CN104051566A - 具有对流压缩机的热扩散室 - Google Patents

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H.J.普尔
N.贾姆施迪
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Abstract

本发明涉及具有对流压缩机的热扩散室，优选地，公开了支撑容纳室的框架（处理室限制在容纳室内）、以及与密封处理室的外部流体连通的至少一个流体入口结构，该流体入口结构包括至少一个流量调节结构以控制来自流体源且在处理室的外部周围的流体流量，以及与处理室的内部流体连通的开环流体对流系统，其中，该流体对流系统包括延伸到处理室中的旋转压缩机组件。

Description

具有对流压缩机的热扩散室
相关申请
本申请是2010年12月30日提交的名称为“具有热交换器的热扩散室”的美国专利申请第12/982,224号的部分继续申请。
技术领域
所请求保护的发明涉及热扩散室设备以及制造用于生产太阳能电池板的热扩散室的方法的领域，并且更具体地涉及获得被限制在热扩散室内的基片的更均匀热剖面的结构和方法。
背景技术
一种形式的太阳能发电依赖于太阳能电池板，该太阳能电池板进而依赖于所选择材料向基片上的扩散。在一个示例中，将玻璃用作基片，其被暴露于气态硒化物以在基片上形成含有铜、铟和硒化物的膜。已知气态硒化物对人是有毒的，这强调须采用谨慎的处理方法，包括热调节系统。
这样，能够以高效且可靠方式阻止处理室内的气态硒化物移动并泄漏到大气中的热调节系统可以大大改进用于提供含有铜、铟和硒化物的膜（扩散到其内）的基片的热室的操作和生产量。
因此，对于热扩散室的处理室的热调节的改进机构和方法存在着持续需求。
发明内容
根据本发明的各种示例性实施例，优选地提供了支撑容纳室的框架（处理室限制在容纳室内）、以及与密封处理室的外部流体连通的至少一个流体入口结构，该流体入口结构包括至少一个流量调节结构，以控制来自流体源且在处理室的外部周围的流体流量。优选地，该示例性实施例还提供与处理室的内部流体连通的开环流体对流系统，其中，该流体对流系统包括延伸到处理室中的旋转压缩机组件、与流量调节结构相连的控制器、以及至少与流量调节结构和所述控制器相连的控制信号总线，控制信号总线响应于处理室内部的测得内部温度值将控制信号发送至流量调节结构，其中，旋转压缩机组件包括用于在处理室内旋转的中心轴。
附图说明
图1示出了请求保护的本发明的热室的一个示例性实施例的带局部剖视图的正交投影。
图2提供示例性基片支撑框架的正交投影，该示例性基片支撑框架构造成用于图1的热室的示例性实施例。
图3示出了图1的热室的示例性实施例的剖面右侧立面图。
图4示出了图1的热室的示例性实施例的剖面前立面图，示出了排出歧管和管道。
图5提供图1的热室的示例性实施例的、具有附接的入口管道的流体入口结构的放大详细剖面立面图。
图6示出了图1的热室的示例性实施例的剖面右侧立面图，示出了一个示例性的闭环内部热交换器。
图7示出了图1的热室的示例性实施例的剖面右侧立面图，示出了一个示例性的开环内部热交换器。
图8示出了图1的热室的示例性实施例的剖面右侧立面图，示出了一个示例性的内部热传感器。
图9一般性地示出了图1的热室的示例性组合内部热传感器、开环内部热交换器和闭环内部热交换器组件的平面图。
图10示出了图1的热室的具有附接的初级热偏转组件的示例性门的正交投影。
图11提供图10的初级热分散组件的正交投影。
图12示出了图1的热室的次级热分散组件的正交投影。
图13示出了用于冷却图1的热室的内部和外部的冷却热交换系统的示意图。
图14示出了图1的热室的替代示例性组合内部热传感器、开环内部热交换器和闭环内部热交换器组件的平面图。
图15提供图14的替代示例性组合内部热传感器、开环内部热交换器和闭环内部热交换器组件的端视图。
图16示出了图14的替代示例性组合内部热传感器、开环内部热交换器和闭环内部热交换器组件的侧面立面图。
图17a示出了位于图1的热室内的图14的替代示例性组合内部热传感器、开环内部热交换器和闭环内部热交换器组件的端视图。
图17b示出了附接到图17a的热室的底部端口支架的平面图。
图18示出了位于图1的热室内的图14的替代示例性组合内部热传感器、开环内部热交换器和闭环内部热交换器组件的侧面立面图。
图19一般性地示出了形成图1的热室的一个示例性实施例的方法的流程图。
图20示出了形成图1的热室的一个示例性实施例的方法的流程图。
图21示出了形成图1的热室的一个替代示例性实施例的方法的流程图。
图22示出了形成图1的热室的一个替代示例性实施例的方法的流程图。
图23示出了形成图1的热室的一个替代示例性实施例的方法的流程图。
图24示出了请求保护的本发明的开环热交换系统的一个示例性实施例的正交投影。
图25示出了图23的开环热交换系统的示例性实施例的冷却管组件的正交投影。
图26示出了图23的冷却管组件的右侧立面图。
图27示出了冷却管组件的一个优选实施例的右侧立面图。
图28示出了位于热室的处理室内的冷却管组件的一个实施例的右侧剖视图。
图29示出了图1的热室的一个示例性实施例的正交投影，具有与其集成的开环流体对流系统。
图30示出了具有图25的开环流体对流系统的热室的右侧局部剖视图。
图31示出了支撑多个基片且与护罩相连的基片支撑框架的右侧正交投影。
图32示出了封入图21的多个基片的对流管道的一对流量限制盖中的一个盖的局部剖视图。
图33示出了与图25的门组件相互作用的旋转压缩机组件的内部视图。
图34示出了与图33的门组件相互作用的旋转压缩机组件的外部视图。
图35示出了封入图32的多个基片的、对流管道的一对流量限制盖的一部分的局部剖视图。
图36示出了与图1的处理室的门相连的门轮床（gurney）的局部剖视图。
具体实施方式
现在将具体参考附图中所示本发明各种实施例的一个或多个示例。所提供的各示例是以解释本发明的各种实施例为目的，并非意图限制本发明。例如，作为一个实施例的一部分而说明或描述的特征可用于另一个实施例，从而形成不同的实施例。对所描述实施例的其它修改和变更也包含在请求保护的本发明的精神和范围内。
转向附图，图1示出了示例性热扩散室100，该热扩散室100至少包括由框架104支撑的容纳室102。容纳室102进而支撑处理室106，处理室106优选由石英形成，但替代地可由钛或钛合金形成。
优选地，示例性热扩散室100还包括：设置在处理室106和容纳室102之间的热源模块108、形成于处理室106和热源模块108之间的热调节腔110、以及固定到处理室106的边缘且锚固到容纳室102的环圈109。图1还示出提供了至少一个流体入口箱112（本文中也称为流体入口结构112），其与热调节腔110流体连通。
