CN104049475B - 具有防腐蚀功效的去除剂 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种具有防腐蚀功效的光刻胶去除剂,其原料包括防腐剂、有机胺化合物、有机溶剂、去离子水和C2~C15一元醇。该去除剂能够提供剥离性优异、安全,且不会腐蚀导电体的防腐蚀性优异。

Description

具有防腐蚀功效的去除剂
技术领域
本发明涉及光刻技术领域,尤其涉及一种光刻胶去除剂,其剥离性能优异,安全,不会腐蚀导电体的防腐蚀性。
背景技术
IC、LSI等集成电路,LCD、EL元件等显示机器,打印基板等使用热刻蚀技术制造。在该热刻蚀工序中,不需要的光刻胶使用光刻胶去除剂进行除去。
在该光刻胶剥离工序中,之前使用各种光刻胶去除剂。但是,近年来对应液晶显示面板或半导体元件的工艺微细化或短时间处理的能力低,期待进一步的性能。目前,含有剥离性优异的胺系化合物的光刻胶去除剂成为主力。
该胺系去除剂可以分为溶剂系和水系。例如,作为溶剂系去除剂使用二甲基亚砜(约30重量%)+单乙醇胺(约70重量%)或者单乙醇胺+N-甲基吡咯烷酮等。另一方面,作为水系去除剂使用水(约20~30重量%)+二甘醇单丁基醚(约20~30重量%)+单乙醇胺(约30~40重量%)、烷基苯磺酸+功能水(臭氧水)、酸系(硫酸+过氧化氢)+功能水(臭氧水)等。
近年来,能够进行水淋洗的水系去除剂的使用有所扩大。其理由在于水系去除剂的剥离性优异、而且没有可燃性,是不是危险品。然而,水系去除剂添加有单乙醇胺。因此,水系去除剂具有会引起对配线等导电体的腐蚀的缺点。因而,实际上有必要考虑剥离性能和腐蚀性调整单乙醇胺的含量。而且,以光刻胶剥离性能和防止对导电体的破坏(腐蚀)为目的,开发了各种光刻胶去除剂。
发明内容
现有技术以提高光刻胶剥离性能和导电体(包含铜(Cu)、铝(Al)等的配线等)的防腐蚀为目的而开发。但是这些技术仍然具有无法完全满足两个目的的问题。本发明鉴于上述问题而完成,其目的在于提供剥离性优异、安全,且不会腐蚀导电体的防腐蚀性优异的光刻胶去除剂。
为解决上述技术问题,本发明提供了一种光刻胶去除剂,其原料包括防腐剂、有机胺化合物、有机溶剂、去离子水和C2~C15一元醇。
其中,所述光刻胶去除剂中各原料的重量分别为防腐剂3g~5g、有机胺化合物8g~12g、有机溶剂10g~20g、去离子水50g~70g和C2~C15一元醇3g~6g。
其中,所述光刻胶去除剂中各原料的重量分别为防腐剂4g、有机胺化合物10g、有机溶剂15g、去离子水60g和C2~C15一元醇5g。
其中,所述C2~C15一元醇进一步优选为丁醇、乙醇、异丙醇、丙醇、庚醇、辛醇。
其中,所述防腐剂由苯并噻唑化合物和苯并喹啉化合物按照质量比3∶1的比例混合获得。
其中,所述苯并噻唑化合物具体结构为式1所示:
其中,所述苯并噻唑化合物的制备方法具体为:
第一步,在250mL的三口烧瓶中,称取4-苯二甲酰亚胺环己醇15g,溶解于160mL的乙酸乙酯和5mL的水中,搅拌溶解。冰浴降温至0℃,依次加入TEMPO0.05g,溴化钠0.8g于反应体系中,机械搅拌15min,原料完全溶解。分批加入漂白粉18.5g(1.2eq),控制反应体系的温度不高于5℃,0.5h内加完,移去冰浴,在室温下反应,TLC检测反应的进度,5h后显示原料转化完毕,过滤去固体,有机相用饱和氯化钠洗涤,经无水硫酸钠干燥,过滤、减压除去有机溶剂得到白色固体粗品14.1g,经甲苯重结晶得到13.6g,获得4-苯二甲酰亚胺环己酮;
