CN103904232A - 一种有机电致发光器件及其制备方法 - Google Patents

一种有机电致发光器件及其制备方法 Download PDF

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王平
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Abstract

本发明公开了一种有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极导电基板、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极，所述阴极上还设有阻挡层，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层。本发明还公开了该有机电致发光器件的制备方法。本发明所述有机电致发光器件上设有阻挡层，可有效地减少水、氧等活性物质对有机电致发光器件的侵蚀，提高了有机电致发光器件的寿命，制备工艺简单，成本低，适于工业化生产。

Description

一种有机电致发光器件及其制备方法
技术领域
本发明涉及电子器件相关领域，尤其涉及一种有机电致发光器件及其制备方法。
背景技术
有机电致发光器件（Organic light-emitting Devices，简称OLEDs）是一种使用有机发光材料的多层发光器件，包括依次层叠的阳极层、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极。OLED的发光原理是基于在外加电场的作用下，电子从阴极注入到有机物的最低未占有分子轨道（LUMO），而空穴从阳极注入到有机物的最高占有轨道（HOMO），电子和空穴在发光层相遇、复合、形成激子，激子在电场作用下迁移，将能量传递给发光材料，激发电子从基态跃迁到激发态，激发态能量通过辐射失活，产生光子，释放光能。OLED因其具有发光效率高、驱动电压低、视角宽、发光颜色选择范围宽、制作工艺简单，以及易实现全色和柔性显示等特点，在照明和平板显示领域引起了越来越多的关注，并被认为是最有可能在未来的照明和显示器件市场上占据霸主地位的新一代器件。
目前，有机电致发光器件存在寿命较短的问题，这主要是因为有机材料薄膜很疏松，易被空气中的水汽和氧气等成分渗入后迅速发生老化。因此，有机电致发光器件进入实际使用之前必须进行封装，封装的好坏直接关系到有机电致发光器件的寿命。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的缺陷，提供一种有机电致发光器件及其制备方法。该有机电致发光器件上设有阻挡层，可有效地减少水、氧等活性物质对有机电致发光器件的侵蚀，提高了有机电致发光器件的寿命，制备方法工艺简单，材料廉价易得，适于工业化生产。
第一方面，本发明提供一种有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极导电基板、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极，所述阴极上还设有阻挡层，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层；所述有机阻挡层的材质为酞菁铜、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、8-羟基喹啉铝、4,4',4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺和4，7－二苯基－1，10－邻菲罗啉中的任意一种；所述无机阻挡层的材质为MgAl2O4、Bi2Ti4O11、CrNiO4、CoCr2O4、Fe2LuO4或Y3Al5O12；所述湿气吸收层的材质为氧化钙、氧化钡、氧化锶和氧化镁中的任意一种。
优选地，所述有机阻挡层的厚度为200nm～300nm，所述无机阻挡层的厚度为100nm～200nm，所述湿气吸收层的厚度为100nm～200nm。
其中，所述阳极导电基板为导电玻璃基板或导电有机薄膜基板。优选地，所述阳极导电基板为导电有机薄膜基板。有机薄膜基板柔软，以有机薄膜基板作为阳极，可制作柔性有机电致发光器件。
其中，所述阳极导电基板包括基底与磁控溅射在基底上的导电阳极层。优选地，所述导电阳极层的材质为铟锡氧化物（ITO）。
优选地，所述空穴注入层的材质为MoO3按照30wt%的掺杂浓度掺杂入N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺中组成的掺杂混合材料；所述空穴传输层的材质为4,4',4″-三（咔唑-9-基）三苯胺；所述发光层的材质为三（2-苯基吡啶）合铱按照5wt%的掺杂浓度掺杂入1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯中组成的掺杂混合材料；所述电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉；所述电子注入层的材质为CsN3按照30wt%的掺杂浓度掺入4,7-二苯基-1,10-菲罗啉中组成的混合材料。
优选地，所述阻挡层上还设有散热层和封装盖，所述封装盖与所述阳极导电基板形成封闭空间，所述空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层和散热层容置在所述封闭空间内。设置封装盖，与阳极导电基板形成封闭空间，可以更好地对有机电致发光器件形成保护。