图2示出了构造成用于热扩散室100的示例性实施例（图1）的示例性基片支撑框架113。在一个优选实施例中，基片支撑框架113优选地由石英形成，但替代地可由钛或钛合金形成，并且基片支撑框架113容纳多个基片115（示出了一块）。在一个替代实施例中，基片支撑框架113由钛形成。在操作中，用基片115填充基片支撑框架113达最大限度，再将基片支撑框架113定位在处理室106内。在处理室106内，基片支撑框架113在扩散过程中起基片115的固定物的作用。优选地，基片115的形状是宽度大致为650毫米且长度大致为1650毫米的长方形，并且基片115由玻璃（优选钠钙硅玻璃）形成。
图3示出了热扩散室100的一个示例性实施例，该热扩散室100包括与热调节腔110流体连通的流体入口结构112。图3中还示出了优选地位于热源模块108和处理室106之间的多个支架114。
在一个优选的示例性实施例中，热源模块由多个加热器116（本文中也称为热源）形成，在一个示例性实施例中，热源模块由总共大致为二十二（22）个加热器组成。优选地，每个加热器提供加热器壳体118、与加热器壳体118相邻的加热器绝缘体120、以及多个加热元件122。在一个示例性实施例中，加热元件122由电流提供动力，并且优选地是线圈元件。然而，注意到术语“热源”并不局限于所公开的多个加热器116。热源116也可以是天然气、过热蒸汽、地热能、或者任何其它能量源，以用于在处理室106内产生期望温度。
返回到图1，其示出流体入口结构112还包括固定到入口歧管126的入口管道124。优选地，入口歧管126把空气输送至空气入口结构112，以便遍布在处理室106上，如图3中所示。
图3还示出了示例性热扩散室100包括吹洗管道128，该吹洗管道128与热调节腔110流体连通并且固定到出口歧管130，该出口歧管130选择性地提供小于大气压的内部压力，以便把空气经过流体入口结构112吸入使其在处理室106周围流动再流出吹洗管道128。
亦如图3中所示，多个外部热传感器132与处理室106接触邻接，延伸穿过相应的加热器116并且具有用于从容纳室102外侧连接的电导线133。在示例性热扩散室100的一个优选操作模式中，流体流动被延缓，即流体流动经历流体流量调节，以便提供处理室106外部温度的更准确读数。从多个外部热传感器132采集的信息被用于对由图8的内部热传感器组件158所采集的信息进行相互校验。优选地，由内部热传感器采集的信息被用于确定哪个空气入口结构112应该经历流体流量的限制以及应该对哪个空气入口结构112进行调节以便获得最大流体流量。
通过调节经过多个空气入口结构112的流体流量，可以实现处理室106的更均匀冷却。此外，在示例性热扩散室100的一个替代优选操作模式中，内部热传感器组件158在来自多个外部热传感器132的额外输入的情况下提供信息，用于调节在处理室106加热周期期间被供应至加热元件122的功率的量。亦即，在处理室106的加热周期期间，将功率提供至多个加热器116的每个加热器。通过调节被提供至多个加热器116的每个加热器的功率，可实现处理室106的更均匀加热。
图4示出了流体入口结构112包括阀134，阀134减小从热调节腔110经过流体入口结构112流到容纳室102外部的流体的流量。图4还示出了流体入口结构112包括流量调节结构136，流量调节结构136优选地包括由马达137控制的定位轴135。响应于马达137的转动，定位轴135与阀134相互作用以控制从容纳室102外部经过阀134流入热调节腔110的流体的流量。
图5提供了流体入口结构112的更详细视图。在一个优选实施例中，流体入口结构112还包括支撑入口管道124的流入端口138，入口管道124与阀134接触邻接。优选地，流体入口结构112还包括排出端口140，该排出端口140支撑与热调节腔110流体连通的出口管道142。在流体入口结构112的操作期间，马达137的一对夹送滚轮139作用于定位轴135上以改变定位轴135相对于阀134的位置。
如图5中所示，在一个优选实施例中，除了提供支撑出口管道142的排出端口140外，流体入口结构112还提供具有近端和远端的延伸管道150，近端与出口管道142接触邻接且固定到出口管道142，延伸管道150被设置成把来自容纳室102的流体传输至图4的热调节腔110。延伸管道150的远端优选地设置有固定在其上的扩散构件152，其中，扩散构件152构造成阻止来自容纳室102外部的流体在垂直于处理室106外部的流体流中被提供至图4的处理室106。
图5还示出流体入口结构112还提供设置在阀134和枢轴支架156之间的枢轴销154。枢轴支架156被固定在入口管道124附近。当流体被吸入热调节腔110时，枢轴销154连同流量调节结构136一起促进阀134从与入口管道124接触邻接进行受控制的、预定的、可调节移位。当中止来自容纳室102外部的流体流动时，枢轴销154还促进与入口管道124相邻的阀134的闭合。换句话说，当流体未被吸入热调节腔110时，闭合的阀134阻止流体从热调节室110流到容纳室102的外部。
图6示出了热扩散室100的一个示例性实施例包括与热调节腔110流体连通的流体入口结构112。图6还示出了室门160。优选地，室门160包括固定到主体部164的面板162以及固定到面板162的初级热分散组件166。除底部外，初级热分散组件166被设置成非常靠近密封的处理室168（本文中也称为处理室168）的内表面。优选地，当把室门160固定成与处理室106密封接触时形成了密封的处理室168。
在图6的示例性实施例中，次级热分散组件170与初级热分散组件166对准，并且优选地与密封处理室168的内表面的壁相连。连同多个支架构件172，次级热分散组件170限制并支撑与密封处理室168的壁相邻的闭环热交换器174。闭环热交换器174提供用于使流体在密封处理室168内部循环的装置，以在热扩散室100的处理周期期间促进密封处理室168的内部的冷却。
图7示出了热扩散室100的一个替代示例性实施例包括与热调节腔110流体连通的流体入口结构112。图7中还示出了室门160，该室门160优选地包括固定到主体部164的面板162以及固定到面板162的初级热分散组件166。除底部外，初级热分散组件166被设置成非常靠近密封处理室168的内表面。
在图7的替代示例性实施例中，优选地，次级热分散组件170与初级热分散组件166对准并且搁置在密封处理室168的内表面的底部上。连同多个支架构件176，次级热分散组件170限制并支撑与密封处理室168的底部相邻的开环热交换器178。开环热交换器178提供多个供应端口180，在热扩散室100的处理周期期间可经过该供应端口将流体导入密封处理室168以促进对密封处理室168的冷却。