第二步,100mL的三口烧瓶中,称量第一步制备的4-苯二甲酰亚胺环己酮5.0g溶解于40mL的乙酸乙酯中,加入2.6mL浓度为30%的H2O2于反应体系中,升温至50℃,缓慢滴加1.6mL浓度为42%的氢溴酸,0.5h滴加完毕,升温至回流,在此温度下反应2h。TLC显示原料反应完毕,碳酸氢钠调节pH=7,析出大量白色固体,继续搅拌15min,过滤得到白色固体。用15mL×3冷的甲醇洗涤滤饼,滤饼干燥至恒重,得到白色固体5.4g,获得2-溴-4-苯二甲酰亚胺环己酮;
第三步,100mL的三口瓶中,称量第二步制备的2-溴4-苯二甲酰亚胺环己酮5.0g,然后加入甲醇50mL,二氯甲烷15mL,碳酸氢钠2.0g,升温至回流后,加入硫脲2.5g于反应体系中。在此温度下回流反应液逐渐变澄清,TLC检测,4h后原料反应完毕。减压除去有机溶剂甲醇和二氯甲烷,过滤得到白色滤饼,滤饼用40mL热水洗涤,甲醇重结晶,得到4.2g2-氨基-6苯二甲酰亚氨基-4,5,6,7-四氢苯并噻唑;
第四步,100mL的三口瓶中,称量第三步制备的2.5g悬浮于30mL的甲醇中,依次加入水合肼0.8mL,三乙胺0.2mL,氮气保护条件下,升温至回流,4h后TLC检测反应完毕,冷却至5℃,得到白色固状物质,将白色固状物过滤,滤饼用10mL×3冷的甲醇洗涤,合并有机相,经无水硫酸钠干燥,减压除去溶剂,无水乙醇重结晶,得到白色粉末1.2g,即为所需要的苯并噻唑化合物。
其中,所述苯并喹啉化合物具体为式2所示:
其中,所述苯并喹啉化合物的制备方法具体为,
第一步,对氯苯胺盐酸盐的制备,将对氯苯胺2.0g加入到5ml蒸馏水和37%的浓盐酸5ml中,室温下搅拌30min,过滤晶体并用乙醇洗3次,烘干,得1.98g固体,即为对氯苯胺盐酸盐;
第二步,重氮化,取对氯苯胺盐酸盐0.72g在5ml蒸馏水和37%的浓盐酸5ml中溶解,冷却到0-5℃(冰水浴),缓慢滴加NaNO2水溶液(0.5g NaNO2溶于10ml水中),至淀粉碘化钾试纸刚刚变蓝为止,维持0-5℃继续反应30min;
第三步,偶氮化,取0.5g的10-羟基苯并喹啉(HBQ),溶于10ml蒸馏水和10ml二氧六环的混合溶液中,保持0-5℃,体系用氢氧化钠调节至pH=8,剧烈搅拌下将10-羟基苯并喹啉溶液缓慢加入第二步获得的产物中,继续反应2-3h;冰水浴中静置2h,减压过滤,得橙色固体,依次用水、苯-正己烷(1∶10)洗涤,红外干燥,得粗品,随后经过氯仿-石油醚体系(3∶2)柱层析分离,经干燥后得产品0.48g。
其中,所述有机溶剂包括一种或多种选自以下的物质:N-甲基吡咯烷酮(NMP)、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮(DMI)、二甲基亚砜(DMSO)、二甲基乙酰胺(DMAc)、二甲基甲酰胺(DMF)、N-甲基甲酰胺(NMF)、环丁砜、丁基二乙二醇(BDG)、乙基二乙二醇(EDG)、甲基二乙二醇(MDG)、三乙二醇(TEG)、二乙二醇单乙醚(DEM)、二乙二醇单丁醚、及其混合物。
其中,所述有机胺由羟乙基哌嗪和哌嗪羟酰氯按照质量比1∶1混合而成。
其中,所述哌嗪羟酰氯为4-乙基-2,3-双氧哌嗪基-1-羰酰氯,具体结构式为式3所示:
其中,所述哌嗪羟酰氯的制备方法具体为:
在配有电动搅拌、温度计和滴液漏斗的500mL干燥三颈瓶中,加入N-乙基-2,3-双氧哌嗪(28.8g,0.2mol)和三氯甲烷(300mL),搅拌,使之溶解,室温下加入三甲基氯硅烷(23g,0.2mol),搅拌10min后冷却到-10℃,滴加三乙胺(24g,0.23mol),在滴加过程中有白色三乙胺盐酸盐固体析出,在此温度下反应1h,冷却到-30℃,滴加氯甲酸三氯甲酯(23.8g,0.12mol),在20min内加完,反应液变红而褐,升温到-20℃反应1h,过滤,除去不溶物。滤液计量(280mL)并在-10℃时滴加正己烷(140mL),加入约1/3的正己烷时即有结晶析出,放慢滴加速度并继续保持-10℃,此时大量结晶析出,继续加完剩余的正己烷。在-15℃搅拌0.5h,过滤,滤饼用小量冷正己烷洗涤,在40℃~50℃真空干燥3h,得淡黄色针状结晶。
本发明还提供了上述去除剂的制备方法:将所述各原料按重量混合,室温搅拌2小时,并使用0.1μm的过滤器将其过滤,以制备去除剂溶液。
本发明的有益效果:
本发明提供的去除剂剥离性优异、安全,且不会腐蚀导电体的防腐蚀性优异。
具体实施方式
本发明提供了一种光刻胶去除剂,其原料包括防腐剂、有机胺化合物、有机溶剂、去离子水和C2~C15一元醇。
进一步,所述光刻胶去除剂仅由上述原料构成。
所述光刻胶去除剂中各原料的重量分别为防腐剂3g~5g、有机胺化合物8g~12g、有机溶剂10g~20g、去离子水50g~70g和C2~C15一元醇3g~6g。
进一步优选,所述光刻胶去除剂中各原料的重量分别为防腐剂4g、有机胺化合物10g、有机溶剂15g、去离子水60g和C2~C15一元醇5g。
所述C2~C15一元醇进一步优选为丁醇、乙醇、异丙醇、丙醇、庚醇、辛醇。
所述防腐剂由苯并噻唑化合物和苯并喹啉类化合物按照质量比1∶1的比例混合获得,本申请创造性的发现通过将特殊的苯并噻唑化合物和下式表示的特殊的苯并喹啉化合物的联合使用,在提高对铜(Cu)、铝(Al)材料配线的防腐蚀性方面,具有显著的效果。
所述苯并噻唑化合物具体结构为式1所示:
其中,所述苯并噻唑化合物的制备方法具体为:
第一步,在250mL的三口烧瓶中,称取4-苯二甲酰亚胺环己醇15g,溶解于160mL的乙酸乙酯和5mL的水中,搅拌溶解。冰浴降温至0℃,依次加入TEMPO0.05g,溴化钠0.8g于反应体系中,机械搅拌15min,原料完全溶解。分批加入漂白粉18.5g(1.2eq),控制反应体系的温度不高于5℃,0.5h内加完,移去冰浴,在室温下反应,TLC检测反应的进度,5h后显示原料转化完毕,过滤去固体,有机相用饱和氯化钠洗涤,经无水硫酸钠干燥,过滤、减压除去有机溶剂得到白色固体粗品14.1g,经甲苯重结晶得到13.6g,获得4-苯二甲酰亚胺环己酮;
第二步,100mL的三口烧瓶中,称量第一步制备的4-苯二甲酰亚胺环己酮5.0g溶解于40mL的乙酸乙酯中,加入2.6mL浓度为30%的H2O2于反应体系中,升温至50℃,缓慢滴加1.6mL浓度为42%的氢溴酸,0.5h滴加完毕,升温至回流,在此温度下反应2h。TLC显示原料反应完毕,碳酸氢钠调节pH=7,析出大量白色固体,继续搅拌15min,过滤得到白色固体。用15mL×3冷的甲醇洗涤滤饼,滤饼干燥至恒重,得到白色固体5.4g,获得2-溴-4-苯二甲酰亚胺环己酮;
第三步,100mL的三口瓶中,称量第二步制备的2-溴4-苯二甲酰亚胺环己酮5.0g,然后加入甲醇50mL,二氯甲烷15mL,碳酸氢钠2.0g,升温至回流后,加入硫脲2.5g于反应体系中。在此温度下回流反应液逐渐变澄清,TLC检测,4h后原料反应完毕。减压除去有机溶剂甲醇和二氯甲烷,过滤得到白色滤饼,滤饼用40mL热水洗涤,甲醇重结晶,得到4.2g2-氨基-6苯二甲酰亚氨基-4,5,6,7-四氢苯并噻唑;
