而始终保持湿润状态。此外，由于搬送辊的周面被喷涂的研磨液洗涤，因此淤渣等异物难以附着于搬送辊的周面，使搬送辊的周面始终保持干净状态。
因此，在玻璃的主面与搬送辊的周面相接时，玻璃基板不易产生污损。此外，与玻璃基板的搬送辊的周面接触的部分也能够借助研磨液而被适当地研磨。其结果是，即使将玻璃基板直接载置于搬送辊上进行搬送，也难以发生如下不良状况，即：产生研磨的不均匀、或者使玻璃基板的品质劣化。由此，即使不使用夹具，也能够适当地对玻璃基板依次实施化学研磨处理。
发明效果
如果利用上述本发明，则不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理。
附图说明
图1是表示本发明涉及的实施方式的单片式化学研磨装置的外观的图。
图2是表示单片式化学研磨装置的概略构成的图。
图3是表示单片式化学研磨装置的概略构成的图。
图4是表示第1处理室的概略构成的图。
图5是表示处理液供给机构的概略构成的图。
图6是表示曲柄机构的概略构成的图。
图7是说明在预处理室中的处理的图。
图8是表示借助搬送辊对玻璃进行支承的支承状态的图。
具体实施方式
图1是表示根据本发明的实施方式的一例的单片式化学研磨装置10的外观的图。此外，图2和图3是表示化学研磨装置10的概略构成的图。如图1～图3所示，化学研磨装置10具备搬入部12、预处理室14、第1处理室16、第2处理室18、第3处理室20、第4处理室22、第1中继部28、第2中继部30、第3中继部32、水洗室24、搬出部26、处理液收容部42、处理液供给部44以及水供给部46。
搬入部12构成为能够接收通过由操作人员进行的手动操作或者由机器人等进行的自动操作而搬入的待薄型化处理的玻璃基板100。预处理室14构成为接收通过由搬入部12搬送的玻璃基板100。第1处理室16构成为向玻璃基板100的上下面喷射化学研磨液使玻璃基板100薄型化。第2处理室18、第3处理室20以及第4处理室22分别构成为向玻璃基板100的上下面喷射与第1处理室16相同组成的化学研磨液而进一步使玻璃基板100薄型化。第1中继部28、第2中继部30以及第3中继部32分别构成为将多个处理室连结。水洗室24构成为对经由第4处理室22的玻璃基板100进行水洗。搬出部26构成为能够取出经化学研磨处理以及水洗处理的玻璃基板100。到达搬出部26的玻璃基板100通过由操人作员进行的手动操作或者由机器人等进行的自动操作从化学研磨装置10中取除并回收。然后，在玻璃基板100需要进一步的薄型化的情况下，将其再次导入化学研磨装置10中，而在不需要进一步薄型化的情况下，将其移送至成膜工序等后续工序中。
处理液收容部42通过回收管线420与第1处理室16、第2处理室18、第3处理室20、第4处理室22相连接。处理液供给部44通过供液管线440连接至第1处理室16、第2处理室18、第3处理室20、第4处理室22、第1中继部28、第2中继部30以及第3中继部32。水供给部46通过供水管线460连接至预处理室14以及水洗室24。需要说明的是，在图1中，关于化学研磨装置10的回收管线420、供液管线440以及洗涤水的供水管线460，省略了图示。
在上述化学研磨装置10中，除了向预处理室14的导入口200、自水洗室24的导出口300以及后述的曲柄机构36的一部分操作空间之外，预处理室14、第1处理室16、第2处理室18、第3处理室20、第4处理室22、第1中继部28、第2中继部30、第3中继部以及水洗室24作为整体气密且水密地封闭。导入口200以及导出口300呈现比玻璃基板100的板厚略高、比玻璃基板100的宽度略宽的狭缝形状。此外，贯通各部分地在同一平面上配置有多个搬送辊50。各搬送辊50在支承玻璃基板100的底面的同时构成图示向右搬送的搬送通路。