图8示出了热扩散室100的一个替代示例性实施例包括与热调节腔110流体连通的流体入口结构112。图8中还示出了室门160，该室门160优选地包括固定到主体部164的面板162以及固定到面板162的初级热分散组件166。除底部外，初级热分散组件166被设置成非常靠近密封处理室168的内表面。
在图8的替代示例性实施例中，次级热分散组件170与初级热分散组件166对准并且搁置在密封处理室168的内表面的底部上。连同多个支架构件182，次级热分散组件170限制并支撑与密封处理室168的底部相邻的热传感器组件158。优选地，热传感器组件158提供沿密封处理室168的长度设置的多个热电偶184。多个热电偶184对密封处理室168的内部的温度变化做出响应。优选地，热传感器组件158还包括传感器管道186，该传感器管道186从密封处理室168的开口至少延伸经过密封处理室168的中部。传感器管道186保护多个热电偶184以免暴露于密封处理室168的内部环境。
图8还示出了热传感器组件158优选地还包括多条信号线188，这些信号线188连接到并且对应于多个热电偶184的每个热电偶。响应于密封处理室168的内部的温度变化，每条信号线188把信号传输至密封处理室168的外部。
如图9的优选实施例中所示，组合的热交换组件190包括以下的每一个：图6的闭环热交换器174、图7的开环热交换器178以及图8的热传感器组件158。闭环热交换器174、开环热交换器178和热传感器组件158各自被多个热交换器支架192支撑，并且附接到次级热分散组件170且被次级热分散组件170限制。
图10提供室门160的更详细图示。优选地，室门160包括固定到主体部164的面板162以及固定到面板162的灯支架（lamp support）194。如图10中所示，室门160还包括初级热分散组件166，同时灯支架194提供多个对准槽口195（图11中所示），在图8的热扩散室100的操作模式期间，热分散组件166被对准且搁置在对准槽口195上。
图11还示出了初级热分散组件166至少包括与多个辐射反射板197相邻的扩散板196。扩散板195和多个辐射反射板197优选地被灯支架194保持成处于对准。在一个优选的示例性实施例中，主体部164、面板162和热分散组件166优选地由石英形成，但替代地可由钛或钛合金形成。
图12示出次级热分散组件170提供多个进入端口198，进入端口198用于对准、支撑和限制图8的每个闭环热交换器174、开环热交换器178和热传感器组件158。优选地，次级热分散组件170至少包括与多个辐射反射板197a相邻的扩散板196，在一个优选实施例中，多个辐射反射板197a由石英形成，但替代地可由钛或钛合金形成。
图13示出了用于在热扩散室100的处理周期期间冷却密封热室168的内部和外部的热交换系统200的示意图。在一个优选实施例中，热交换系统200包括控制系统202（本文中也称为控制器202），该控制系统分别与第一流体处理系统216、第二流体处理系统218和第三流体处理系统220相连。优选地，控制系统202至少包括控制信号总线222和控制器202，控制信号总线222至少与第一、第二和第三流体处理系统216、218、220相连。
在一个优选实施例中，控制器202至少包括与控制信号总线222相连的输入/输出模块204、与输入/输出模块204相连的处理器206、存储控制逻辑210且与处理器206相连的存储器208、与处理器206相连的输入装置212、以及与处理器206相连的显示器214。
在热室100的优选操作期间，当输入/输出模块204接收到在密封处理室168的外部周围流动的第一流体的测得温度值时，输入/输出模块204把在密封处理室168外部的周围流动的第一流体的所述测得温度值提供至处理器206。处理器206访问所存储的控制逻辑210并且基于在密封处理室168的外部周围流动的第一流体的测得温度值而确定控制信号。处理器206将该控制信号传输至输入/输出模块204，输入/输出模块204把控制信号经由控制信号总线222传送至第一流体处理系统216。
优选地，处理器206还基于从与第一流体处理系统216的流体传输装置226相连的流量使用监测装置224所接收的数据而确定流经第一流体处理系统216的流体的使用中流量百分率。处理器206进一步优选地把第一流体传输装置226的使用中流量百分率以及在密封处理室168的外部周围流动的第一流体的测得温度值提供至显示器214。
图13的示意图示出热交换系统200优选地响应于由处理器206生成的且被控制信号总线222提供至多个控制阀228的每个控制阀的控制信号而利用多个控制阀228来控制分别流经第一、第二和第三流体处理系统216、218、220的流体的流量。图13还示出了热交换系统200优选地利用多个止回阀230来控制流体分别经过第一、第二和第三流体处理系统216、218、220的回流，并且利用多个热传感器232将温度测量值提供至处理器206，处理器206基于该温度测量值来确定将要被传送至多个控制阀228的每个相应控制阀的多个控制信号。
图13还提供了流动方向符号234，该符号234显示流经每个相应第一、第二和第三流体处理系统216、218、220的流体处理系统的流体的流动方向，并且多个热传感器232的每个热传感器以及多个控制阀228的每个控制阀与控制信号总线222相连。在一个优选实施例中，第一流体处理系统216至少包括与至少一个流体入口结构112流体连通的第一流体传输装置226。至少一个流体入口结构112优选地与密封处理室168的外部流体连通，并且至少一个流体入口结构112至少包括：流量调节结构137，以控制在密封处理室168的外部周围流动的第一流体的流量（图5）；以及分别与密封处理室168的外部和第一流体传输装置226流体连通的流体返回管道130，流体返回管道130使在密封处理室168周围流动的第一流体返回至第一流体传输装置226。
如图13中所示，第一流体处理系统216优选地包括分别与返回的第一流体和控制系统202相连的多个流体传感器232中的第一热传感器，该第一热传感器测量返回的第一流体的温度值且把该值提供至控制系统202。当控制系统202接收到测得的温度值时，控制系统202的处理器206对测得的温度值与预定的温度值进行比较并且把控制信号发送至设置在流体返回管道130和第一流体传输装置226之间的多个控制阀228的第一控制阀。第一控制阀响应于控制信号而调节从密封处理室168的外部至第一流体传输装置226的返回的第一流体的流量。