第四步,100mL的三口瓶中,称量第三步制备的2.5g悬浮于30mL的甲醇中,依次加入水合肼0.8mL,三乙胺0.2mL,氮气保护条件下,升温至回流,4h后TLC检测反应完毕,冷却至5℃,得到白色固状物质,将白色固状物过滤,滤饼用10mL×3冷的甲醇洗涤,合并有机相,经无水硫酸钠干燥,减压除去溶剂,无水乙醇重结晶,得到白色粉末1.2g,即为2,6-二氨基-4,5,6,7-四氢苯并噻唑。
具体合成路线如下:
所述苯并喹啉类物质具体的结构式为式2所示:
所述式2表示的苯并喹啉的制备方法具体为:
第一步,对氯苯胺盐酸盐的制备,将对氯苯胺2.0g加入到5ml蒸馏水和37%的浓盐酸5ml中,室温下搅拌30min,过滤晶体并用乙醇洗3次,烘干,得1.98g固体,即为对氯苯胺盐酸盐;
第二步,重氮化,取对氯苯胺盐酸盐0.72g在5ml蒸馏水和37%的浓盐酸5ml中溶解,冷却到0-5℃(冰水浴),缓慢滴加NaNO2水溶液(0.5g NaNO2溶于10ml水中),至淀粉碘化钾试纸刚刚变蓝为止,维持0-5℃继续反应30min;
第三步,偶氮化,取0.5g的10-羟基苯并喹啉(HBQ),溶于10ml蒸馏水和10ml二氧六环的混合溶液中,保持0-5℃,体系用氢氧化钠调节至pH=8,剧烈搅拌下将10-羟基苯并喹啉溶液缓慢加入第二步获得的产物中,继续反应2-3h;冰水浴中静置2h,减压过滤,得橙色固体,依次用水、苯-正己烷(1∶10)洗涤,红外干燥,得粗品,随后经过氯仿-石油醚体系(3∶2)柱层析分离,经干燥后得产品0.48g,其具体名称为7-(4-氯苯)偶氮-10-羟基苯并喹啉。
具体合成路线如下:
所述有机溶剂包括一种或多种选自以下的物质:N-甲基吡咯烷酮(NMP)、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮(DMI)、二甲基亚砜(DMSO)、二甲基乙酰胺(DMAc)、二甲基甲酰胺(DMF)、N-甲基甲酰胺(NMF)、环丁砜、丁基二乙二醇(BDG)、乙基二乙二醇(EDG)、甲基二乙二醇(MDG)、三乙二醇(TEG)、二乙二醇单乙醚(DEM)、二乙二醇单丁醚、及其混合物。
所述有机胺由羟乙基哌嗪和哌嗪羟酰氯按照质量比1∶1混合而成,通过这两种特殊的有机胺化合物配合使用,可以显著提高光刻胶的剥离效果。
所述哌嗪羟酰氯为4-乙基-2,3-双氧哌嗪基-1-羰酰氯,具体结构式为式3所示:
所述哌嗪羟酰氯的制备方法具体为:
在配有电动搅拌、温度计和滴液漏斗的500mL干燥三颈瓶中,加入N-乙基-2,3-双氧哌嗪(28.8g,0.2mol)和三氯甲烷(300mL),搅拌,使之溶解,室温下加入三甲基氯硅烷(23g,0.2mol),搅拌10min后冷却到-10℃,滴加三乙胺(24g,0.23mol),在滴加过程中有白色三乙胺盐酸盐固体析出,在此温度下反应1h,冷却到-30℃,滴加氯甲酸三氯甲酯(23.8g,0.12mol),在20min内加完,反应液变红而褐,升温到-20℃反应1h,过滤,除去不溶物。滤液计量(280mL)并在-10℃时滴加正己烷(140mL),加入约1/3的正己烷时即有结晶析出,放慢滴加速度并继续保持-10℃,此时大量结晶析出,继续加完剩余的正己烷。在-15℃搅拌0.5h,过滤,滤饼用小量冷正己烷洗涤,在40℃~50℃真空干燥3h,得淡黄色针状结晶。
本发明还提供了上述去除剂的制备方法:将所述各原料按重量混合,室温搅拌2小时,并使用0.1μm的过滤器将其过滤,以制备去除剂溶液。
