CN103904248B - 有机电致发光器件及其制备方法 - Google Patents

有机电致发光器件及其制备方法 Download PDF

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Abstract

发明公开了一种有机电致发光器件,包括依次层叠的如下结构:阳极导电基板、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极层、有机阻挡层、无机阻挡层、湿气吸收层和散热层。上述有机电致发光器件的无机阻挡层的材质采用碲化物和硫化物的混合物,具有致密性高,防水防氧能力强等特点,湿气吸收层的材质采用氧化钙、氧化钡、氧化锶和氧化镁中的至少一种,能够吸收空气中的水汽。无机阻挡层和湿气吸收层协同作用,能够减少水汽和氧气进入有机电致发光器件,相对于传统的有机电致发光器件,这种有机电致发光器件具有较长的使用寿命。本发明还公开了一种上述有机电致发光器件的制备方法。

Description

有机电致发光器件及其制备方法
技术领域
本发明涉及电致发光领域,特别是涉及有机电致发光器件及其制备方法。
背景技术
有机电致发光器件(OrganicLightEmittingDisplay,OLED)是基于有机材料的一种电流型半导体发光器件,其典型结构是在ITO玻璃上制作一层几十纳米厚的有机发光材料作发光层,发光层上方有一层低功函数的金属电极。当电极上加有电压时,发光层就产生光辐射。
OLED器件具有主动发光、发光效率高、功耗低、轻、薄、无视角限制等优点,被业内人士认为是最有可能在未来的照明和显示器件市场上占据霸主地位的新一代器件。作为一项崭新的照明和显示技术,OLED技术在过去的十多年里发展迅猛,取得了巨大的成就。由于全球越来越多的照明和显示厂家纷纷投入研发,大大的推动了OLED的产业化进程,使得OLED产业的成长速度惊人,目前已经到达了大规模量产的前夜。
柔性有机电致发光器件是有机电致发光器件的发展趋势,传统的柔性有机电致发光器件,采用金属材料作为阴极层,由于金属在蒸镀制备时,容易存在针孔和缺陷,这样导致水汽和氧气容易从针孔和缺陷处向有机电致发光器件内部渗透,导致有机电致发光器件失效,因此封装的好坏直接影响有机电致发光器件的寿命。
传统的有机电致发光器件对水汽和氧气的阻挡性能不佳,使用寿命不长。
发明内容
基于此,有必要提供一种使用寿命较长的有机电致发光器件及其制备方法。
一种有机电致发光器件,包括依次层叠的如下结构:阳极导电基板、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极层、有机阻挡层、无机阻挡层、湿气吸收层和散热层;
所述无机阻挡层的材质为碲化物和硫化物的混合物,所述硫化物占所述无机阻挡层的重量百分比为10%~30%;
所述湿气吸收层的材质为氧化钙、氧化钡、氧化锶和氧化镁中的至少一种;
所述有机阻挡层的材质为酞菁铜、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、8-羟基喹啉铝、4,4',4”-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺和4,7-二苯基-1,10-邻菲罗啉中的至少一种;
所述散热层的材质为铝、银和铜中的至少一种。
在一个实施例中,所述碲化物为碲化锑、碲化铋、碲化镉、碲化铟、碲化锡和碲化铅中的一种。
在一个实施例中,所述硫化物为二硫化钼、二硫化钽、二硫化钨、三硫化二锑、硫化镉和硫化锌中的一种。
在一个实施例中,所述无机阻挡层的厚度为100nm~200nm;所述有机阻挡层的厚度为200nm~300nm。
在一个实施例中,所述湿气吸收层的厚度为100nm~500nm;所述散热层的厚度为200nm~500nm。
在一个实施例中,所述有机电致发光器件还包括封装盖,所述封装盖将所述空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极层、有机阻挡层、无机阻挡层、湿气吸收层和散热层封装于所述阳极导电基板上。
在一个实施例中,所述封装盖为金属箔片。
在一个实施例中,所述空穴注入层的材质为掺杂了三氧化钼的N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺,所述三氧化钼占所述空穴注入层的重量百分比为25%;
所述空穴传输层的材质为4,4',4”-三(咔唑-9-基)三苯胺;
所述发光层的材质为掺杂了三(2-苯基吡啶)合铱的1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯,所述三(2-苯基吡啶)合铱占所述发光层的重量百分比为5%;
所述电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉;
所述电子注入层的材质为掺杂了叠氮化铯的4,7-二苯基-1,10-菲罗啉,所述叠氮化铯占所述电子注入层的重量百分比为25%。