在此，搬送速度优选设定为100～800mm/分钟，更优选应当设定为300～550mm/分钟。并且，在本实施方式中，第1处理室16、第2处理室18、第3处理室20以及第4处理室22中的处理时间设定为合计20分钟左右，但并不局限于此。此外，如果超过上述范围且搬送速度过慢，则不仅生产效率差，而且化学研磨液容易滞留于玻璃基板100上，从而有可能阻碍均匀的化学研磨，在最差的情况下可能诱发产生玻璃基板100的裂纹等。另一方面，在同一装置规模中，如果提高搬送速度，则实现该目标的液体组成难以最佳化，结果难以实现均匀的化学研磨。
在化学研磨装置10中被薄型化处理的玻璃基板100没有特别限定，化学研磨装置10构成为如下方式，即：即使对于G8尺寸的四分之一切割(1080×1030mm)以及G6尺寸(1500×1800mm)等大型玻璃基板，也能够均匀研磨其上下两面。此外，化学研磨装置10构成为在不使用夹具、托架的情况下，直接利用搬送辊50来搬送玻璃基板100。
如上所述，第1处理室16、第2处理室18、第3处理室20、第4处理室22、第1中继部28、第2中继部30以及第3中继部32经由供液管线440连通至受到温度管理的处理液供给部44，使得处理液供给部44的化学研磨液以40～42℃左右被供给至各室。在此，化学研磨液的组成优选为1～20重量％的氟酸、0～10重量％的盐酸、剩余为水的液体组成。
此外，预处理室14以及水洗室24经由供水管线460连通至水供给部46，使得洗涤水被供给至各室。另外，从预处理室14和水洗室24排出的洗涤排水向废水处理设备排出。
另一方面，如上所述，第1处理室16、第2处理室18、第3处理室20以及第4处理室22的底部经由回收管线420连通至处理液收容部42，使得研磨处理水被回收。就第1中继部28、第2中继部30以及第3中继部32的底部而言，由于具有向各自邻接的处理室倾斜的底部，因此第1中继部28、第2中继部30以及第3中继部32内的处理液能够顺利地被引导至邻接的处理室。另外，被回收的研磨处理水经过反应生成物的沉淀和其他处理之后，如果是能够再利用的状态，则被送至处理液供给部44，另一方面，在不能够再利用状态的情况下，作为浓废液被移送至废液处理工序中。
此外，如图3所示，预处理室14、第1处理室16、第2处理室18、第3处理室20、第4处理室22以及水洗室24经由排气管线340连通至排气部34，使得各室的内部气体被吸引至排气部34。在此，由于排气管线340稳定地发挥功能，因此使向预处理室14的导入口200、自水洗室24的导出口300、在曲柄机构36的一部分上形成的开口保持负压状态，从而处理气体不会通过这些开口漏出。
如图4以及图5所示，在第1处理室16、第2处理室18、第3处理室20、第4处理室22以及水洗室24中，向玻璃基板100的搬送方向延伸的一组(10根)喷射管444(444U、444L)分别配置于搬送辊50的上下位置。各喷射管444是由氯乙烯、特氟龙(Teflon，注册商标)形成的中空树脂管，在一根喷射管上，多个喷射喷嘴446形成为一行。此外，从配置于上侧的上侧喷射管444U对玻璃基板100的上表面喷射化学研磨液，从配置于下侧的下侧喷射管444L对玻璃基板100的底面喷射化学研磨液。另一方面，从配置于水洗室24中的上侧喷射管242U对玻璃基板的上表面喷射洗涤水，从下侧喷射管242L对玻璃基板100的底面喷射洗涤水。进而，在第1中继部28、第2中继部30以及第3中继部32上分别设有喷射管282(282U、282L)、喷射管302(302U、302L)以及喷射管322(322U、322L)，与第1～第4处理室18、20、22、24相同组成的化学研磨液被喷射至玻璃基板100的上表面以及底面。
在本实施方式中，配置于第1中继部28、第2中继部30以及第3中继部32的喷射管282(282U、282L)、喷射管302(302U、302L)以及喷射管322(322U、322L)、以及配置于水洗室24的喷射管(242U、242L)被保持为固定状态。另一方面，配置于第1处理室16、第2处理室18、第3处理室20、第4处理室22的各喷射管444构成为通过曲柄机构36摆动。