优选地，所述散热层的厚度为200～500nm。
更优选地，所述散热层的材质为铝、银与铜中的一种或多种组合。铝、银和铜的散热性好，增加铝、银和/或铜层作为散热层，可提高有机电致发光器件的散热能力，延长有机电致发光器件的寿命。
其中，所述封装盖为金属箔片或含铝耐高温聚酯薄膜（简写为含铝PET膜）。优选地，所述封装盖为金属箔片。以金属箔片作为封装盖，可以提高有机电致发光器件的散热能力，将封装对光效的影响降到最低。
在本发明中，有机阻挡层的存在可以阻挡外部水、氧等活性物质对有机电致发光器件的侵蚀，提高了有机电致发光器件的寿命；无机阻挡层为合金氧化物，致密性高，防水防氧的能力强；湿气吸收层的材质为氧化氧化物，吸湿性好，可吸收有机电致发光器件周围的湿气，能有效减小湿气对有机电致发光器件生产的危害。
本发明通过在阴极上设置阻挡层，大大减少了外部水、氧等活性物质对有机电致发光器件的侵蚀，从而对有机电致发光器件的功能部件形成有效的保护，显著地提高了有机电致发光器件的寿命。
第二方面，本发明提供一种有机电致发光器件的制备方法，包括如下步骤：
（1）提供清洁干燥的阳极导电基板，并在所述阳极导电基板的导电阳极层上依次真空蒸镀制备空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极；
（2）在所述阴极上制备阻挡层，得到有机电致发光器件；其中，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层，具体制备方法如下：
（a）在所述阴极上真空蒸镀制备有机阻挡层；
（b）采用磁控溅射的方式在所述有机阻挡层上制备无机阻挡层；
（c）采用磁控溅射的方式在所述无机阻挡层上制备湿气吸收层。
其中，所述有机阻挡层的材质为酞菁铜、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、8-羟基喹啉铝、4,4',4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺和4，7－二苯基－1，10－邻菲罗啉中的任意一种；所述无机阻挡层的材质为MgAl2O4、Bi2Ti4O11、CrNiO4、CoCr2O4、Fe2LuO4或Y3Al5O12；所述湿气吸收层的材质为氧化钙、氧化钡、氧化锶和氧化镁中的任意一种。
优选地，步骤（a）中所述有机阻挡层的蒸镀，真空度为1×10-5Pa～1×10-3Pa，蒸发速度
优选地，步骤（b）中所述无机阻挡层的磁控溅射，真空磁控溅射时的本底真空度为1×10-4～1×10-3Pa。
优选地，步骤（c）中湿气吸收层的磁控溅射，本底真空度为1×10-4～1×10-3Pa。
优选地，所述有机阻挡层的厚度为200nm～300nm，所述无机阻挡层的厚度为100nm～200nm，所述湿气吸收层的厚度为100nm～200nm。
具体地，所述阳极导电基板的清洁干燥，具体操作为，将阳极导电基板依次放入丙酮、乙醇、去离子水、乙醇中进行超声清洗，然后采用氮气吹干，并放入烘箱中烤干待用。
其中，所述阳极导电基板为导电玻璃基板或导电有机薄膜基板。优选地，所述阳极导电基板为导电有机薄膜基板。有机薄膜基板柔软，以有机薄膜基板作为阳极，可制作柔性有机电致发光器件。
其中，所述阳极导电基板包括基底与磁控溅射在基底上的导电阳极层。优选地，所述导电阳极层的材质为铟锡氧化物（ITO）。
优选地，所述导电阳极层的厚度为100nm。
优选地，所述有机电致发光器件的制备方法中，提供清洁干燥的阳极导电基板后，还对阳极导电基板进行了表面活化处理。这样可以增加导电表面层的含氧量，提高导电层表面的功函数。
优选地，所述空穴注入层的材质为MoO3按照30wt%的掺杂浓度掺杂入N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺中组成的掺杂混合材料；所述空穴传输层的材质为4,4',4″-三（咔唑-9-基）三苯胺；所述发光层的材质为三（2-苯基吡啶）合铱按照5wt%的掺杂浓度掺杂入1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯中组成的掺杂混合材料；所述电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉；所述电子注入层的材质为CsN3按照30wt%的掺杂浓度掺入4,7-二苯基-1,10-菲罗啉中组成的混合材料。
优选地，所述空穴注入层的厚度为10nm，所述空穴传输层的厚度为30nm，所述发光层的厚度为20nm，所述电子传输层的厚度为10nm，所述电子注入层的厚度为20nm。
优选地，空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层采用真空蒸镀的方法进行制备，真空蒸镀时，真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500051
Figure BDA00002647928500052
优选地，所述阴极的材质为铝，厚度为100nm，所述阴极采用真空蒸镀的方法进行制备，真空蒸镀时，真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500053
优选地，所述制备方法在步骤（2）后还包括：
（3）在步骤（2）得到的有机电致发光器件的湿气吸收层上真空蒸镀制备散热层；
（4）提供封装盖，在封装盖边缘涂布封装胶，然后将封装盖覆盖在所述散热层上，用紫外光照射使封装胶固化，密封形成封闭空间，将所述空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层和散热层容置在所述封闭空间内，得到密封的有机电致发光器件。