以下采用实施例来详细说明本发明的实施方式,借此对本发明如何应用技术手段来解决技术问题,并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。
实施例1苯并噻唑化合物的制备
在250mL的三口烧瓶中,称取4-苯二甲酰亚胺环己醇15g,溶解于160mL的乙酸乙酯和5mL的水中,搅拌溶解。冰浴降温至0℃,依次加入TEMPO0.05g,溴化钠0.8g于反应体系中,机械搅拌15min,原料完全溶解。分批加入漂白粉18.5g(1.2eq),控制反应体系的温度不高于5℃,0.5h内加完,移去冰浴,在室温下反应,TLC检测反应的进度,5h后显示原料转化完毕,过滤去固体,有机相用饱和氯化钠洗涤,经无水硫酸钠干燥,过滤、减压除去有机溶剂得到白色固体粗品14.1g,经甲苯重结晶得到13.6g,获得4-苯二甲酰亚胺环己酮;100mL的三口烧瓶中,称量第一步制备的4-苯二甲酰亚胺环己酮5.0g溶解于40mL的乙酸乙酯中,加入2.6mL浓度为30%的H2O2于反应体系中,升温至50℃,缓慢滴加1.6mL浓度为42%的氢溴酸,0.5h滴加完毕,升温至回流,在此温度下反应2h。TLC显示原料反应完毕,碳酸氢钠调节pH=7,析出大量白色固体,继续搅拌15min,过滤得到白色固体。用15mL×3冷的甲醇洗涤滤饼,滤饼干燥至恒重,得到白色固体5.4g,获得2-溴-4-苯二甲酰亚胺环己酮;100mL的三口瓶中,称量第二步制备的2-溴4-苯二甲酰亚胺环己酮5.0g,然后加入甲醇50mL,二氯甲烷15mL,碳酸氢钠2.0g,升温至回流后,加入硫脲2.5g于反应体系中。在此温度下回流反应液逐渐变澄清,TLC检测,4h后原料反应完毕。减压除去有机溶剂甲醇和二氯甲烷,过滤得到白色滤饼,滤饼用40mL热水洗涤,甲醇重结晶,得到4.2g2-氨基-6苯二甲酰亚氨基-4,5,6,7-四氢苯并噻唑;100mL的三口瓶中,称量第三步制备的2.5g悬浮于30mL的甲醇中,依次加入水合肼0.8mL,三乙胺0.2mL,氮气保护条件下,升温至回流,4h后TLC检测反应完毕,冷却至5℃,得到白色固状物质,将白色固状物过滤,滤饼用10mL×3冷的甲醇洗涤,合并有机相,经无水硫酸钠干燥,减压除去溶剂,无水乙醇重结晶,得到白色粉末1.2g,即为2,6-二氨基-4,5,6,7-四氢苯并噻唑。
1H NMR(500MHz,DMSO):6.59(s,2H),3.05~2.92(m,1H),2.63(dd,J1=4.0Hz,J2=16.0Hz,1H),2.52~2.31(m,2H),2.26~2.12(m,1H),1.85~1.75(m,1H),1.54~1.41(m,1H)。
实施例2苯并喹啉化合物的制备
将对氯苯胺2.0g加入到5ml蒸馏水和37%的浓盐酸5ml中,室温下搅拌30min,过滤晶体并用乙醇洗3次,烘干,得1.98g固体,即为对氯苯胺盐酸盐;取对氯苯胺盐酸盐0.72g在5ml蒸馏水和37%的浓盐酸5ml中溶解,冷却到0-5℃(冰水浴),缓慢滴加NaNO2水溶液(0.5gNaNO2溶于10ml水中),至淀粉碘化钾试纸刚刚变蓝为止,维持0-5℃继续反应30min;取0.5g的10-羟基苯并喹啉(HBQ),溶于10ml蒸馏水和10ml二氧六环的混合溶液中,保持0-5℃,体系用氢氧化钠调节至pH=8,剧烈搅拌下将10-羟基苯并喹啉溶液缓慢加入第二步获得的产物中,继续反应2-3h;冰水浴中静置2h,减压过滤,得橙色固体,依次用水、苯-正己烷(1∶10)洗涤,红外干燥,得粗品,随后经过氯仿-石油醚体系(3∶2)柱层析分离,经干燥后得产品0.48g,该化合物的1HNMR(300MHz,CDC13):15.82(s,1H),9.09(d,1H),9.06(d,1H),8.87(d,1H),8.35(t,1H),8.23(d,1H),7.94(d,2H),7.65(d,2H),7.46(d,2H)。