亦如图13中所示，第一流体处理系统216优选地还包括在线流体加热器236，例如由美国Danvers Main的OSRAM Sylvania公司制造的SureHeat MAX®。优选地，把在线流体加热器236安装（plumbed）在第一流体处理系统216中，位于流体传输装置226和多个流体入口箱112之间。通过响应于来自处理器206的由控制信号总线222提供的控制信号而启动第二控制阀，可以选择性将在线流体加热器236包括在第一流体的流体路径中，所述控制信号基于由对离开流体传输装置226的第一流体进行测量的第二热传感器所提供的温度测量值。优选地，当离开流体传输装置226的第一流体的流出温度低于流体入口结构112的期望入口温度时，使用在线流体加热器236。
此外，第一流体处理系统216优选地还包括热交换器238，该热交换器238在第一流体处理系统216外部并且被安装到第一流体处理系统216中，位于热扩散室100和流体传输装置226之间。通过响应于来自处理器206的由控制信号总线222提供的控制信号而启动第三控制阀，可以选择性地将热交换器238包括在第一流体的流体路径中，所述控制信号基于由对离开热扩散室100的第一流体进行测量的第三热传感器所提供的温度测量值。优选地，利用热交换器238来保护流体传输装置226免于经历超过其操作参数的热状态。
为了提供有关多个热源116的每个热源（图8）的使用中热容量的数据，第一流体处理系统216优选地还包括能量使用监测装置240，该能量使用监测装置240分别与多个热源116的每个加热元件130和控制系统202相连。优选地，利用能量使用监测装置240来防止多个热源116的每个热源发生热逸溃。亦即，当多个热源116中的任一热源超过优选的预定使用百分率时，处理器206向能量源控制单元发出命令，指示能量源控制单元停止向超过操作范围的热源116提供能量。处理器还优选地把多个热源116的每个热源的使用中热容量状态提供至显示器214，以便显示器214进行显示。
在图13所示的优选实施例中，第三流体处理系统220优选地至少包括与至少一个流体分配管道244流体连通的封闭系统流体传输装置242。至少一个流体分配管道244优选地与密封处理室168的内部流体连通。优选地，将供给管道246设置在第二流体传输装置242和至少一个流体分配管道244之间。供给管道246优选地把第二流体从第二流体传输装置242传送到至少一个流体分配管道244。
第二流体处理系统218还优选地提供设置在供给管道246和至少一个流体分配管道244之间的止回阀，该止回阀减小从密封处理室168的内部向第二流体传输装置242的回流。此外，优选地将内部流体控制阀安装在第二流体传输装置242和至少一个流体分配管道244之间，以控制流入密封处理室168的内部的第二流体的流量。该优选实施例还提供与密封处理室168的内部和第二流体传输装置242流体连通的流体收集管道248。流体收集管道248使流入密封处理室168内部的第二流体返回至第二流体传输装置242。
优选地，第二流体处理系统218提供与返回的第二流体和控制系统202相连的第四热传感器。第四热传感器优选地测量返回的第二流体的温度值并且把所述测得的温度值提供至控制系统202。当控制系统202接收到测得的温度值时，控制系统202对测得的温度值与预定的温度值进行比较并且把内部流体控制阀信号发送至内部流体控制阀，以响应于内部流体控制阀信号而调节来自第二流体传输装置242的返回的第二流体的流量。
亦如图13中所示，第二流体处理系统218优选地还包括在线流体加热器236，例如由美国Danvers Main的OSRAM Sylvania公司制造的SureHeat MAX®。优选地，将在线加热器236安装在第二流体处理系统218中，位于流体传输装置242和供给管道246之间。通过响应于来自处理器206的由控制信号总线222提供的控制信号而启动第四控制阀，可以选择性地把在线流体加热器236包括在第二流体的流体路径中。控制信号优选地基于由对离开流体传输装置242的第二流体进行测量的第五热传感器所提供的温度测量值。优选地，当离开流体传输装置242的第二流体的流出温度低于至少一个流体分配管道244的期望入口温度时，使用在线流体加热器236。
此外，第二流体处理系统218优选地还包括热交换器250，热交换器250在第二流体处理系统218外部并且安装到第二流体处理系统218中，位于流体收集管道248和第二流体传输装置242之间。通过响应于来自处理器206的由控制信号总线222提供的控制信号而启动第五控制阀，可以选择性地把热交换器250包括在第二流体的流体路径中，所述控制信号基于由对进入流体收集管道248的第二流体进行测量的第六热传感器所提供的温度测量值。
优选地，利用热交换器250来保护流体传输装置242免于经历超过其操作参数的热状态。另外，为了提供有关流体传输装置242的使用百分率的数据，优选地利用流量使用监测装置252来防止超过流体传输装置242的操作容量。
在图13中所示的优选实施例中，第三流体处理系统220优选地是闭环流体处理系统220。亦即，将第三流体与在闭环流体处理系统220外部的所有环境相隔离。闭环流体处理系统220优选地至少包括与至少一个流体分配管道256流体连通的闭环流体传输装置254。至少一个流体分配管道256优选地与密封处理室168的内部相邻。优选地，将供给管道258设置在闭环流体传输装置254和至少一个流体分配管道256之间。供给管道258优选地将被隔离的第三流体从闭环流体传输装置254传送到至少一个流体分配管道244。
闭环流体处理系统220还优选地提供设置在供给管道258和至少一个流体分配管道256之间的止回阀，该止回阀减小从至少一个流体分配管道256向闭环流体传输装置254的回流。此外，优选地，将第六流体控制阀安装在闭环流体传输装置254和至少一个流体分配管道256之间，以控制流入至少一个流体分配管道256中的被隔离的第三流体的流量。该优选实施例还提供与返回管道262和闭环流体传输装置254流体连通的流体收集管道260。流体收集管道260使流入至少一个流体分配管道256的被隔离的第三流体返回。
优选地，第二流体处理系统220提供与返回的被隔离的第三流体和控制系统202相连的第七热传感器。第七热传感器优选地测量返回的被隔离的第三流体的温度值并且把所述测得的温度值提供至控制系统202。当控制系统202接收到测得的温度值时，控制系统202对测得的温度值与预定的温度值进行比较并且把流体控制阀信号发送至流体控制阀，该流体控制阀优选地安装在流体收集管道260和返回管道262之间。该流体控制阀优选地用于响应于流体控制阀信号而调节返回的被隔离的第三流体从返回管道262流动至闭环流体传输装置254的流量。