优选地，步骤（3）中所述散热层的蒸镀，真空度1×10-5Pa～1×10-3Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500054
优选地，所述散热层的厚度为200～500nm。
优选地，步骤（4）中所述紫外光照射，光强为15～25mW/cm2，曝光时间为300～400秒。
更优选地，所述散热层的材质为铝、银与铜中的一种或多种组合。铝、银和铜的散热性好，增加铝、银和/或铜层作为散热层，可提高有机电致发光器件的散热能力，延长有机电致发光器件的寿命。
其中，所述封装盖为金属箔片或含铝耐高温聚酯薄膜（简写为含铝PET膜）。优选地，所述封装盖为金属箔片。以金属箔片作为封装盖，可以提高有机电致发光器件的散热能力，将封装对光效的影响降到最低。
本发明制备方法工艺简单，原料廉价易得，适用于封装以导电玻璃为阳极基板制备的有机电致发光器件，也适用于柔性有机电致发光器件。
相比于现有技术，本发明提供的一种有机电致发光器件及其制备方法具有以下有益效果：
（1）通过在阴极上设置阻挡层，大大减少了外部水、氧等活性物质对有机电致发光器件的侵蚀，从而对有机电致发光器件的功能部件形成有效的保护，显著地提高了有机电致发光器件的寿命；
（2）制备方法工艺简单，原料廉价易得，适用于封装以导电玻璃为阳极基板制备的有机电致发光器件，也适用于柔性有机电致发光器件。
附图说明
为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例1制得的有机电致发光器件的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施方式中的附图，对本发明实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述。
一种有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极导电基板、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极，所述阴极上还设有阻挡层，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层；所述有机阻挡层的材质为酞菁铜（分子式为CuPc）、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺（表示为NPB）、8-羟基喹啉铝（表示为Alq3）、4,4',4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺（表示为m-MTDATA）和4，7-二苯基-1，10-邻菲罗啉（表示为BCP）中的任意一种；所述无机阻挡层的材质为MgAl2O4、Bi2Ti4O11、CrNiO4、CoCr2O4、Fe2LuO4或Y3Al5O12；所述湿气吸收层的材质为氧化钙（分子式为CaO）、氧化钡（分子式为BaO）、氧化锶（分子式为SrO）和氧化镁（分子式为MgO）中的任意一种。
所述有机阻挡层的厚度为200nm～300nm，所述无机阻挡层的厚度为100nm～200nm，所述湿气吸收层的厚度为100nm～200nm。
其中，阳极导电基板包括阳极导电层和基板，其基板可以为玻璃基板或有机薄膜基板，阳极导电层的材质可以为导电氧化物，如，氧化铟锡（ITO）、掺铝氧化锌（AZO）、掺铟氧化锌（IZO）或掺氟氧化锌（FTO），这些导电氧化物被制备在玻璃基板上，简称ITO玻璃、AZO玻璃、IZO玻璃、FTO玻璃。阳极导电基板可以自制，也可以市购获得。在实际应用中，可以根据需要选择其他合适的材料作为阳极导电基板。在实际应用中，可以在阳极导电基板上制备所需的有机电致发光器件的阳极图形。阳极导电基板为现有技术，在此不再赘述。
所述空穴注入层的材质为MoO3按照30wt%的掺杂浓度掺杂入N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺中组成的掺杂混合材料（表示为MoO3-NPB）；所述空穴传输层的材质为4,4',4″-三（咔唑-9-基）三苯胺（TCTA）；所述发光层的材质为三（2-苯基吡啶）合铱按照5wt%的掺杂浓度掺杂入1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯中组成的掺杂混合材料（表示为Ir(ppy)3-TPBI）；所述电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉（表示为Bphen）；所述电子注入层的材质为CsN3按照30wt%的掺杂浓度掺入4,7-二苯基-1,10-菲罗啉中组成的混合材料（表示为CsN3-Bphen）。
所述阻挡层上还设有散热层和封装盖，所述封装盖与所述阳极导电基板形成封闭空间，所述空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层和散热层容置在所述封闭空间内。设置封装盖，与阳极导电基板形成封闭空间，可以更好地对有机电致发光器件形成保护。
所述散热层的厚度为200～500nm。
所述散热层的材质为铝、银与铜中的一种或多种组合。铝、银和铜的散热性好，增加铝、银和/或铜层作为散热层，可提高有机电致发光器件的散热能力，延长有机电致发光器件的寿命。
其中，所述封装盖为金属箔片或含铝耐高温聚酯薄膜（简写为含铝PET膜）。