实施例3哌嗪羟酰氯的制备
在配有电动搅拌、温度计和滴液漏斗的500mL干燥三颈瓶中,加入N-乙基-2,3-双氧哌嗪(28.8g,0.2mol)和三氯甲烷(300mL),搅拌,使之溶解,室温下加入三甲基氯硅烷(23g,0.2mol),搅拌10min后冷却到-10℃,滴加三乙胺(24g,0.23mol),在滴加过程中有白色三乙胺盐酸盐固体析出,在此温度下反应1h,冷却到-30℃,滴加氯甲酸三氯甲酯(23.8g,0.12mol),在20min内加完,反应液变红而褐,升温到-20℃反应1h,过滤,除去不溶物。滤液计量(280mL)并在-10℃时滴加正己烷(140mL),加入约1/3的正己烷时即有结晶析出,放慢滴加速度并继续保持-10℃,此时大量结晶析出,继续加完剩余的正己烷。在-15℃搅拌0.5h,过滤,滤饼用小量冷正己烷洗涤,在40℃~50℃真空干燥3h,得淡黄色针状结晶,即为哌嗪羟酰氯。
实施例4去除剂1的制备
将实施例1制备的苯并噻唑化合物3g、实施例2制备的苯并喹啉化合物1g,实施例3制备的哌嗪羟酰氯5g,羟乙基哌嗪5g,有机溶剂N-甲基吡咯烷酮15g、去离子水60g和乙醇5g混合,室温搅拌2小时,并使用0.1μm的过滤器将其过滤,获得去除剂1。
比较例1去除剂2的制备
将苯并咪唑3g,实施例3制备的哌嗪羟酰氯5g,羟乙基哌嗪5g,有机溶剂N-甲基吡咯烷酮15g、去离子水60g和乙醇5g混合,室温搅拌2小时,并使用0.1μm的过滤器将其过滤,获得去除剂2。
比较例2去除剂3的制备
将实施例1制备的苯并噻唑化合物3g、实施例2制备的苯并喹啉化合物3g,羟乙基哌嗪10g,有机溶剂N-甲基吡咯烷酮15g、去离子水60g和乙醇5g混合,室温搅拌2小时,并使用0.1μm的过滤器将其过滤获得去除剂3。
剥离试验
剥离性能利用下述2个评价法评价。
光刻胶剥离性-1:在约30ml的样品瓶中放入约5ml去除剂和1张上述制作的抗蚀基板的试验片,在规定温度下搅拌的同时,测定液中的玻璃基板变为无色透明的时间,如下进行判断。
○:至变为透明的时间小于40秒钟;
×:至变为透明的时间为40秒钟以上。
实施例4和比较例1至比较例3的搅拌的温度为室温。
光刻胶剥离性-2:在约30ml的样品瓶中放入约5ml去除剂和1张上述制作的抗蚀基板的试验片,在规定温度下搅拌约60秒钟,使其剥离后,取出抗蚀基板,立即进行丙酮淋洗后,观察在约50℃下干燥约30分钟后的表面,如下进行判断。
○:玻璃基板表面上完全没有发雾部分,光刻胶被完全地洗涤剥离;
△:玻璃基板表面上稍有发雾部分,光刻胶几乎被洗涤剥离;
×:玻璃基板表面的一半以上发雾,洗涤剥离不充分,相当部分地光刻胶残存。
腐蚀试验
防腐蚀性能按照以下2个评价法评价。
防腐蚀性-1:在约30ml的样品瓶中放入去除剂,在其中团入直径约0.5mm的铜线约100mm使其浸渍,观察1周后的着色程度,如下进行判断。
○:完全没有变色;
△:稍微变色为淡蓝色;
×:明显地变色为蓝色。
防腐蚀性-2:制作Mo(钼)/Al/Mo的层压配线基板,将该试验片(约10mm×5mm)放入约30ml的样品瓶中,添加约5ml去除剂,在约40℃下浸渍约5分钟。在浸渍-腐蚀操作后,按照以下顺序进行观察,如下进行判断。
