CN103996453A - 一种高透过率纳米金属透明导电膜的制造方法 - Google Patents

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本发明涉及一种高透过率纳米金属透明导电膜的制造方法,具体技术方案如下:(1)将纳米金属制成初始悬浊液;(2)制备添加剂,添加剂包括水性粘合剂、表面活性剂;(3)将添加剂加入纳米金属初始悬浮液中;(4)制备保护层涂布墨水,保护层涂布油墨包括硅氧化合物、硅烷偶联剂、表面活性剂和溶剂;(5)将配好的纳米金属墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布或喷涂方式涂布至基板上,最后得到导电薄膜;(6)将保护层涂布墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布或喷涂方式涂布至导电薄膜上;(7)最后将带有导电层的基板经过轧光机,得到雾度较低的导电层;在导电薄膜上再涂覆具有硬度大的保护层,提高导电薄膜的高温高湿环境下的耐受性,并降低表面电阻。

Description

一种高透过率纳米金属透明导电膜的制造方法
技术领域
本发明涉及纳米金属导电膜的制造方法,特别涉及纳米金属导电层的保护层。
背景技术
目前,透明导电薄基板主要有金属氧化物基板、碳纳米管或者石墨烯基板。纳米金属基板、导电聚合物基板,其中铟锡氧化物(ITO)基板最为广泛应用。透明导电基板的主要性能指标有导电性和可见光透明度,大部分导电基板需要平衡两者之间的性能,往往高导电性基板的透过率较低,高透过率的基板导电性较低,金属氧化物基板、碳纳米管或者石墨烯基板、导电聚合物基板往往不能同时满足这两者的高要求,如ITO导电膜在方阻50Ω/□的条件下,其透过率低于80%,而后三者的方阻很少能做到150Ω/□。
将纳米导电金属线与水性粘合剂配制成涂布墨水,经过高精密涂布机将纳米导电金属线涂布于柔性基板上,烘烤后形成纳米级厚的纳米导电金属线薄膜,纳米金属线之间互相搭接,形成导电路径,而空隙处可见光完全透过,形成高透明导电膜。导电金属选择具有最佳的导电率以及柔韧性,所以涂布成的透明导电薄膜具有很低的方阻和耐弯折性,同时兼有极高的透过率,如当方阻为50Ω/□时,其可见光透过率为90%。
将纳米导电金属线与水性粘合剂配制成涂布墨水,涂布于透明基板,烘烤后将溶剂蒸发,留下粘合剂将纳米金属线嵌入其中,形成导电薄膜,由于目前所使用的粘合剂形成薄膜后,表面硬度低,而透明导电薄膜的膜表面硬度会影响其应用于产品的良率,比如应用于制造触摸屏,不良率重要因素之一就是制造过程中膜硬度不足造成的划伤或凹陷;另外薄膜的环境耐受性也比较差,易受潮气及氧化性气体的浸润,产生霉斑及纳米金属被氧化,无法应用于电子产品的制造;还有一个缺陷是由于水性粘合剂烘烤后不是完全平整的,具有高低起伏的平面,所以光入射自后,产生较大的雾度。目前的解决办法是在导电层上面再涂布一层紫外线(UV)固化透明保护层,由于此类的膜层较致密,会把大部分银线掩埋在膜层之下,这样薄膜的表面电阻就会增加很多,至少两倍以上,不符合于电子产品低电阻的要求。
发明内容
本发明涉及一种新型的保护层,提高导电薄膜的高温高湿环境下的耐受性,并降低表面电阻,保护层将凹凸不平表面填平,降低雾度,同时基板、导电层、保护层形成光学折射率梯度,增加了可见光的透过率。一种高透过率纳米金属透明导电膜的制造方法,具体技术方案如下:
(1)将纳米金属制成初始悬浊液;纳米金属可以是纳米金线、铜线或银线或者是三者任意组合,纳米金属线含量0.1~1%,优选0.1%~0.6%,线长应在0.1~100μm,优选20um~40μm,线径应在10nm~100nm,优选10~20nm;纳米金属的初始悬浮液的溶剂由水、乙醇、丙酮、乙二醇、丙二醇、丙三醇和异丙醇组成;
(2)制备添加剂,添加剂包括水性粘合剂、表面活性剂;水性粘合剂包括羧甲基纤维素钠、羧丙基甲基纤维素、羧乙基纤维素、聚乙烯醇和羟丙基甲基纤维素;表面活性剂包括十二烷基硫酸钠、聚乙二醇、烷基糖苷、椰油酸二乙醇酰胺和聚乙二醇辛基苯基醚;
(3)将添加剂加入纳米金属初始悬浮液中,配成涂布纳米金属墨水,粘度20cP~100cP,其中纳米金属的含量为0.05~0.3%,水性粘合剂的含量为0.1~1%,表面活性剂含量0.01~0.1%;