所述封装盖为金属箔片。以金属箔片作为封装盖，可以提高有机电致发光器件的散热能力，将封装对光效的影响降到最低。
在本发明中，有机阻挡层的存在可以阻挡外部水、氧等活性物质对有机电致发光器件的侵蚀，提高了有机电致发光器件的寿命；无机阻挡层为合金氧化物，致密性高，防水防氧的能力强；湿气吸收层的材质为氧化氧化物，吸湿性好，可吸收有机电致发光器件周围的湿气，能有效减小湿气对有机电致发光器件生产的危害。
本发明通过在阴极上设置阻挡层，大大减少了外部水、氧等活性物质对有机电致发光器件的侵蚀，从而对有机电致发光器件的功能部件形成有效的保护，显著地提高了有机电致发光器件的寿命。
第二方面，本发明提供一种有机电致发光器件的制备方法，包括如下步骤：
（1）提供清洁干燥的阳极导电基板，并在所述阳极导电基板的导电阳极层上依次真空蒸镀制备空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极；
（2）在所述阴极上制备阻挡层，得到有机电致发光器件；其中，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层，具体制备方法如下：
（a）在所述阴极上真空蒸镀制备有机阻挡层；
（b）采用磁控溅射的方式在所述有机阻挡层上制备无机阻挡层；
（c）采用磁控溅射的方式在所述无机阻挡层上制备湿气吸收层。
其中，所述有机阻挡层的材质为酞菁铜（分子式为CuPc）、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺（表示为NPB）、8-羟基喹啉铝（表示为Alq3）、4,4',4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺（表示为m-MTDATA）和4，7-二苯基-1，10-邻菲罗啉（表示为BCP）中的任意一种；所述无机阻挡层的材质为MgAl2O4、Bi2Ti4O11、CrNiO4、CoCr2O4、Fe2LuO4或Y3Al5O12；所述湿气吸收层的材质为氧化钙（分子式为CaO）、氧化钡（分子式为BaO）、氧化锶（分子式为SrO）和氧化镁（分子式为MgO）中的任意一种。
步骤（a）中所述有机阻挡层的蒸镀，真空度为1×10-5Pa～1×10-3Pa，蒸发速度
步骤（b）中所述无机阻挡层的磁控溅射，真空磁控溅射时的本底真空度为1×10-4～1×10-3Pa。
步骤（c）中湿气吸收层的磁控溅射，本底真空度为1×10-4～1×10-3Pa。
所述有机阻挡层的厚度为200nm～300nm，所述无机阻挡层的厚度为100～200nm，所述湿气吸收层的厚度为100nm～200nm。
所述阳极导电基板的清洁干燥，具体操作为，将阳极导电基板依次放入丙酮、乙醇、去离子水、乙醇中进行超声清洗，然后采用氮气吹干，并放入烘箱中烤干待用。
其中，阳极导电基板包括阳极导电层和基板，其基板可以为玻璃基板或有机薄膜基板，阳极导电层的材质可以为导电氧化物，如，氧化铟锡（ITO）、掺铝氧化锌（AZO）、掺铟氧化锌（IZO）或掺氟氧化锌（FTO），这些导电氧化物被制备在玻璃基板上，简称ITO玻璃、AZO玻璃、IZO玻璃、FTO玻璃。阳极导电基板可以自制，也可以市购获得。在实际应用中，可以根据需要选择其他合适的材料作为阳极导电基板。在实际应用中，可以在阳极导电基板上制备所需的有机电致发光器件的阳极图形。阳极导电基板为现有技术，在此不再赘述。
所述导电阳极层的厚度为100nm。
所述有机电致发光器件的制备方法中，提供清洁干燥的阳极导电基板后，还对阳极导电基板进行了表面活化处理。这样可以增加导电表面层的含氧量，提高导电层表面的功函数。
所述空穴注入层的材质为MoO3按照30wt%的掺杂浓度掺杂入N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺中组成的掺杂混合材料（表示为MoO3-NPB）；所述空穴传输层的材质为4,4',4″-三（咔唑-9-基）三苯胺（表示为TCTA）；所述发光层的材质为三（2-苯基吡啶）合铱按照5wt%的掺杂浓度掺杂入1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯中组成的掺杂混合材料（表示为Ir(ppy)3-TPBI）；所述电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉（表示为Bphen）；所述电子注入层的材质为CsN3按照30wt%的掺杂浓度掺入4,7-二苯基-1,10-菲罗啉中组成的混合材料（表示为CsN3-Bphen）。
所述空穴注入层的厚度为10nm，所述空穴传输层的厚度为30nm，所述发光层的厚度为20nm，所述电子传输层的厚度为10nm，所述电子注入层的厚度为20nm。
空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层采用真空蒸镀的方法进行制备，真空蒸镀时，真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500101
所述阴极的材质为铝，厚度为100nm，所述阴极采用真空蒸镀的方法进行制备，真空蒸镀时，真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
所述制备方法在步骤（2）后还包括：
（3）在步骤（2）得到的有机电致发光器件的湿气吸收层上真空蒸镀制备散热层；