一种有机电致发光器件的制备方法,包括如下步骤:
提供阳极导电基板;
在所述阳极导电基板的阳极导电层上依次真空蒸镀形成空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极层;
在所述阴极层上真空蒸镀形成有机阻挡层;
在所述有机阻挡层表面依次磁控溅射制备无机阻挡层和湿气吸收层;
在所述湿气吸收层表面真空蒸镀制备散热层;
其中,所述无机阻挡层的材质为碲化物和硫化物的混合物,所述硫化物占所述无机阻挡层的重量百分比为10%~30%;
所述湿气吸收层的材质为氧化钙、氧化钡、氧化锶和氧化镁中的至少一种;
所述有机阻挡层的材质为酞菁铜、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、8-羟基喹啉铝、4,4',4”-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺和4,7-二苯基-1,10-邻菲罗啉中的至少一种;
所述散热层的材质为铝、银和铜中的至少一种。
在一个实施例中,所述空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极层真空蒸镀制备时,真空度为3×10-5Pa,蒸发速度为
所述有机阻挡层真空蒸镀制备时,其真空度为1×10-5Pa~1×10-3Pa,蒸发速度为
所述无机阻挡层和湿气吸收层磁控溅射制备时,其真空度为1×10-4Pa~1×10-3Pa;以及
所述散热层真空蒸镀制备时,其真空度为1×10-5Pa~1×10-3Pa,蒸发速度为上述有机电致发光器件包括依次层叠阳极导电基板、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极层、有机阻挡层、无机阻挡层、湿气吸收层和散热层,无机阻挡层的材质采用碲化物和硫化物的混合物,具有致密性高,防水防氧能力强等特点,湿气吸收层的材质采用氧化钙、氧化钡、氧化锶和氧化镁中的至少一种,能够吸收空气中的水汽。无机阻挡层和湿气吸收层协同作用,能够减少水汽和氧气进入有机电致发光器件,相对于传统的有机电致发光器件,这种有机电致发光器件具有较长的使用寿命。
附图说明
图1为一实施方式的有机电致发光器件结构示意图;
图2为一实施方式的有机电致发光器件制备方法流程图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进,因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。
如图1所示的一实施方式的有机电致发光器件100,包括依次层叠的如下结构:阳极导电基板110、空穴注入层115、空穴传输层120、发光层125、电子传输层130、电子注入层135、阴极层140、有机阻挡层145、无机阻挡层150、湿气吸收层155和散热层160。
阳极导电基板110的材质包括阳极导电层和基板,其基板可以为玻璃基板或有机薄膜基板,阳极导电层的材质可以为导电氧化物,如,氧化铟锡(ITO)、掺铝氧化锌(AZO)、掺铟氧化锌(IZO)或掺氟氧化锡(FTO),这些导电氧化物被制备在玻璃基板上,简称ITO玻璃、AZO玻璃、IZO玻璃、FTO玻璃。阳极导电基板可以自制,也可以市购获得。在实际应用中,可以根据需要选择其他合适的材料作为阳极导电基板110。在实际应用中,可以在阳极导电基板110上制备所需的有机电致发光器件的阳极图形。阳极导电基板的厚度可以为70nm~200nm。
空穴注入层115的材质可以为掺杂了三氧化钼的N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺,三氧化钼占空穴注入层115的重量百分比可以为25%~30%。空穴注入层115的作用为有利于空穴从阳极注入到传输材料中。
空穴传输层120的材质可以为4,4',4”-三(咔唑-9-基)三苯胺。空穴传输层120的作用为传输空穴,有利于空穴传输到发光材料中。
发光层125的材质可以为掺杂了三(2-苯基吡啶)合铱的1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯,三(2-苯基吡啶)合铱占发光层125的重量百分比可以为5%。电子和空穴在发光层125中复合,然后将能量转移给发光分子发光。
电子传输层130的材质可以为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉。电子传输层130的作用为传输电子,有利于电子传输到发光材料中。
电子注入层135的材质可以为掺杂了叠氮化铯的4,7-二苯基-1,10-菲罗啉,叠氮化铯占电子注入层135的重量百分比可以为25%~30%。电子注入层135的作用为注入电子,有利于电子从阳极注入到传输材料中。
有机电致发光器件100中包含有空穴注入层115、空穴传输层120、电子传输层130和电子注入层135能够降低有机电致发光器件的工作电压和提高有机电致发光器件的发光效率。