如图5(A)以及图5(B)所示，在本实施方式中，在第1处理室16、第2处理室18、第3处理室20以及第4处理室22中，在玻璃基板100的上侧以及下侧分别配置有10根喷射管444(444U、444L)。图5(A)是喷射管444(444U、444L)的平面图，在各喷射管444(444U、444L)上形成有例如8个喷射喷嘴446。
就各喷射管444(444U、444L)而言，其前端侧(图示下侧)被封闭，而在其根端侧设有液压控制部。液压控制部由与喷射管444(444U、444L)相同数量(10个)的开关阀门442(442U、442L)构成，通过调整各开关阀门442(442U、442L)的开度，能够任意设定供给于各喷射管444(444U、444L)的化学研磨液的液压。例如，能够对上侧喷射管444U与下侧喷射管444L的液压设置液压差、或者能够在中央喷射管444(444U、444L)与端部喷射管444(444U、444L)的液压设置液压差。另外，供给于各喷射管444(444U、444L)的化学研磨液的液压能够通过配置于化学研磨装置10的上表面的度量仪表38来确认。
在本实施方式中，与周边位置的喷射管444(444U、444L)相比，中央位置的喷射管444(444U、444L)的液压被设定得稍大，与向玻璃基板100的周边位置的接触压、喷射量相比，向玻璃基板100的中央位置的接触压、喷射量被设定得稍高。因此，喷射于玻璃基板100的中央位置的化学研磨液能够顺利地移动至玻璃基板的周边位置，从而使化学研磨液难以滞留于玻璃基板100的上表面。其结果是，使大体等量的化学研磨液作用于整个玻璃基板100整面，从而容易使整个玻璃基板100被均匀地研磨。另外，在即使不使喷射管444(444U、444L)的液压在宽度方向上发生变化，化学研磨液也不会滞留于玻璃基板100的上表面的情况下，没有必要特意使喷射管444(444U、444L)的液压在宽度方向上发生变化，只要将全部的喷射管444(444U、444L)的液压设定成均匀即可。
另外，各喷射管444(444U、444L)构成为其两端由轴承等支承成可旋转从而利用曲柄机构36能够摆动(oscillation)约±30°(参照图5(B))。需要说明的是，图5(B)表示摆动角度，并不表示化学研磨液的喷射范围。即，由于化学研磨液以喇叭状从喷射管444的喷射喷嘴446喷出，因此其喷射范围比摆动角度宽。
如图6(A)和图6(B)所示，曲柄机构36具备有驱动马达362和传输机构部364，所述传输机构部364构成为将驱动马达362的旋转力转换为使喷射管444(444U、444L)摆动的力，并向喷射管444(444U、444L)传递。驱动马达362的旋转力介由传输臂传输至摆动臂366而作为使摆动臂366摆动的力。摆动臂366被设在化学研磨装置10的内壁部的支承部368支承成可旋转的状态。
另一方面，各喷射管444(444U、444L)的端部贯通处理室的分隔壁，在位于处理室的外侧的部分安装有转矩传输臂372、376，该转矩传输臂372、376用于传输喷射管444(444U、444L)摆动所需的转矩。转矩传输臂372、376分别以可转动的状态被支承于保持臂370、374。保持臂370、374以可转动且可滑动的状态与摆动臂366连结。
如果借助驱动马达362的旋转力使摆动臂366摆动，则保持臂370、374与摆动臂366连动地如图中的箭头所示那样摆动。来自保持臂370的力介由转矩传输臂372作为转矩传输至上侧喷射管444U。此外，来自保持臂374的力作为转矩通过转矩传输臂376传输至下侧喷射管444L。其结果是，如图6(A)和图6(B)所示，上侧喷射管444U和下侧喷射管444L向与玻璃基板100的搬送方向正交且彼此相反的方向旋转约±30°。另外，驱动马达362的转速规定喷射管444(444U、444L)的摆动次数，但在本实施方式中，驱动马达的转速设定为10～30rpm左右。
由于在上侧的喷射管444U中，其下面形成有喷射喷嘴446U，在下侧喷射管444L中，其上面形成有喷射喷嘴446L，因此各喷射喷嘴在旋转约±30°的同时将化学研磨液向玻璃基板的上下面喷射(参照图5(B))。