（4）提供封装盖，在封装盖边缘涂布封装胶，然后将封装盖覆盖在所述散热层上，用紫外光照射使封装胶固化，密封形成封闭空间，将所述空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层和散热层容置在所述封闭空间内，得到密封的有机电致发光器件。
步骤（3）中所述散热层的蒸镀，真空度1×10-5Pa～1×10-3Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500103
Figure BDA00002647928500104
所述散热层的厚度为200～500nm。
步骤（4）中所述紫外光照射，光强为15～25mW/cm2，曝光时间为300～400秒。
所述散热层的材质为铝、银与铜中的一种或多种组合。铝、银和铜的散热性好，增加铝、银和/或铜层作为散热层，可提高有机电致发光器件的散热能力，延长有机电致发光器件的寿命。
其中，所述封装盖为金属箔片或含铝耐高温聚酯薄膜（简写为含铝PET膜）。
所述封装盖为金属箔片。以金属箔片作为封装盖，可以提高有机电致发光器件的散热能力，将封装对光效的影响降到最低。
本发明制备方法工艺简单，原料廉价易得，适用于封装以导电玻璃为阳极基板制备的有机电致发光器件，也适用于柔性有机电致发光器件。
实施例一
一种有机电致发光器件的制备方法，包括以下步骤：
（1）选用带有ITO导电层的聚丙烯薄膜作为阳极导电基板，将阳极导电基板依次放入丙酮、乙醇、去离子水、乙醇中，各超声清洗5分钟，然后采用氮气吹干，并放入烘箱中烤干待用；然后对洗净后的阳极导电基板进行表面活化处理，以增加阳极导电基板表面层的含氧量，提高阳极导电基板表面的功函数；所述带有ITO导电层的聚丙烯薄膜包括聚丙烯薄膜基底与蒸镀在聚丙烯薄膜上的ITO导电层，所述ITO导电层的厚度为100nm。
（2）采用真空蒸镀的方式在清洁干燥并经过表面活化处理后的阳极导电基板上真空蒸镀制备空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层与阴极，其中：
空穴注入层的材质为掺杂MoO3的N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺（表示为MoO3-NPB），MoO3的掺杂质量分数30%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500111
蒸镀厚度为10nm；
空穴传输层的材质为4,4',4″-三（咔唑-9-基）三苯胺（表示为TCTA）；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500112
蒸镀厚度为30nm；
发光层的材质包括主体材料和客体材料。主体材料为1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯（表示为TPBI），客体材料为三（2-苯基吡啶）合铱（表示为Ir(ppy)3），并且客体材料的掺杂质量分数为5%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度蒸镀厚度为20nm；
电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉（表示为Bphen）；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度蒸镀厚度为10nm；
电子注入层的材质为掺杂CsN3的4,7-二苯基-1,10-菲罗啉（CsN3-Bphen），CsN3的掺杂质量分数为30%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa蒸发速度
Figure BDA00002647928500121
蒸镀厚度为20nm；
阴极的材质为铝（Al），真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500122
蒸镀厚度为100nm。
（3）在所述阴极上制备阻挡层，得到有机电致发光器件，其中，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层，具体制备方法如下：
（a）采用真空蒸镀的方式在上述阴极上制备有机阻挡层，其中有机阻挡层的材质为CuPc，真空蒸镀时的真空度为1×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500123
蒸镀厚度为300nm。
（b）采用磁控溅射的方式在上述有机阻挡层上制备无机阻挡层，无机阻挡层的材质为合金氧化物，本实施例为MgAl2O4，磁控溅射时的本底真空度为1×10-4Pa，溅射厚度为100nm。
（c）采用磁控溅射的方式在上述无机阻挡层上制备湿气吸收层，湿气吸收层的材质为CaO，磁控溅射时的本底真空度为1×10-4Pa，溅射厚度为100nm。
（4）采用真空蒸镀的方式在上述湿气吸收层上蒸镀散热层，散热层的材质为铝（Al），真空蒸镀时的真空度为1×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500124
蒸镀厚度为200nm。
（5）封装盖选用金属箔片，在金属箔片边缘涂布封装胶，然后将金属箔片覆盖在所述散热层上，接着用紫外光（波长为365），以光强20mW/cm2进行固化，曝光时间为350秒，从而使金属箔片与阳极导电基板密封形成封闭空间，将空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层和散热层容置在该封闭空间内，形成密封的有机电致发光器件。