阴极层140的材质可以为锂(Li)、镁(Mg)、钙(Ca)、银(Ag)、钐(Sm)、镱(Yb)、铝(Al)或其合金。
阴极层140的厚度可以为20nm~100nm。在实际应用中,可以根据需要选择合适的阴极层140的材质和厚度。
有机阻挡层145的材质可以为酞菁铜(CuPc)、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺(NPB)、8-羟基喹啉铝(Alq3)、4,4',4”-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺(m-MTDATA)和4,7-二苯基-1,10-邻菲罗啉(BCP)中的至少一种。有机阻挡层145的材质为CuPc、NPB、Alq3、m-MTDATA和BCP中的至少一种时,有机阻挡层145具有柔韧性,能够增加阴极层140和无机阻挡层150的力学性能,使有机电致发光器件不容易产生裂纹或者空隙。
有机阻挡层145的厚度可以为200nm~300nm。
无机阻挡层150的材质可以为碲化物和硫化物的混合物。其中碲化物占无机阻挡层150的重量百分比为10%~30%。
碲化物可以为碲化锑(Sb2Te3)、碲化铋(Bi2Te)、碲化镉(CdTe)、碲化铟(In2Te3)、碲化锡(SnTe)和碲化铅(PbTe)中的一种。
硫化物可以为二硫化钼(MoS2)、二硫化钽(TaS2)、二硫化钨(WS2)、三硫化二锑(Sb2S3)、硫化镉(CdS)和硫化锌(ZnS)中的一种。
无机阻挡层150的材质采用碲化物和硫化物的混合物,致密性高,能够很好地防止水汽和氧气进入有机电致发光器件。
无机阻挡层150的厚度可以为100nm~200nm。
湿气吸收层155的材质可以为氧化钙(CaO)、氧化钡(BaO)、氧化锶(SrO)和氧化镁(MgO)中的至少一种。湿气吸收层155的厚度为100nm~500nm。湿气吸收层155的材质采用CaO、BaO、SrO和MgO中的至少一种,能够吸收进入有机电致发光器件的水汽,降低水汽对有机电致发光器件产生的破坏。
散热层160的材质可以为铝(Al)、银(Ag)和铜(Cu)中的至少一种。散热层160的厚度为200nm~500nm。金属铝、银和铜具有较高的导热系数,能够将有机电致发光器件工作时产生的热量及时的散发出来,提高有机电致发光器件的散热能力,延长使用寿命。
有机电致发光器件100还可以包括封装盖。封装盖将空穴注入层115、空穴传输层120、发光层125、电子传输层130、电子注入层135、阴极层140、有机阻挡层145、无机阻挡层150、湿气吸收层155和散热层160封装于阳极导电基板110上。
封装盖可以为金属箔片。采用金属箔片作为封装盖,能够提高有机电致发光器件100的散热能力,将封装对光效的影响降到最低。
上述有机电致发光器件包括依次层叠的如下结构:阳极导电基板110、空穴注入层115、空穴传输层120、发光层125、电子传输层130、电子注入层135、阴极层140、有机阻挡层145、无机阻挡层150、湿气吸收层155和散热层160,无机阻挡层150的材质采用碲化物和硫化物的混合物,具有致密性高,防水防氧能力强等特点,湿气吸收层155的材质采用CaO、BaO、SrO和MgO中的至少一种,能够吸收空气中的水汽。无机阻挡层150和湿气吸收层155协同作用,能够减少水汽和氧气进入有机电致发光器件,相对于传统的有机电致发光器件,这种有机电致发光器件具有较长的使用寿命。
如图2所示,上述有机电致发光器件的制备方法,包括如下步骤:
S10、提供阳极导电基板110。
包括阳极导电层和基板,其基板可以为玻璃基板或有机薄膜基板,阳极导电层的材质可以为导电氧化物,如,氧化铟锡(ITO)、掺铝氧化锌(AZO)、掺铟氧化锌(IZO)或掺氟氧化锡(FTO),这些导电氧化物被制备在玻璃基板上,简称ITO玻璃、AZO玻璃、IZO玻璃、FTO玻璃。阳极导电基板可以自制,也可以市购获得。在实际应用中,可以根据需要选择其他合适的材料作为阳极导电基板110。在实际应用中,可以在阳极导电基板110上制备所需的有机电致发光器件的阳极图形。
阳极导电基板110的厚度可以为70nm~200nm。
将阳极导电基板110依次进行如下处理:丙酮清洗→乙醇清洗→去离子水清洗→乙醇清洗,均用超声波清洗机进行清洗,每次清洗时间为5分钟,然后用氮气吹干,烘箱烤干待用。对洗净后的阳极导电基板110还可以进行表面活化处理,以增加阳极导电基板110的导电层表面的含氧量,提高导电层表面的功函数。
S20、在阳极导电基板110的阳极导电层上依次真空蒸镀形成空穴注入层115、空穴传输层120、发光层125、电子传输层130、电子注入层135和阴极层140。
空穴注入层115的材质可以为掺杂了三氧化钼的N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺,三氧化钼占空穴注入层115的重量百分比可以为25%~30%。