另外，在本实施方式中，特意将以相同液体组成实施同样的化学研磨的第1处理室16、第2处理室18、第3处理室20以及第4处理室22彼此分割而设置。其理由是，因为通过抑制喷射管444(444U、444L)的长度，防止喷射管444(444U、444L)的挠曲，并且使喷射管444(444U、444L)顺利地摆动。此外，因为将由喷射管444(444U、444L)的热膨胀造成的影响抑制得较小。通过采取这种构成，能够将喷射管444(444U、444L)与玻璃基板100的距离维持均匀，容易调整喷射于玻璃基板100的化学研磨液的液压。此外，通过使喷射管444(444U、444L)顺利地摆动，能够使化学研磨液从玻璃基板100的上表面顺利地流落，因此化学研磨液难以滞留于玻璃基板100的上表面。需要说明的是，喷射管444(444U、444L)的长度还与管径(送液量)有关，但通常为2.5m以下，优选抑制为2m以下。
为了对玻璃基板100进行高速化学研磨，需要增加加温状态的化学研磨液的送液量，但通过将喷射管444(444U、444L)的长度抑制为合适的长度，从而不需要使驱动马达362那么大型化，而且通过简单的机构就能够使多个喷射管444(444U、444L)顺利地摆动。
接下来，采用图7(A)～图7(C)对预处理室14的构成进行说明。在预处理室14中，与第1处理室16接近地配置有使喷射管444(444U、444L)摆动的曲柄机构36的情况如上所述。除上述构成以外，在预处理室14中，在向第1处理室16的玻璃基板100的导入口处，配置有接收玻璃基板100的对置辊146和向玻璃基板100的上下面喷射水的水洗喷嘴142、144。在与玻璃基板100的搬送方向正交的方向(宽度方向)上的整个区域，以规定的间隔配备有多个水洗喷嘴142、144。在此，设定有接触压，从而使玻璃基板100被对置辊146和搬送辊50柔和地保持而导入到第1处理室16。
此外，水洗喷嘴142、144设定为朝向玻璃基板100的向第1处理室16的导入口喷射水。因此，导入至第1处理室16的玻璃基板100是充分润湿的状态，防止进行不均匀的初期蚀刻。即，由于第1处理室16是氟酸气体气氛，因此，如果玻璃基板100的表面是干燥状态，则存在可能因氟酸气体而被不均匀地侵蚀的危险，但在本实施方式中，由于玻璃基板100的表面由水保护，因此之后能够在第1处理室16中开始均匀的蚀刻。
在本实施方式中，如图7(A)～图7(C)所示，水洗喷嘴142构成为向正下方喷射水，而水洗喷嘴144构成为朝向上方且朝向玻璃基板100的搬送通路的上游侧倾斜地喷射水。水洗喷嘴144构成为向斜上方喷射水的结果是，当玻璃基板100接近水洗喷嘴142、144时，如图7(A)和图7(B)所示，能够从水洗喷嘴144向玻璃基板100的上表面供给水。由此，能够在玻璃基板100的上表面迅速形成用于保护其免受氟酸气体腐蚀的水膜。另外，如果玻璃基板100接近水洗喷嘴144，则由于从水洗喷嘴144喷射的水会喷到玻璃基板100的底面，因此能够利用水洗喷嘴144适当洗涤玻璃基板100的底面，并且使其适当润湿。
如上所述，通过将水洗喷嘴142、144设置于预处理室14，能够防止干燥状态的玻璃基板100暴露于氟酸气体而被不均匀地蚀刻。此外，防止玻璃基板100以干燥状态被夹入对置辊146与搬送辊50之间，因此在通过对置辊146与搬送辊50之间时，能够防止在玻璃基板100上产生伤痕或者使玻璃基板100污损。
接下来，对第1中继部28、第2中继部30、以及第3中继部32进行说明。在第1中继部28、第2中继部30以及第3中继部32中，分别在搬送通路的上下位置配置有固定状态的喷射管282、喷射管302以及喷射管322。并且，从喷射管282、喷射管302、喷射管322向玻璃基板100的上下面喷射化学研磨液。在本实施方式中，喷射管444、喷射管282、喷射管302以及喷射管322各自构成本发明的研磨液喷射单元。