采用水蒸汽透过率测试仪测量该有机电致发光器件的水蒸汽透过率，测试结果表明本实施例最终制备的有机电致发光器件的水蒸汽透过率（WVTR）可达5.4×10-5g/m2·day。
在T701000cd/m2的发光条件下测试该有机电致发光器件的寿命，结果表明，本实施例最终制备的有机电致发光器件的寿命为12836小时。
图1是本实施例制得的有机电致发光器件的结构示意图，如图1所示，本发明所述有机电致发光器件，依次包括阳极导电基板100、空穴注入层200、空穴传输层300、发光层400、电子传输层500、电子注入层600、阴极700、阻挡层800、散热层901和封装盖902，而该阻挡层800又包括有机阻挡层801、无机阻挡层802、湿气吸收层803，有机阻挡层801的材质为CuPc，无机阻挡层802的材质MgAl2O4，湿气吸收层803的材质为CaO，阳极导电基板100包括玻璃基底101和ITO导电层102。
本实施例制备的有机电致发光器件的结构为：
玻璃/ITO/(MoO3-NPB)/TCTA/(TPBI-Ir(ppy)3)/Bphen/(CsN3-Bphen)/Al/CuPc/MgAl2O4/CaO/Al/金属箔片。
实施例二
一种有机电致发光器件的制备方法，包括以下步骤：
（1）选用ITO玻璃作为阳极导电基板，将阳极导电基板依次放入丙酮、乙醇、去离子水、乙醇中，各超声清洗5分钟，然后采用氮气吹干，并放入烘箱中烤干待用；然后对洗净后的ITO玻璃基板进行表面活化处理，以增加ITO玻璃基板表面层的含氧量，提高ITO玻璃基板表面的功函数；所述ITO玻璃包括玻璃基底与蒸镀在基底上的ITO导电层，所述ITO导电层的厚度为100nm。
（2）采用真空蒸镀的方式在清洁干燥并经过表面活化处理后的阳极导电基板上真空蒸镀制备空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层与阴极，其中：
空穴注入层的材质为掺杂MoO3的N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺（表示为MoO3-NPB），MoO3的掺杂质量分数30%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度蒸镀厚度为10nm；
空穴传输层的材质为4,4',4″-三（咔唑-9-基）三苯胺（表示为TCTA）；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500132
蒸镀厚度为30nm；
发光层的材质包括主体材料和客体材料。主体材料为1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯（表示为TPBI），客体材料为三（2-苯基吡啶）合铱（表示为Ir(ppy)3），并且客体材料的掺杂质量分数为5%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度蒸镀厚度为20nm；
电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉（表示为Bphen）；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500142
蒸镀厚度为10nm；
电子注入层的材质为掺杂CsN3的4,7-二苯基-1,10-菲罗啉（CsN3-Bphen），CsN3的掺杂质量分数为30%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa蒸发速度
Figure BDA00002647928500143
蒸镀厚度为20nm；
阴极的材质为铝，真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500144
蒸镀厚度为100nm。
（3）在所述阴极上制备阻挡层，得到有机电致发光器件，其中，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层，具体制备方法如下：
（a）采用真空蒸镀的方式在上述阴极上制备有机阻挡层，其中有机阻挡层的材质为N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺（表示为NPB），真空蒸镀时的真空度为5×10-5Pa，蒸发速度蒸镀厚度为250nm。
（b）采用磁控溅射的方式在上述有机阻挡层上制备无机阻挡层，无机阻挡层的材质Bi2Ti4O11，磁控溅射时的本底真空度为5×10-4Pa，溅射厚度为120nm。
（c）采用磁控溅射的方式在上述无机阻挡层上制备湿气吸收层，湿气吸收层的材质为BaO，磁控溅射时的本底真空度为5×10-4Pa，溅射厚度为200nm。
（4）采用真空蒸镀的方式在上述湿气吸收层上蒸镀散热层，散热层的材质为银（Ag），真空蒸镀时的真空度为5×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500146
厚度为500nm。
（5）封装盖选用金属箔片，在金属箔片边缘涂布封装胶，然后将金属箔片覆盖在所述散热层上，接着用紫外光（波长为365），以光强25mW/cm2进行固化，曝光时间为400秒，从而使金属箔片与阳极导电基板密封形成封闭空间，将空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层和散热层容置在该封闭空间内，形成密封的有机电致发光器件。