(4)制备保护层涂布墨水,保护层涂布油墨包括硅氧化合物、硅烷偶联剂、表面活性剂和溶剂,硅氧化物包括粒径10nm~15nm纳米球形二氧化硅、硅酸盐和水性硅油,硅氧化物含量占保护层涂布油墨的0.01~1%,优选0.05%~0.4%;硅烷偶联剂占保护层涂布油墨的0.05~0.5%;表面活性剂包括十二烷基硫酸钠、聚乙二醇、烷基糖苷、椰油酸二乙醇酰胺和聚乙二醇辛基苯基醚,表面活性剂占保护层涂布油墨的0.01~0.1%;溶剂是水、乙醇、丙酮、乙二醇、丙二醇、丙三醇和异丙醇;
(5)将配好的纳米金属墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布或喷涂等方式涂布至基板上,然后在烘箱中100度预烘烤5分钟~20分钟后,再放进烘箱中140度烘烤5分钟~20分钟,最后得到导电薄膜;
(6)将保护层涂布墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布或喷涂方式涂布至导电薄膜上,然后在烘箱中100度预烘烤5分钟~20分钟后,在放进烘箱中140度烘烤5分钟~20分钟;
(7)最后将带有导电层的基板经过轧光机,得到雾度较低的导电层。
步骤(4)所述的硅烷偶联剂,其通式为RSiX3,式中R代表与聚合物分子有亲和力或反应能力的活性官能团,可以是氧基、巯基、乙烯基、环氧基、酰胺基或氨丙基,X代表能够水解的烷氧基,可以是卤素、烷氧基或酰氧基。
步骤(5)所述基板是刚性或柔性的,刚性的基板可以是玻璃或加硬的聚碳酸酯;柔性基板可以是聚酯、聚烯烃或聚乙烯。
本发明的有益效果是:本发明在导电薄膜上再涂覆具有硬度大的保护层,提高导电薄膜的高温高湿环境下的耐受性,并降低表面电阻,保护层将凹凸不平表面填平,降低雾度,同时基板、导电层、保护层形成光学折射率梯度,增加了可见光的透过率。
附图说明
图1:本发明的结构示意图;
1-基板;2-导电薄膜;3-导电层。
具体实施例
实施例一:
柔性基板选择聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethyleneterephthalate,PET)
导电层涂布液的配方是:纳米金属线选择纳米银线,平均线长应在20μm,平均线径应在35nm,纳米银线含量0.1%,聚乙烯醇含量0.34%,聚乙二醇辛基苯基醚含量0.01%。具体配制方法是取250g的0.2%纳米银线初始悬浮液,此悬浮液的溶剂是纯水,边搅拌边向其中加入249.95g的0.8%的聚乙烯醇水溶液,最后加入0.05g的聚乙二醇辛基苯基醚充分搅拌后配制完成。
保护层涂布液的配方是:纳米球形二氧化硅的含量是0.1%,粒径10nm,硅烷偶联剂γ-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷,含量0.05%,聚乙二醇辛基苯基醚含量0.01%。将100g二氧化硅含量为0.2%的纳米二氧化硅水溶胶缓慢加入到99.98g的10%γ-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷水溶胶中,然后加入0.02g的聚乙二醇辛基苯基醚充分搅拌后配制完成。
将配好的涂布墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布、喷涂等方式涂布至基板上,然后在烘箱中80度预烘烤5分钟~20分钟后,在放进烘箱中100度烘烤5分钟~20分钟,最后得到导电薄膜。
将保护层涂布墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布、喷涂等方式涂布至导电薄膜上,然后在烘箱中100度预烘烤5分钟~20分钟后,在放进烘箱中140度烘烤5分钟~20分钟,此时得到高硬度、致密性好的导电层,最后将带有导电层的基板经过轧光机,得到雾度较低透过率高的导电层,最后将带有导电层的基板经过轧光机,得到雾度较低的导电层。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式和优选实施例,熟悉本领域的技术人员在本发明揭露的范围内,可轻易想到的变化,都应涵盖在发明的保护范围之内。