空穴传输层120的材质可以为4,4',4”-三(咔唑-9-基)三苯胺。
发光层125的材质可以为掺杂了三(2-苯基吡啶)合铱的1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯,三(2-苯基吡啶)合铱占发光层125的重量百分比可以为5%;
电子传输层130的材质可以为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉;
电子注入层135的材质可以为掺杂了叠氮化铯的4,7-二苯基-1,10-菲罗啉,叠氮化铯占电子注入层135的重量百分比可以为25%~30%。
有机电致发光器件100中包含有空穴注入层115、空穴传输层120、电子传输层130和电子注入层135能够降低有机电致发光器件的工作电压和提高有机电致发光器件的发光效率。
阴极层140的材质可以为Li、Mg、Ca、Ag、Sm、Yb、Al或其合金。
阴极层140的厚度可以为20nm~100nm。在实际应用中,可以根据需要选择合适的阴极层140的材质和厚度。
S30、在阴极层140上真空蒸镀形成有机阻挡层145。
有机阻挡层145的材质可以为酞菁铜(CuPc)、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺(NPB)、8-羟基喹啉铝(Alq3)、4,4',4”-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺(m-MTDATA)和4,7-二苯基-1,10-邻菲罗啉(BCP)中的至少一种。有机阻挡层145的材质为CuPc、NPB、Alq3、m-MTDATA和BCP中的至少一种时,从而使得有机阻挡层145具有柔韧性,能够缓减阴极层140和无机阻挡层150之间的应力,使有机电致发光器件100不容易产生裂纹或者空隙。
有机阻挡层145的厚度可以为200nm~300nm。
有机阻挡层145采用真空蒸镀的方式制备,在真空度为1×10-5Pa~1×10-3Pa,蒸发速度为的条件下形成。
S40、在有机阻挡层145表面依次磁控溅射制备无机阻挡层150和湿气吸收层155。
无机阻挡层150的材质可以为碲化物和硫化物的混合物,其中碲化物占无机阻挡层150的重量百分比为10%~30%。无机阻挡层150的材质采用碲化物和硫化物的混合物,致密性高,能够很好地防止水汽和氧气进入有机电致发光器件。
碲化物可以为Sb2Te3、Bi2Te、CdTe、In2Te3、SnTe和PbTe中的一种。
硫化物可以为MoS2、TaS2、WS2、Sb2S3、CdS和ZnS中的一种
无机阻挡层150的厚度可以为100nm~200nm。
无机阻挡层150采用磁控溅射制备,在本底真空度为1×10-4Pa~1×10-3Pa的条件下形成。
湿气吸收层155材质可以为CaO、BaO、SrO和MgO中的至少一种。
湿气吸收层155的厚度可以为100nm~500nm。
湿气吸收层155可以采用磁控溅射制备,在本底真空度为1×10-4Pa~1×10-3Pa的条件下形成。
S50、在湿气吸收层155表面真空蒸镀制备散热层160。
散热层160的材质可以为铝、银和铜中的至少一种。
散热层160的厚度可以为200nm~500nm。
散热层160可以采用真空蒸镀制备,在真空度为1×10-5Pa~1×10-3Pa,蒸发速度为的条件下形成。
在步骤S50中,还可以使用封装盖将空穴注入层115、空穴传输层120、发光层125、电子传输层130、电子注入层135、阴极层140、有机阻挡层145、无机阻挡层150、湿气吸收层155和散热层160封装于阳极导电基板上。
可以将封装盖覆盖在散热层160上,接着在封装盖边缘涂布封装胶,用UV光(λ=365nm)进行固化,光强15mW/cm2~25mW/cm2,曝光时间300s~400s,得到有机电致发光器件100。
封装盖可以为金属箔片。采用金属箔片作为封装盖,能够提高有机电致发光器件100的散热能力,将封装对光效的影响降到最低。
上述有机电致发光器件的制备方法适用于以玻璃、塑料或金属为基底的柔性有机电致发光器件的制备。
上述有机电致发光器件的制备方法具有封装材料廉价,制备工艺简单,易大面积制备等优点。制备得到的有机电致发光器件防水氧能力(watervaportransmissionrate,WVTR)强,WVTR可以达到10-5g/m2·day,同时对有机电致发光器件的寿命有显著的提高,使用寿命可以达到10,500小时以上(T701000cd/m2)。
下面为具体实施例部分。
实施例1
提供厚度为100nm的ITO玻璃基板作为导电基底,并对其进行如下处理:丙酮清洗→乙醇清洗→去离子水清洗→乙醇清洗,均用超声波清洗机进行清洗,每次清洗时间为5分钟,然后用氮气吹干,烘箱烤干待用。对洗净后的ITO玻璃还需进行表面活化处理,以增加导电层表面的含氧量,提高导电层表面的功函数。