顺序1进行IPA淋洗、顺序2进行丙酮淋洗、顺序3进行在约50℃下干燥约30分钟,利用SEM(扫描电子显微镜)观察Al的腐蚀程度。
○:完全没有变化;
△:Al稍有溶出,观察到腐蚀;
×:Al明显地溶出,观察到严重的腐蚀。
结果见表1。
表1剥离和防腐蚀性能比较
所有上述的首要实施这一知识产权,并没有设定限制其他形式的实施这种新产品和/或新方法。本领域技术人员将利用这一重要信息,上述内容修改,以实现类似的执行情况。但是,所有修改或改造基于本发明新产品属于保留的权利。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非是对本发明作其它形式的限制,任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施例。但是凡是未脱离本发明技术方案内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与改型,仍属于本发明技术方案的保护范围。

Claims (4)

1.一种光刻胶去除剂,其特征在于:原料包括防腐剂、有机胺化合物、有机溶剂、去离子水和C2~C15一元醇;
各原料的重量分别为防腐剂3g~5g、有机胺化合物8g~12g、有机溶剂10g~20g、去离子水50g~70g和C2~C15一元醇3g~6g;
所述防腐剂由苯并噻唑化合物和苯并喹啉化合物按照质量比3:1的比例混合获得;
所述苯并噻唑化合物具体为2,6-二氨基-4,5,6,7-四氢苯并噻唑;
苯并喹啉化合物具体为7-(4-氯苯)偶氮-10-羟基苯并喹啉;
所述有机胺由羟乙基哌嗪和4-乙基-2,3-双氧哌嗪基-1-羰酰氯按照质量比1:1混合而成。
2.如权利要求1所述的去除剂,其特征在于:各原料的重量分别为防腐剂4g、有机胺化合物10g、有机溶剂15g、去离子水60g和C2~C15一元醇5g。
3.如权利要求1或2所述的去除剂,其特征在于:所述C2~C15一元醇为丁醇、乙醇、异丙醇、丙醇、庚醇、辛醇。
4.如权利要求1或2所述的去除剂,其特征在于:所述有机溶剂包括一种或多种选自以下的物质:N-甲基吡咯烷酮(NMP)、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮(DMI)、二甲基亚砜(DMSO)、二甲基乙酰胺(DMAc)、二甲基甲酰胺(DMF)、N-甲基甲酰胺(NMF)、环丁砜、丁基二乙二醇(BDG)、乙基二乙二醇(EDG)、甲基二乙二醇(MDG)、三乙二醇(TEG)、二乙二醇单乙醚(DEM)、二乙二醇单丁醚、及其混合物。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104777721B (zh) * 2014-11-05 2019-12-06 青岛华仁技术孵化器有限公司 抗蚀剂去除剂
CN106773562A (zh) * 2016-12-23 2017-05-31 昆山艾森半导体材料有限公司 一种去除az光刻胶的去胶液
JP6692029B1 (ja) * 2019-03-25 2020-05-13 パナソニックIpマネジメント株式会社 レジスト剥離液

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101371199A (zh) * 2005-08-13 2009-02-18 韩国泰科诺赛美材料株式会社 用于半导体制造的光刻胶剥离剂组合物