在此，虽然可以考虑将第1中继部28、第2中继部30以及第3中继部32作为玻璃研磨处理中的空闲空间，但在本实施方式中，特意在这些第1中继部28、第2中继部30以及第3中继部32也将相同组成的化学研磨液向玻璃基板100喷射。因此，在通过第1中继部28、第2中继部30以及第3中继部32时，不会使化学研磨液滞留于玻璃基板100上，反之，在通过第1中继部28、第2中继部30以及第3中继部32时，不会使玻璃基板100稍干，从而能够实现高品质的玻璃研磨。需要说明的是，第1中继部28、第2中继部30以及第3中继部32的喷射管282、喷射管302以及喷射管322虽然是固定状态，但也可以采用非固定式的摆动式构成。
玻璃基板100依次通过第1处理室16、第2处理室18、第3处理室20、第4处理室22、第1中继部28、第2中继部30以及第3中继部32，并依次被化学研磨。然后，对结束多个阶段的化学研磨的玻璃基板100，利用配置于第4处理室22的出口的气刀244进行上表面的除液处理后，利用从配置于水洗室24中的一组喷射管242接收的洗涤水来洗涤。洗涤用喷射管242虽然是固定状态，但也可以采用使其摆动的构成。
总之，在洗涤处理的最终段，配置有上下一对气刀246，利用由该处喷射的空气使玻璃基板100的上下面迅速干燥。然后，从水洗室24的导出口300排出的玻璃基板100由在搬出部26等待的操作人员取出，从而完成一系列加工处理。如此，通过在上下一对气刀246的前段另外配置气刀244，能够迅速将化学研磨液从玻璃基板100的上表面去除，因此能够有效防止玻璃基板100的上表面被不均匀地蚀刻。
如上所述，根据本实施方式涉及的化学研磨装置10，在封闭的空间中进行化学研磨，利用气体洗涤器等排气机构能够几乎全部回收装置内产生的氟酸气体等有毒气体，因此氟酸气体几乎不会向化学研磨装置10周围扩散。其结果是，与分批式化学研磨处理的情况相比，化学研磨装置10周围的操作环境显著改善。因此，消除了使操作人员的健康恶化的担忧且同时消除了在保护装备上耗费成本的必要。
此外，由于能够防止化学研磨装置10的周围的设备被氟酸气体侵蚀，因此能够抑制设备的维护费用。也就是说，具有能够以廉价的维护费用来为操作人员提供良好的操作环境这样的优点。
进而，与分批方式的研磨处理相比，在使用单片方式的化学研磨装置10的情况下，具有能够提高操作效率、产品的品质这样的优点。而且，由于通过化学研磨装置10提高板厚精度，因此可预测到切割时的成品率稳定。此外，对于切断面平面强度，与分批方式的研磨处理相比也能够变强。并且，由于没有由发泡导致的氟酸损失，因此能够期待削减15％左右氟酸成本的效果。
在此，采用图8(A)和图8(B)说明由搬送辊50搬送的玻璃基板100的状态。以往，为了避免玻璃基板100的污损，过去并不推荐采用使玻璃基板100直接接触搬送辊50的周面的构成。然而，在本实施方式中，精心设计成即使将玻璃基板100直接放置于搬送辊50的周面上，也不会使玻璃基板100污损。
首先，在本实施方式中，从多个喷射管444(444U、444L)、喷射管282(282U、282L)、喷射管302(302U、302L)以及喷射管322(322U、322L)喷射的大量的化学研磨液始终喷到搬送辊50的周面，从而使搬送辊50的周面保持湿润状态且同时在搬送辊50的周面形成化学研磨液的薄层。此时，多个喷射管444(444U、444L)、喷射管282(282U、282L)、喷射管302(302U、302L)以及喷射管322(322U、322L)以至少使化学研磨处理空间(第1处理室16、第2处理室18、第3处理室20、第4处理室22、第1中继部28、第2中继部30以及第3中继部32)的全部搬送辊50的周面形成湿润状态的方式进行化学研磨液的喷射。