采用水蒸汽透过率测试仪测量该密封的有机电致发光器件水蒸汽透过率，测试结果表明本实施例最终制备的有机电致发光器件的水蒸汽透过率（WVTR）可达2.8×10-5g/m2·day。
在T701000cd/m2的发光条件下测试该有机电致发光器件的寿命，结果表明，本实施例最终制备的有机电致发光器件的寿命为13514小时。
本实施例制备的有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极导电基板、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层，所述有机阻挡层的材质为NPB，无机阻挡层的材质为Bi2Ti4O11，湿气吸收层的材质为BaO。在通常情况下，该阻挡层上还设有散热层和封装盖，封装盖与阳极导电基板形成封闭空间，将空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层和散热层容置在该封闭空间内，最终制备的机电致发光器件的结构如下：
玻璃/ITO/(MoO3-NPB)/TCTA/(TPBI-Ir(ppy)3)/Bphen/(CsN3-Bphen)/Al/NPB/Bi2Ti4O11/BaO/Ag/金属箔片。
实施例三
一种有机电致发光器件的制备方法，包括以下步骤：
（1）选用ITO玻璃作为阳极导电基板，将阳极导电基板依次放入丙酮、乙醇、去离子水、乙醇中，各超声清洗5分钟，然后采用氮气吹干，并放入烘箱中烤干待用；然后对洗净后的ITO玻璃基板进行表面活化处理，以增加ITO玻璃基板表面层的含氧量，提高ITO玻璃基板表面的功函数；所述ITO玻璃包括玻璃基底与蒸镀在基底上的ITO导电层，所述ITO导电层的厚度为100nm。
（2）采用真空蒸镀的方式在清洁干燥并经过表面活化处理后的阳极导电基板上真空蒸镀制备空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层与阴极，其中：
空穴注入层的材质为掺杂MoO3的N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺（表示为MoO3-NPB），MoO3的掺杂质量分数30%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500151
蒸镀厚度为10nm；
空穴传输层的材质为4,4',4″-三（咔唑-9-基）三苯胺（表示为TCTA）；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500161
蒸镀厚度为30nm；
发光层的材质包括主体材料和客体材料。主体材料为1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯（表示为TPBI），客体材料为三（2-苯基吡啶）合铱（表示为Ir(ppy)3），并且客体材料的掺杂质量分数为5%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500162
蒸镀厚度为20nm；
电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉（表示为Bphen）；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度蒸镀厚度为10nm；
电子注入层的材质为掺杂CsN3的4,7-二苯基-1,10-菲罗啉（CsN3-Bphen），CsN3的掺杂质量分数为30%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa蒸发速度
Figure BDA00002647928500164
蒸镀厚度为20nm；
阴极的材质为铝，真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500165
蒸镀厚度为100nm。
（3）在所述阴极上制备阻挡层，得到有机电致发光器件，其中，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层，具体制备方法如下：
（a）采用真空蒸镀的方式在上述阴极上制备有机阻挡层，其中有机阻挡层的材质为8-羟基喹啉铝（表示为Alq3），真空蒸镀时的真空度为5×10-5Pa，蒸发速度蒸镀厚度为200nm。
（b）采用磁控溅射的方式在上述有机阻挡层上制备无机阻挡层，无机阻挡层的材质为合金氧化物，本实施例为CrNiO4，磁控溅射时的本底真空度为5×10-4Pa，溅射厚度为200nm。
（c）采用磁控溅射的方式在上述无机阻挡层上制备湿气吸收层，湿气吸收层的材质为SrO，磁控溅射时的本底真空度为5×10-4Pa，溅射厚度为150nm。
（4）采用真空蒸镀的方式在上述湿气吸收层上蒸镀散热层，散热层的材质为铜（Cu），真空蒸镀时的真空度为5×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500167
蒸镀厚度为300nm。
（5）封装盖选用金属箔片，在金属箔片边缘涂布封装胶，然后将金属箔片覆盖在所述散热层上，接着用紫外光（波长为365），以光强15mW/cm2进行固化，曝光时间为300秒，从而使金属箔片与阳极导电基板密封形成封闭空间，将空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层和散热层容置在该封闭空间内，形成密封的有机电致发光器件。
采用水蒸汽透过率测试仪测量该有机电致发光器件的水蒸汽透过率，测试结果表明本实施例最终制备的有机电致发光器件的水蒸汽透过率（WVTR）可达3.1×10-5g/m2·day。