Claims (3)

1.一种高透过率纳米金属透明导电膜的制造方法,具体技术方案如下:
(1)将纳米金属制成初始悬浊液;纳米金属可以是纳米金线、铜线或银线或者是三者任意组合,纳米金属线含量0.1~1%,优选0.4%~0.6%,线长应在0.1~100μm,优选20um~40μm,线径应在10nm~100nm,优选1~20nm;纳米金属的初始悬浮液的溶剂由水、乙醇、丙酮、乙二醇、丙二醇、丙三醇和异丙醇组成;
(2)制备添加剂,添加剂包括水性粘合剂、表面活性剂;水性粘合剂包括羧甲基纤维素钠、羧丙基甲基纤维素、羧乙基纤维素、聚乙烯醇和羟丙基甲基纤维素;表面活性剂包括十二烷基硫酸钠、聚乙二醇、烷基糖苷、椰油酸二乙醇酰胺和聚乙二醇辛基苯基醚;
(3)将添加剂加入纳米金属初始悬浮液中,配成涂布纳米金属墨水,粘度20cP~100cP,其中纳米金属的含量为0.05~0.3%,水性粘合剂的含量为0.1~1%,表面活性剂含量0.01~0.1%;
(4)制备保护层涂布墨水,保护层涂布墨水包括硅氧化合物、硅烷偶联剂、表面活性剂和溶剂,硅氧化物包括粒径10nm~15nm纳米球形二氧化硅、硅酸盐和水性硅油,硅氧化物含量占保护层涂布油墨的0.01~1%,优选0.05%~0.4%;硅烷偶联剂占保护层涂布墨水的0.05~0.5%;表面活性剂包括十二烷基硫酸钠、聚乙二醇、烷基糖苷、椰油酸二乙醇酰胺和聚乙二醇辛基苯基醚,表面活性剂占保护层涂布墨水的0.01~0.1%;溶剂是水、乙醇、丙酮、乙二醇、丙二醇、丙三醇和异丙醇;
(5)将配好的纳米金属墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布或喷涂方式涂布至基板上,然后在烘箱中100度预烘烤5分钟~20分钟后,再放进烘箱中140度烘烤5分钟~20分钟,最后得到导电薄膜;
(6)将保护层涂布墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布或喷涂方式涂布至导电薄膜上,然后在烘箱中100度预烘烤5分钟~20分钟后,再放进烘箱中140度烘烤5分钟~20分钟,得到高硬度、致密性好的导电层;
(7)最后将带有导电层的基板经过轧光机,得到雾度较低的导电层。
2.根据权利要求1所述的一种高透过率纳米金属透明导电膜的制造方法,其特征在于:步骤(4)所述的硅烷偶联剂,其通式为RSiX3,式中R代表与聚合物分子有亲和力或反应能力的活性官能团,可以是氧基、巯基、乙烯基、环氧基、酰胺基或氨丙基,X代表能够水解的烷氧基,可以是卤素、烷氧基或酰氧基。
3.根据权利要求1所述的一种高透过率纳米金属透明导电膜的制造方法,其特征在于:步骤(5)所述基板是刚性或柔性的,刚性的基板可以是玻璃或加硬的聚碳酸酯;柔性基板可以是聚酯、聚烯烃或聚乙烯。
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