WO2009056805A1 (en) * 2007-10-31 2009-05-07 Motac Neuroscience Limited Medicaments
CN101750917A (zh) * 2009-09-25 2010-06-23 株式会社Lg化学 用于光致抗蚀剂的剥离剂组合物及剥离光致抗蚀剂的方法
WO2011021214A2 (en) * 2009-08-07 2011-02-24 Msn Laboratories Limited Improved process for the preparation of (s)-2-amino-4,5,6,7-tetrahydro-6 - (propylamino) benzothiazole and its pharmaceutically acceptable salts
CN102951761A (zh) * 2012-11-14 2013-03-06 杭州格林达化学有限公司 光刻胶剥离液废液的回收方法
CN103113972A (zh) * 2012-12-29 2013-05-22 上海新阳半导体材料股份有限公司 一种芯片铜互连封装用高效划片液

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101371199A (zh) * 2005-08-13 2009-02-18 韩国泰科诺赛美材料株式会社 用于半导体制造的光刻胶剥离剂组合物
WO2009056805A1 (en) * 2007-10-31 2009-05-07 Motac Neuroscience Limited Medicaments
WO2011021214A2 (en) * 2009-08-07 2011-02-24 Msn Laboratories Limited Improved process for the preparation of (s)-2-amino-4,5,6,7-tetrahydro-6 - (propylamino) benzothiazole and its pharmaceutically acceptable salts
CN101750917A (zh) * 2009-09-25 2010-06-23 株式会社Lg化学 用于光致抗蚀剂的剥离剂组合物及剥离光致抗蚀剂的方法
CN102951761A (zh) * 2012-11-14 2013-03-06 杭州格林达化学有限公司 光刻胶剥离液废液的回收方法
CN103113972A (zh) * 2012-12-29 2013-05-22 上海新阳半导体材料股份有限公司 一种芯片铜互连封装用高效划片液

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
2,6-二氨基-4,5,6,7-四氢苯并噻唑的合成工艺改进;李凯等;《浙江化工》;20130930;第44卷(第9期);第5页 *
4-乙基-2,3-双氧哌嗪基-1-羰酰氯结晶的制备;刘秀兰;《山西化工》;20020228;第22卷(第1期);第28-29页 *
7-(4-氯苯)偶氮-10-羟基苯并喹啉的合成及对F-的识别研究;董振明等;《影像科学与光化学》;20130930;第31卷(第5期);第391页 *

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