亦如图13中所示，闭环流体处理系统220优选地还包括在线流体加热器264，例如由美国Danvers Main的OSRAM Sylvania公司制造的SureHeat MAX®。优选地，把在线流体加热器264安装到闭环流体处理系统220中，位于供给管道258和至少一个流体分配管道256之间。在闭环流体处理系统220的操作模式期间，可以响应于控制信号而使在线流体加热器236选择性地接合或者脱开。该控制信号优选地基于由第八热传感器提供的温度测量值，第八热传感器测量离开外部气体－气体热交换器266的被隔离的第三流体。优选地，把外部气体－气体热交换器266安装到闭环流体处理系统220中，位于供给管道258和闭环流体传输装置254之间。优选地，当离开外部气体－气体热交换器266的被隔离的第三流体的流出温度低于至少一个流体分配管道256的期望入口温度时，使用在线流体加热器264。优选地，外部气体－气体热交换器266从由返回管道262提供的被隔离的第三流体中取出热量，并且把取出的热量传输至由闭环流体传输装置254提供的被隔离的第三流体。
此外，闭环流体处理系统220优选地还包括热交换器268，热交换器268在闭环流体传输装置254内部并且安装在闭环流体传输装置254内。通过响应于来自处理器206的由控制信号总线222提供的控制信号而启动第六控制阀，可以将热交换器268选择性地包括在被隔离的第三流体的流体路径中，所述控制信号基于由对离开外部气体－气体热交换器266的被隔离的第三流体进行测量的第九热传感器所提供的温度测量值。
优选地，利用热交换器268来保护容纳在闭环流体传输装置254内的流体推进装置270免于经历超过流体推进装置270的操作参数的热状态。另外，为了提供有关闭环流体传输装置254的使用百分率的数据，优选地利用流量使用监测装置272来防止超过流体推进装置270的操作容量，同时被连接到流体推进装置270的驱动系统274操作。在一个优选实施例中，将被隔离的第三流体保持在低于大气压的压力，同时使该流体处于环境温度，从而允许当被隔离的第三流体从密封处理室168的内部吸收热能时被隔离的第三流体发生热膨胀。
注意到第一流体、第二流体和被隔离的第三流体分别可以是一些流体中的任一种流体，包括但不限于空气、水、氮气、氦气、丙二醇、乙二醇、或者任何其它适合热传递的流体。
还应注意到图13示出了优选实施例热交换系统200包括示例性的组合热交换组件190，其优选地包括以下每一个：图6的闭环热交换器174、图7的开环热交换器178和图8的热传感器组件158。
本领域技术人员将理解的是图13内在地示出了替代实施例。这些替代实施例中的一些实施例包括但不限于：与密封处理室168的外部流体连通的流体处理系统（例如216），连同与密封处理室168的内部流体连通的闭环热交换系统。其中，控制系统202分别与流体处理系统216和闭环热交换系统相连，并且响应于密封处理室168的测得的内部温度而分别设定在密封处理室168的外部周围流动的流体以及流经闭环热交换系统的流体的流速。
在该替代实施例中，闭环热交换系统优选地至少包括流体传输装置，该流体传输装置例如是与至少一个闭环热交换器（例如图6的闭环热交换器174）流体连通的闭环流体传输装置254。在本替代实施例中，示例性闭环热交换器174的外表面与密封处理室168的内表面相邻。
第二替代实施例至少包括与密封处理室168的外部流体连通的流体处理系统（例如216），连同与密封处理室168的内部流体连通的开环热交换系统。第二替代实施例优选地还包括控制系统202，该控制系统202分别与流体处理系统216和开环热交换系统相连并且响应于密封处理室的测得的内部温度而分别设定在密封处理室168的外部周围流动的流体以及流经开环热交换系统并流入密封处理室168处理腔的流体的流速。
在第二替代实施例中，开环热交换系统优选地至少包括流体传输装置，该流体传输装置例如是与至少一个开环热交换器（例如图7的开环热换器178）流体连通的流体传输装置242。在该替代实施例中，示例性闭环热交换器174的外表面与密封处理室168的内表面相邻。
第三替代实施例至少包括与密封处理室168的外部流体连通的流体处理系统（例如216），连同闭环热交换系统和开环热交换系统，其中，开环和闭环热交换系统均与密封处理室168的内部流体连通。
第三替代实施例优选地还包括控制系统202，该控制系统202分别与流体处理系统216、闭环热交换系统和开环热交换系统相连，并且响应于密封处理室的测得的内部温度而分别设定在密封处理室168的外部周围流动的流体、流经每个开环和闭环热交换系统并流入密封处理室168处理腔的流体的流速。
在第三替代实施例中，开环热交换系统优选地至少包括流体传输装置，该流体传输装置例如是与至少一个开环热交换器（例如图7的开环热交换器178）流体连通的流体传输装置242。在本替代实施例中，示例性闭环热交换器174的外表面与密封处理室168的内表面相邻。此外，在第三替代实施例中，闭环热交换系统优选地至少包括流体传输装置，该流体传输装置例如是与至少一个闭环热交换器（例如图6的闭环热交换器174）流体连通的闭环流体传输装置254。在该替代实施例中，示例性闭环热交换器174的外表面与密封处理室168的内表面相邻。
转向图14，示出了组合热交换组件276的一个替代示例性实施例，其优选地包括以下每一个：闭环热交换器278、开环热交换器280以及图8的热传感器组件158。闭环热交换器278、开环热交换器280和热传感器组件158各自被多个热交换器支架192支撑，并且附接到图17的底部端口框架284并且被底部端口框架284限制，底部端口框架284被附接在图17的密封处理室168的进入端口286附近。
图15示出了示例性组合热交换组件276的前立面图。优选地，组合热交换组件276至少包括与热传感器组件相邻的闭环热交换器278，各自被多个热交换器支架192支撑。图16示出了示例性组合热交换组件276的右侧立面图。优选地，组合热交换组件276至少包括分别与开环热交换器280和热传感器组件158相邻的闭环热交换器278。
图17a示出了设置在热扩散系统294的密封处理室168内的示例性组合热交换组件276的前立面图。热交换组件276优选至少地包括与热传感器组件相邻的闭环热交换器278并且各自固定到底部端口支架284，并且突出穿过图17的密封处理室168的进入端口286，并且被多个热交换器支架192支撑。
图17b示出了底部端口支架284的平面图，显示了：一对闭环进入端口288，闭环热交换器278经过一对闭环进入端口288进入密封处理室168的内部；一对开环进入端口290，开环热交换器280经过一对开环进入端口290进入密封处理室168的内部；以及热传感器进入端口292，热传感器组件158经过热传感器进入端口292进入密封处理室168的内部。
图18示出了示例性扩散室294的右侧立面图，其优选地包括与密封处理室168的内表面相邻的组合热交换组件276。优选地，组合热交换组件276至少包括分别与开环热交换器280和热传感器组件158相邻的闭环热交换器278。图18还示出了组合热交换组件276被多个热交换器支架192支撑并且固定到底部端口支架284。