在真空度为3×10-5Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在ITO基板上形成空穴注入层;空穴注入层的材质为掺杂了MoO3的NPB,其中MoO3占空穴传输层的重量百分比为30%,形成的空穴传输层的厚度为10nm。
在真空度为3×10-5Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在空穴注入层上形成空穴传输层。空穴传输层的材质为4,4',4”-三(咔唑-9-基)三苯胺(TCTA),形成的空穴传输层的厚度为30nm。
在真空度为3×10-5Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在空穴传输层上形成发光层。发光层的材质为掺杂了三(2-苯基吡啶)合铱(Ir(ppy)3)的1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯(TPBI)。其中,三(2-苯基吡啶)合铱(Ir(ppy)3)占发光层的重量百分比为5%,形成的发光层的厚度为20nm。
在真空度为3×10-5Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在发光层上形成电子传输层。电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉(Bphen),形成的电子传输层的厚度为10nm。
在真空度为3×10-5Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在电子传输层上形成电子注入层。电子注入层的材质为掺杂了CsN3的Bphen,其中,CsN3占电子注入层的重量百分比为30%,形成的电子注入层的厚度为20nm。
在真空度为3×10-5Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在电子注入层上形成阴极层。阴极层的材质为铝(Al),形成的阴极层的厚度为100nm。
在真空度为1×10-5Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀的方式在阴极层上形成有机阻挡层。有机阻挡层的材质为CuPc,形成的有机阻挡层的厚度为300nm。
在本底真空度为1×10-4Pa的条件下,采用磁控溅射法在有机阻挡层上形成无机阻挡层。无机阻挡层的材质为Sb2Te3和MoS2,其中,MoS2占无机阻挡层的重量百分比为20%。形成的无机阻挡层的厚度为100nm。
在本底真空度为1×10-4Pa的条件下,采用磁控溅射法在无机阻挡层上形成湿气吸收层。湿气吸收层的材质为CaO。形成的湿气吸收层的厚度为100nm。
在真空度为1×10-5Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在湿气吸收层上形成散热层。散热层的材质为金属铝。形成的散热层的厚度为200nm。得到有机电致发光器件。
实施例2
实施例2的有机电致发光器件的制备方法和实施例1基本相同,不同之处在于:
在进行了表面活化处理的ITO玻璃上制备所需的有机电致发光器件的阳极图形。
在真空度为5×10-5Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在阴极层上形成有机阻挡层。有机阻挡层的材质为NPB,形成的有机阻挡层的厚度为250nm。
在本底真空度为5×10-4Pa的条件下,采用磁控溅射法在有机阻挡层上形成无机阻挡层。无机阻挡层的材质为Bi2Te和TaS2,其中,TaS2占无机阻挡层的重量百分比为15%。形成的无机阻挡层的厚度为120nm。
在本底真空度为5×10-4Pa的条件下,采用磁控溅射法在无机阻挡层上形成湿气吸收层。湿气吸收层的材质为BaO。形成的湿气吸收层的厚度为200nm。
在真空度为5×10-5Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在湿气吸收层上形成散热层。散热层的材质为金属银。形成的散热层的厚度为500nm。
在散热层上覆盖一层金属箔片,并在金属箔片边缘涂布封装胶,用UV光(λ=365nm)进行固化,其中,光强为25mW/cm2,曝光时间为400s,得到封装好的有机电致发光器件。
实施例3
实施例3的有机电致发光器件的制备方法和实施例1基本相同,不同之处在于:
在真空度为5×10-5Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在阴极层上形成有机阻挡层。有机阻挡层的材质为Alq3,形成的有机阻挡层的厚度为200nm。
在本底真空度为5×10-4Pa的条件下,采用磁控溅射法在有机阻挡层上形成无机阻挡层。无机阻挡层的材质为CdTe和WS2。其中,WS2占无机阻挡层的重量百分比为30%。形成的无机阻挡层的厚度为200nm。