通过采用本实施方式中记载的构成，来自多个喷射管444(444U、444L)、喷射管282(282U、282L)、喷射管302(302U、302L)以及喷射管322(322U、322L)的研磨液被喷涂于化学研磨处理空间内的搬送辊50的周面，因此搬送辊50的周面借助研磨液而保持为湿润状态。此外，由于搬送辊50的周面被喷涂的研磨液洗涤，因此淤渣等异物难以附着于搬送辊50的周面，使搬送辊50的周面始终保持干净状态。需要说明的是，在本实施方式中，多个喷射管444(444U、444L)、喷射管282(282U、282L)、喷射管302(302U、302L)以及喷射管322(322U、322L)构成本发明的研磨液喷射单元。
通过上述构成，能够大大降低搬送辊50的周面与玻璃基板100的主面之间的摩擦系数，从而玻璃基板100难以因与搬送辊50的周面的接触而污损。此外，由于在玻璃基板100的主面与搬送辊50的周面之间也存在化学研磨液，因此玻璃基板100的与搬送辊50的周面接触的部分也被化学研磨液适当地研磨。其结果是，即使将玻璃基板100直接载置于搬送辊50上进行搬送，也难以发生这样的问题，即：产生化学研磨处理的不均匀、或者玻璃基板100的品质劣化。由此，即使不使用夹具，也能够适当地对玻璃基板依次实施化学研磨处理。
进而，如图8(B)所示，关于多个喷射管444(444U、444L)、喷射管282(282U、282L)、喷射管302(302U、302L)以及喷射管322(322U、322L)研磨液喷射单元，优选设置成：与以从上侧喷射研磨液的方式构成的多个喷射管444U、喷射管282U、喷射管302U以及喷射管322U的喷射力相比，以从下侧喷射研磨液的方式构成的多个喷射管444L、喷射管282L、喷射管302L以及喷射管322L的喷射力更强。其理由是，通过这样构成，使向上抬起玻璃基板100的上升力施加到玻璃基板100。如图8(B)所示，通过使上升力作用于玻璃基板100，进一步降低玻璃基板100的主面与搬送辊50的周面之间的摩擦。
这样，由于构成为使搬送辊50的周面与玻璃基板100的主面之间的摩擦力降低且同时不使异物附着于搬送辊50的周面，因此，即使直接将玻璃基板100放置于搬送辊50上，也难以使玻璃基板100污损。因此，容易将玻璃基板100沿搬送辊50的排列水平地搬送。
上述实施方式的说明在所有方面上均为例示，不应认为具有限制性。本发明的范围并不是由上述实施方式，而是由权利要求书表示。进而，本发明的范围包含与专利要求书均等的意义以及该范围内的全部变更。
附图标记说明
10－化学研磨装置
12－搬入部
14－预处理室
16－第1处理室
18－第2处理室
20－第3处理室
22－第4处理室
24－水洗室
26－搬出部
28－第1中继部
30－第2中继部
32－第3中继部
50－搬送辊
282－喷射管
302－喷射管
322－喷射管
444－喷射管
Claims (3)
1.一种化学研磨装置，其构成为对被连续搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理，其特征在于，具备：
多个搬送辊，所述多个搬送辊构成为从下方支承玻璃基板且同时向水平方向搬送玻璃基板，
研磨液喷射单元，所述研磨液喷射单元构成为对由所述多个搬送辊搬送的玻璃基板至少从下侧喷射研磨液，
所述研磨液喷射单元以利用研磨液使至少化学研磨处理空间内的全部的搬送辊的周面形成湿润状态的方式喷射研磨液。
2.如权利要求1所述的化学研磨装置，其特征在于，所述研磨液喷射单元具备下侧研磨液喷射单元和上侧研磨液喷射单元，所述下侧研磨液喷射单元构成为对玻璃基板从下侧喷射研磨液，所述上侧研磨液喷射单元构成为对玻璃基板从上侧喷射研磨液，
所述下侧研磨液喷射单元的喷射力设定为比所述上侧研磨液喷射单元的喷射力强。
3.如权利要求1或2所述的化学研磨装置，其特征在于，进一步具备多个处理室和多个连结部，
所述多个处理室构成为分别对玻璃基板喷射相同组成的化学研磨液，所述多个连结部构成为将各处理室连结，
所述研磨液喷射单元也配置在所述多个连结部。
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