图19示出了制造热室300的示例性方法，该方法开始于开始步骤302接着是处理步骤304。在处理步骤304，提供框架（例如104）。在处理步骤306，容纳室（例如102）被支撑并固定到框架。在处理步骤308，热源模块被设置在容纳室内并被容纳室限制。在处理步骤310，密封处理室（例如168）被限制在热源模块内。优选地，该密封处理室至少包括内表面和外表面。
在处理步骤312，优选地把流体入口结构（例如112）固定到容纳室，与热调节腔流体连通。优选地，流体入口结构提供阀（例如134），该阀减小从热调节腔经过流体入口结构流到大气中的气体的流量，并且其中，流体入口结构还包括流量调节结构（例如136），该流量调节结构与所述阀相互作用以控制从大气经过所述阀流入热调节腔的流体流量。
在处理步骤314，把热传感器组件（例如158）设置在密封处理室内。在处理步骤316，把控制器（例如204）分别连接到流量调节结构（例如136）和热组件，并且所述过程结束于结束处理步骤318。
图20提供制造热室400的一种示例性方法，该方法开始于开始步骤402接着是处理步骤404。在处理步骤404，提供框架（例如104）。在处理步骤406，容纳室（例如102）被支撑并固定到框架。在处理步骤408，热源模块被设置在容纳室内并且被容纳室限制。在处理步骤410，密封处理室（例如168）被限制在热源模块内。优选地，该密封处理室至少包括内表面和外表面。
在处理步骤412，将第一流体处理系统（例如216）优选地固定成与密封处理室的外部流体连通。优选地，第一流体处理系统提供流体入口结构（例如112），该流体入口结构进而提供阀（例如134）。该阀减小从热调节腔经过流体入口结构流到容纳室外部的流体的流量，并且其中，流体入口结构还包括流量调节结构（例如136），该流量调节结构与阀相互作用以控制从容纳室外部经过阀流入热调节腔的流体流量。
在处理步骤414，优选地将第二流体处理系统（例如218或220）定位成与密封处理室的内部流体连通。优选地，第二流体处理系统提供用于在热扩散过程周期期间将流体传输进出密封处理室的内部的装置。在处理步骤416，把控制器（例如204）分别连接到第一和第二流体处理系统，并且所述过程结束于结束处理步骤418。
图21提供制造热室500的一种示例性方法，该方法开始于开始步骤502接着是处理步骤504。在处理步骤504，提供框架（例如104）。在处理步骤506，容纳室（例如102）被支撑并固定到框架。在处理步骤508，热源模块被设置在容纳室内并且被容纳室限制。在处理步骤510，密封处理室（例如168）被限制在热源模块内。优选地，该密封处理室至少包括内表面和外表面。
在处理步骤512，将流体处理系统（例如216）优选地固定成与密封处理室的外部流体连通。优选地，第一流体处理系统提供流体入口结构（例如112），该流体入口结构进而提供阀（例如134）。该阀减小从热调节腔经过流体入口结构流到容纳室外部的流体的流量，并且其中，流体入口结构还包括流量调节结构（例如136），该流量调节结构与该阀相互作用以控制从容纳室外部经过该阀流入热调节腔的流体流量。
在处理步骤514，将闭环热交换系统（例如图13的296）优选地定位成与密封处理室的内部流体连通。优选地，该闭环热交换系统提供用于在热扩散过程周期期间在不使所传输的流体暴露于密封处理室的内部环境的情况下把流体传输进出密封处理室的内部的装置。在处理步骤516，把控制器（例如204）分别连接到流体处理系统和闭环热交换系统，并且所述过程结束于结束处理步骤518。
图22提供制造热室600的一种示例性方法，该方法开始于开始步骤602接着是处理步骤604。在处理步骤604，提供框架（例如104）。在处理步骤606，容纳室（例如102）被支撑并固定到该框架。在处理步骤608，热源模块被设置在容纳室内并且被容纳室限制。在处理步骤610，密封处理室（例如168）被限制在热源模块内。优选地，密封处理室至少包括内表面和外表面。
在处理步骤612，将流体处理系统（例如216）优选地固定成与密封处理室的外部流体连通。优选地，第一流体处理系统提供流体入口结构（例如112），该流体入口结构进而提供阀（例如134）。该阀减小从热调节腔经过流体入口结构流动到容纳室外部的流体的流量，并且其中，流体入口结构还包括流量调节结构（例如136），该流量调节结构与该阀相互作用以控制从容纳室的外部经过该阀流入热调节腔的流体流量。
在处理步骤614，将开环热交换系统（例如图13的298）优选地定位成与密封处理室的内部流体连通。优选地，该环热交换系统提供用于在热扩散过程周期期间通过推动所传输的流体经过密封处理室的内部环境而把流体传输进出密封处理室的内部的装置。在处理步骤616，将控制器（例如204）分别连接到流体处理系统和开环热交换系统，并且所述过程结束于结束处理步骤618。
图23提供制造热室700的一种示例性方法，该方法开始于开始步骤702接着是处理步骤704。在处理步骤704，提供框架（例如104）。在处理步骤706，容纳室（例如102）被支撑并固定到框架。在处理步骤708，热源模块被设置在容纳室内并且被容纳室限制。在处理步骤710，密封处理室（例如168）被限制在热源模块内。优选地，密封处理室至少包括内表面和外表面。
在处理步骤712，流体处理系统（例如216）优选地被固定成与密封处理室的外部流体连通。优选地，第一流体处理系统提供流体入口结构（例如112），该流体入口结构进而提供阀（例如134）。该阀减小从热调节腔经过流体入口结构流到容纳室外部的流体的流量，并且其中，流体入口结构还包括流量调节结构（例如136），该流量调节结构与阀相互作用以控制从容纳室外部经过阀流入热调节腔的流体流量。
在处理步骤714，将开环热交换系统（例如图13的298）优选地定位成与密封处理室的内部流体连通。优选地，该环热交换系统提供用于在热扩散过程周期期间通过提供推动所传输的流体经过密封处理室的内部环境而将流体传输进出密封处理室的内部的装置。
在处理步骤716，将闭环热交换系统（例如图13的296）优选地定位成与密封处理室的内部流体连通。优选地，该闭环热交换系统提供用于在热扩散过程周期期间在不使所传输的流体暴露于密封处理室的内部环境的情况下把流体传输进出密封处理室的内部的装置。
在处理步骤718，将控制器（例如204）分别连接到流体处理系统和开环热交换系统，并且所述过程结束于结束处理步骤720。
图24示出了所请求保护的主题的示例性开环热交换系统844，其优选地包括冷却管组件846，该冷却管组件846经由入口管道组件850和出口管道组件852与空气处理单元848（本文中也称为流体处理单元848）连通。图24还示出示例性开环热交换系统844优选地包括设置在出口管道组件852和空气处理单元848之间的热交换器854。