在本底真空度为5×10-4Pa的条件下,采用磁控溅射法在无机阻挡层上形成湿气吸收层。湿气吸收层的材质为SrO。形成的湿气吸收层的厚度为150nm。
在真空度为1×10-3Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在湿气吸收层上形成散热层。散热层的材质为金属铜。形成的散热层的厚度为300nm。
在散热层上覆盖一层金属箔片,并在金属箔片边缘涂布封装胶,用UV光(λ=365nm)进行固化,其中,光强为15mW/cm2,曝光时间为300s,得到封装好的有机电致发光器件。
实施例4
实施例4的有机电致发光器件的制备方法和实施例1基本相同,不同之处在于:
在真空度为5×10-5Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在阴极层上形成有机阻挡层。有机阻挡层的材质为m-MTDATA。形成的有机阻挡层的厚度为250nm。
在本底真空度为5×10-4Pa的条件下,采用磁控溅射法在有机阻挡层上形成无机阻挡层。无机阻挡层的材质为In2Te3和Sb2S3。其中,Sb2S3占无机阻挡层的重量百分比为10%。形成的无机阻挡层的厚度为100nm。
在本底真空度为5×10-4Pa的条件下,采用磁控溅射法在无机阻挡层上形成湿气吸收层。湿气吸收层的材质为MgO。形成的湿气吸收层的厚度为100nm。
在真空度为5×10-5Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在湿气吸收层上形成散热层。散热层的材质为铜铝合金,铜和铝重量比为3:1。形成的散热层的厚度为500nm。
在散热层上覆盖一层金属箔片,并在金属箔片边缘涂布封装胶,用UV光(λ=365nm)进行固化,其中,光强为20mW/cm2,曝光时间为350s,得到封装好的有机电致发光器件。
实施例5
实施例5的有机电致发光器件的制备方法和实施例1基本相同,不同之处在于:
在真空度为5×10-5Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在阴极层上形成有机阻挡层。有机阻挡层的材质为BCP,形成的有机阻挡层的厚度为250nm。
在本底真空度为5×10-4Pa的条件下,采用磁控溅射法在有机阻挡层上形成无机阻挡层。无机阻挡层的材质为SnTe和CdS。其中,CdS占无机阻挡层的重量百分比为20%。形成的无机阻挡层的厚度为150nm。
在本底真空度为5×10-4Pa的条件下,采用磁控溅射法在无机阻挡层上形成湿气吸收层。湿气吸收层的材质为CaO。形成的湿气吸收层的厚度为200nm。
在真空度为5×10-5Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在湿气吸收层上形成散热层。散热层的材质为金属铝。形成的散热层的厚度为300nm。
在散热层上覆盖一层金属箔片,并在金属箔片边缘涂布封装胶,用UV光(λ=365nm)进行固化,其中,光强为20mW/cm2,曝光时间为340s,得到封装好的有机电致发光器件。
实施例6
实施例6的有机电致发光器件的制备方法和实施例1基本相同,不同之处在于:
在真空度为1×10-3Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在阴极层上形成有机阻挡层。有机阻挡层的材质为CuPc。形成的有机阻挡层的厚度为250nm。
在本底真空度为1×10-3Pa的条件下,采用磁控溅射法在有机阻挡层上形成无机阻挡层。无机阻挡层的材质为PbTe和ZnS,其中,ZnS占无机阻挡层的重量百分比为20%。形成的无机阻挡层的厚度为120nm。
在本底真空度为1×10-3Pa的条件下,采用磁控溅射法在无机阻挡层上形成湿气吸收层。湿气吸收层的材质为BaO。形成的湿气吸收层的厚度为150nm。
在真空度为5×10-5Pa的条件下,以的蒸发速度,采用真空蒸镀法在湿气吸收层上形成散热层。散热层的材质为金属银。形成的散热层的厚度为300nm。
在散热层上覆盖一层金属箔片,并在金属箔片边缘涂布封装胶,用UV光(λ=365nm)进行固化,其中,光强为18mW/cm2,曝光时间为360s,得到封装好的有机电致发光器件。
下表为实施例1~实施例6制备的有机电致发光器件的水蒸气透过率(WVTR)和使用寿命的数据。
从上表可以看出,采用上述方法制备得到的有机电致发光器件防水防氧能力强,WVTR可以达到8.5×10-5g/m2·day,同时制备得到的有机电致发光器件的使用寿命可以达到10,500小时以上(T701000cd/m2)。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种有机电致发光器件,其特征在于,包括依次层叠的如下结构:阳极导电基板、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极层、有机阻挡层、无机阻挡层、湿气吸收层和散热层;