图25示出在一个优选实施例中，冷却管组件846包括出口歧管856，该出口歧管856支撑热分散隔板858并且与多个出口冷却管860连通。图25还示出在该优选实施例中，冷却管组846包括与多个入口冷却管864连通的入口歧管862以及一对管保持组件866和868，管保持组件866和868分别将冷却管组件860和864分开并且将冷却管组件860和864相互固定。
返回图24，优选的出口管道组件852包括与出口歧管856连通的出口集管870、与出口集管870和返回管路874协作且设置在出口集管870和返回管路874之间的蓄积器872。优选地，返回管路874直接地与热交换器854相互连接。注意到已发现由美国Alabama州Montgomery的ThermaSys公司制造的ThermaSys热交换器部件号SSC-1260-0可用作在所请求保护的主题中使用的热交换器，但不是在所请求保护的主题中必须使用的热交换器。
图24还示出了该优选的入口管道组件850包括与入口歧管862连通的入口集管876、与入口集管876和供给管路880协作的入口蓄积器878。图24中还示出了源管路882，源管路882直接地连接到第一隔离阀884中，其前面结束于空气处理单元848，并且示出了第二隔离阀886，第二隔离阀886设置在空气处理单元848和供给管路880之间并且直接与空气处理单元848和供给管路880相互连接。第一隔离阀884设置在热交换器854和流体处理单元848之间并且与热交换器854和流体处理单元848流体连通，而第二隔离阀886设置在流体处理单元848和冷却管组件846之间并且与流体处理单元848和冷却管组件846流体连通。
图26示出了冷却管组件846的右侧面立面图，其优选地包括支撑第一组热分散隔板858的出口歧管856以及支撑第二热分散隔板888的入口歧管862。
图27示出了冷却管组件890的一个优选实施例的右侧面立面图，其优选地包括支撑第一组热分散隔板858的出口歧管856以及支撑第二热分散隔板888的入口歧管862。
图28示出了位于热室100的处理室106内的冷却管组件846的剖面图。图28还示出了固定到环圈109的冷却管组件846。注意到在本实施例中，出口冷却管860突出至处理室106的大约中点。已显示本特定实施例产生了相当有利的结果。图28所示的其余附图标记重复了图6的附图标记。因此，对图6的描述的回顾将有助于理解热室100的其它结构性特征。
再次转向图24，第一隔离阀884与热交换器854连通。在一个优选实施例中，热交换器854包括热交换芯892、与热交换芯892连通的流体输入端口894、与热交换芯892连通且从所述流体输入端口894偏移的流体输出端口896、与热交换芯892流体连通的冷却剂输入端口898、以及与热交换芯892流体连通且被热交换芯892从冷却剂输入端口898偏移的冷却剂输出端口900。
图29示出了热扩散室902的一个示例性实施例，具有与其集成的开环流体对流系统904。热扩散室902优选地至少包括被框架907支撑的容纳室906。
图30示出了热扩散室902优选地还包括被容纳室906限制的密封处理室908、以及与密封处理室908的外部流体连通的流体入口导管910。优选地，流体入口导管910至少包括（图4的）流量调节结构136，以控制来自流体源912在密封处理室908的外部周围的流体流量。图30还示出开环流体对流系统904优选地与密封处理室908的内部914流体连通，并且流体对流系统904优选地包括旋转压缩机组件916，该旋转压缩机组件916优选地由石英形成，但替代地可由钛或钛合金形成，并且延伸到密封处理室908中。
此外，图30示出在一个优选实施例中，热扩散室902包括设置在容纳室906和处理室908之间的热源模块918、以及设置在密封处理室908的内部且与密封处理室908的壁相邻的热传感器组件920，热传感器组件920测量密封处理室908的内部温度值，并且其中，开环流体对流系统904还至少护罩922，护罩922优选地由石英形成但替代地可由钛或钛合金形成，并且与旋转压缩机组件916相邻。
继续参照图30，优选地，热扩散室902至少还包括与（图29的）流量调节结构136和热传感器组件920相连的（图29的）控制器924，控制器924优选地响应于密封处理室908的测得的内部温度值而设定流量调节结构136的流动位置，以调节从流体源912经过流体入口导管910并且在密封处理室908的外部周围的流体流量，并且其中，优选地与旋转压缩机组件916相邻的护罩922与（图31的）基片支撑框架925相连。
图31示出了基片支撑框架925的一个优选实施例，该基片支撑框架925支撑多个基片926并且与护罩922相连，而图32示出了优选的对流管道928，该优选的对流管道928由多个基片926中的一对基片930以及一对流量限制盖932形成，所述一对基片930布置成分别与基片支撑框架925的侧面相邻，所述一对流量限制盖932优选地布置成分别与基片支撑框架925的顶侧和基片支撑框架925的底侧相邻，对流管道928优选地与护罩922相邻。基片支撑框架925和流量限制盖912均优选地由石英形成，但替代地可由钛或钛合金形成。
图33示出在一个优选实施例中，马达934与旋转压缩机组件916和（图29的）马达控制器936相连。马达控制器936优选地与马达934相连，并且对（图30的）热传感器组件920做出响应。在一个优选实施例中，马达934是交流电马达，但正如本领域技术人员将认识到的，马达934也可以是直流电马达、液压马达、气动马达、或者其它产生旋转运动的装置。
图33还示出旋转压缩机组件916优选地至少包括对马达934做出响应的中心轴938、固定到中心轴938以便与中心轴938一起旋转的后板940、以及径向设置在中心轴938周围且从后板940延伸并固定到面板946的多个叶片942。优选地，后板940、面板946和叶片942优选地由石英形成，但替代地可由钛或钛合金形成。
图34示出了与门组件948相互作用的旋转压缩机组件916的外部视图，而图35示出了对流管道928的优选的一对流量限制盖932的一部分的局部剖视图，其封住（图32的）多个基片930。图35还示出热扩散室902的旋转压缩机组件916优选地包括中心轴衬套950（本领域技术人员也可称之为栅栏组件），其支撑中心轴938并且固定到与密封处理室908相连的（图34的）门组件948。优选地，旋转压缩机组件916还包括与中心轴衬套950协作的衬套冷却装置952，该衬套冷却装置952可用于调节中心轴衬套950的温度。