所述无机阻挡层的材质为碲化物和硫化物的混合物,所述硫化物占所述无机阻挡层的重量百分比为10%~30%;
所述湿气吸收层的材质为氧化钙、氧化钡、氧化锶和氧化镁中的至少一种;
所述有机阻挡层的材质为酞菁铜、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、8-羟基喹啉铝、4,4',4”-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺和4,7-二苯基-1,10-邻菲罗啉中的至少一种;
所述散热层的材质为铝、银和铜中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述碲化物为碲化锑、碲化铋、碲化镉、碲化铟、碲化锡和碲化铅中的一种。
3.根据权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述硫化物为二硫化钼、二硫化钽、二硫化钨、三硫化二锑、硫化镉和硫化锌中的一种。
4.根据权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述无机阻挡层的厚度为100nm~200nm;所述有机阻挡层的厚度为200nm~300nm。
5.根据权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述湿气吸收层的厚度为100nm~500nm;所述散热层的厚度为200nm~500nm。
6.根据权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述有机电致发光器件还包括封装盖,所述封装盖将所述空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极层、有机阻挡层、无机阻挡层、湿气吸收层和散热层封装于所述阳极导电基板上。
7.根据权利要求6所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述封装盖为金属箔片。
8.根据权利要求1或7所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述空穴注入层的材质为掺杂了三氧化钼的N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺,所述三氧化钼占所述空穴注入层的重量百分比为25%;
所述空穴传输层的材质为4,4',4”-三(咔唑-9-基)三苯胺;
所述发光层的材质为掺杂了三(2-苯基吡啶)合铱的1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯,所述三(2-苯基吡啶)合铱占所述发光层的重量百分比为5%;
所述电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉;
所述电子注入层的材质为掺杂了叠氮化铯的4,7-二苯基-1,10-菲罗啉,所述叠氮化铯占所述电子注入层的重量百分比为25%。
9.一种有机电致发光器件的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
提供阳极导电基板;
在所述阳极导电基板的阳极导电层上依次真空蒸镀形成空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极层;
在所述阴极层上真空蒸镀形成有机阻挡层;
在所述有机阻挡层表面依次磁控溅射制备无机阻挡层和湿气吸收层;
在所述湿气吸收层表面真空蒸镀制备散热层;
其中,所述无机阻挡层的材质为碲化物和硫化物的混合物,所述硫化物占所述无机阻挡层的重量百分比为10%~30%;
所述湿气吸收层的材质为氧化钙、氧化钡、氧化锶和氧化镁中的至少一种;
所述有机阻挡层的材质为酞菁铜、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、8-羟基喹啉铝、4,4',4”-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺和4,7-二苯基-1,10-邻菲罗啉中的至少一种;
所述散热层的材质为铝、银和铜中的至少一种。
10.根据权利要求9所述的有机电致发光器件的制备方法,其特征在于,
所述空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极层真空蒸镀制备时,真空度为3×10-5Pa,蒸发速度为
所述有机阻挡层真空蒸镀制备时,其真空度为1×10-5Pa~1×10-3Pa,蒸发速度为
所述无机阻挡层和湿气吸收层磁控溅射制备时,其真空度为1×10-4Pa~1×10-3Pa;以及
所述散热层真空蒸镀制备时,其真空度为1×10-5Pa~1×10-3Pa,蒸发速度为
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