此外，在一个优选实施例中，如图35中所示，对流管道928提供与护罩922相邻的近端以及与密封处理室908的封闭端相邻的远端。响应于（图33的）马达934的启动，（图33的）多个叶片942与中心轴938一致地转动，由此推动被限制在密封处理室908内的流体经过对流管道928的远端再经过多个基片面板930，从而在多个基片面板930的表面上形成流体流动，该流体流动使多个面板的每个面板的温度稳定以与流体的温度一致。
图36提供与密封处理室908的门组件948相连的门轮床954的视图。
应当理解的是，尽管在前面的描述中已描述了本发明各种实施例的许多特征和优点，连同对本发明各种实施例的结构和功能的详细描述，但此详细说明只是说明性的，并且可以做出具体的变化，特别是在请求保护的本发明原理内的各部件的结构和布置，直到术语的广泛的一般意义所表示的完全程度，其中表达所附权利要求。例如，在不背离所请求保护的本发明的精神和范围的情况下，具体元件可基于具体应用而变化。
显然本发明将适合于获得所述的以及本发明固有的优点。虽然已以说明本公开为目的描述了本发明的优选实施例，但可以做出本领域技术人员可容易地理解并且所附权利要求所包含的许多变化。

Claims (20)

1.一种装置，包括：
框架，所述框架支撑容纳室；
处理室，所述处理室被限制在所述容纳室内；
热源模块，所述热源模块设置在所述容纳室和所述处理室之间；
热调节腔，所述热调节腔形成于所述热源模块和所述处理室之间；
与所述热调节腔流体连通的至少一个流体入口结构，其中，所述流体入口结构提供阀，所述阀控制从所述热调节腔经过所述流体入口结构流动至所述热调节腔外部的环境的流体流量，并且其中，所述流体入口结构还包括流量调节结构，所述流量调节结构与所述阀相互作用以控制从在所述热调节腔外部的环境经过所述阀流入所述热调节腔的流体流量；以及
与所述处理室的内部流体连通的开环流体对流系统，其中，所述流体对流系统包括延伸到所述处理室中的旋转压缩机组件。
2.如权利要求1所述的装置，其中，所述处理室是密封处理室，并且还包括：
热源模块，所述热源模块设置在所述容纳室和所述处理室之间；以及
热传感器组件，所述热传感器组件设置在所述密封处理室的内部中且与所述密封热室的壁相邻，所述热传感器组件测量所述密封处理室的内部温度值，并且其中，所述开环流体对流系统还包括与所述旋转压缩机组件相邻的护罩。
3.如权利要求2所述的装置，还包括与所述流量调节结构和所述热传感器组件相连的控制器，所述控制器响应于所述密封处理室的测得的内部温度值而设定所述流量调节结构的流动位置以调节从所述流体源经过所述流体入口结构且在所述密封处理室的外部周围的流体流量，并且其中，与所述旋转压缩机组件相邻的所述护罩与基片支撑框架相连。
4.如权利要求3所述的装置，还包括对流管道，所述对流管道由一对基片和一对流量限制盖形成，所述一对基片布置成分别与所述基片支撑框架的侧面相邻，所述一对流量限制盖布置成分别与所述基片支撑框架的顶侧和所述基片支撑框架的底侧相邻，所述对流管道与所述护罩相邻。
5.如权利要求4所述的装置，其中，所述流体对流系统还包括：
马达，所述马达与所述旋转压缩机组件相连；以及
马达控制器，所述马达控制器与所述马达相连并且对所述热传感器组件做出响应。
6.如权利要求5所述的装置，其中，所述马达是电马达。
7.如权利要求5所述的装置，其中，所述马达是旋转液压马达。
8.如权利要求5所述的装置，其中，所述马达是旋转气动马达。
9.如权利要求5所述的装置，其中，所述旋转压缩机组件包括：
中心轴，所述中心轴对所述马达做出响应；
后板，所述后板被固定到所述中心轴以便与所述中心轴一起转动；以及
多个叶片，所述多个叶片径向地设置在所述中心轴的周围且从所述后板延伸。
10.如权利要求9所述的装置，其中，所述旋转压缩机组件还包括与所述多个叶片相连的面板，所述多个叶片设置在所述后板和所述面板之间以便与所述中心轴一起转动。
11.一种装置，包括：
框架，所述框架支撑容纳室；
处理室，所述处理室被限制在所述容纳室内；
与所述处理室的外部流体连通的至少一个流体入口结构，所述流体入口结构至少包括流量调节结构以控制来自流体源且在所述处理室的外部周围的流体流量；
与所述处理室的内部流体连通的开环流体对流系统，其中，所述流体对流系统包括延伸到所述处理室中的旋转压缩机组件；
与所述流量调节结构相连的控制器；以及
至少与所述流量调节结构和所述控制器相连的控制信号总线，所述控制信号总线响应于所述处理室的内部的测得内部温度值将控制信号发送至所述流量调节结构，其中，所述旋转压缩机组件包括用于在所述处理室内转动的中心轴。
12.如权利要求11所述的装置，其中，所述密封处理室是处理室，并且所述旋转压缩机组件包括：
后板，所述后板固定到所述中心轴以便与所述中心轴一起转动；以及
多个叶片，所述多个叶片径向地设置在所述中心轴的周围并且从所述后板延伸。
13.权利要求12所述的装置，其中，所述旋转压缩机组件还包括与所述多个叶片相连的面板，所述多个叶片设置在所述后板和所述面板之间以便与所述中心轴一起转动。
14.如权利要求13所述的装置，其中，所述旋转压缩机组件还包括：
马达，所述马达与所述中心轴相连；以及
马达控制器，所述马达控制器与所述马达相连并且对所述密封处理室的内部的所述测得内部温度值做出响应。
15.如权利要求14所述的装置，还包括：
基片支撑框架，所述基片支撑框架与所述密封处理室的内部体积相连；以及
护罩，所述护罩与所述基片支撑框架相互作用并且与所述多个叶片流体连通。
16.如权利要求15所述的装置，还包括对流管道，所述对流管道由一对基片和一对流量限制盖形成，所述一对基片布置成分别与所述基片支撑框架的侧面相邻，所述一对流量限制盖布置成分别与所述基片支撑框架的顶侧和所述基片支撑框架的底侧相邻，所述对流管道与所述护罩相邻并且与所述多个叶片流体连通。
17.如权利要求16所述的装置，其中，所述旋转压缩机组件还包括：
中心轴衬套，所述中心轴衬套支撑所述中心轴并且固定到与所述密封处理室相连的室门；以及
衬套冷却装置，所述衬套冷却装置与所述中心轴衬套协作，所述衬套冷却装置调节所述中心轴衬套的温度。
18.如权利要求17所述的装置，其中，所述对流管道提供与所述护罩相邻的近端以及与所述密封处理室的封闭端相邻的远端。
19.如权利要求18所述的装置，其中，所述基片支撑框架支撑多个基片面板，所述基片面板从与所述护罩相邻的所述基片支撑框架的近端延伸至与所述密封处理室的封闭端相邻的所述基片支撑框架的远端，所述多个基片面板设置在所述对流管道内。
20.如权利要求18所述的装置，其中，响应于马达的启动，所述多个叶片与所述中心轴一致地转动，由此推动被限制在所述密封处理室内的流体经过所述对流管道并经过所述多个基片面板，从而在所述多个基片面板的表面上形成流体流动，所述流体流动使所述多个面板的每个面板的温度稳定以与所述流体的温度一致。
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