在T701000cd/m2的发光条件下测试该有机电致发光器件的寿命，结果表明，本实施例最终制备的有机电致发光器件的寿命为13412小时。
本实施例制备的有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极导电基板、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层、散热层和封装盖，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层，所述有机阻挡层的材质为Alq3，无机阻挡层的材质为CrNiO4，湿气吸收层的材质为SrO，其结构如下：
玻璃/ITO/(MoO3-NPB)/TCTA/(TPBI-Ir(ppy)3)/Bphen/(CsN3-Bphen)/Al/Alq3/CrNiO4/SrO/Cu金属箔片。
实施例四
一种有机电致发光器件的制备方法，包括以下步骤：
（1）选用ITO玻璃作为阳极导电基板，将阳极导电基板依次放入丙酮、乙醇、去离子水、乙醇中，各超声清洗5分钟，然后采用氮气吹干，并放入烘箱中烤干待用；然后对洗净后的ITO玻璃基板进行表面活化处理，以增加ITO玻璃基板表面层的含氧量，提高ITO玻璃基板表面的功函数；所述ITO玻璃包括玻璃基底与蒸镀在基底上的ITO导电层，所述ITO导电层的厚度为100nm。
（2）采用真空蒸镀的方式在清洁干燥并经过表面活化处理后的阳极导电基板上真空蒸镀制备空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层与阴极，其中：
空穴注入层的材质为掺杂MoO3的N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺（表示为MoO3-NPB），MoO3的掺杂质量分数30%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500181
蒸镀厚度为10nm；
空穴传输层的材质为4,4',4″-三（咔唑-9-基）三苯胺（表示为TCTA）；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500182
蒸镀厚度为30nm；
发光层的材质包括主体材料和客体材料。主体材料为1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯（表示为TPBI），客体材料为三（2-苯基吡啶）合铱（表示为Ir(ppy)3），并且客体材料的掺杂质量分数为5%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500183
蒸镀厚度为20nm；
电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉（表示为Bphen）；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500184
蒸镀厚度为10nm；
电子注入层的材质为掺杂CsN3的4,7-二苯基-1,10-菲罗啉（CsN3-Bphen），CsN3的掺杂质量分数为30%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa蒸发速度
Figure BDA00002647928500185
蒸镀厚度为20nm；
阴极的材质为铝，真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500186
蒸镀厚度为100nm。
（3）在所述阴极上制备阻挡层，得到有机电致发光器件，其中，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层，具体制备方法如下：
（a）采用真空蒸镀的方式在上述阴极上制备有机阻挡层，其中有机阻挡层的材质为4,4',4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺（表示为m-MTDATA），真空蒸镀时的真空度为5×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500187
蒸镀厚度为250nm。
（b）采用磁控溅射的方式在上述有机阻挡层上制备无机阻挡层，无机阻挡层的材质为合金氧化物，本实施例为CoCr2O4，磁控溅射时的本底真空度为5×10-4Pa，溅射厚度为100nm。
（c）采用磁控溅射的方式在上述无机阻挡层上制备湿气吸收层，湿气吸收层的材质为MgO，磁控溅射时的本底真空度为5×10-4Pa，溅射厚度为100nm。
（4）采用真空蒸镀的方式在上述湿气吸收层上蒸镀散热层，散热层的材质为铜铝合金（表示为Cu-Al），其中铜与铝的质量比为3：1，真空蒸镀时的真空度为5×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500191
蒸镀厚度为500nm。
（5）封装盖选用金属箔片，在金属箔片边缘涂布封装胶，然后将金属箔片覆盖在所述散热层上，接着用紫外光（波长为365），以光强20mW/cm2进行固化，曝光时间为350秒，从而使金属箔片与阳极导电基板密封形成封闭空间，将空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层和散热层容置在该封闭空间内，形成密封的有机电致发光器件。
采用水蒸汽透过率测试仪测量该有机电致发光器件的水蒸汽透过率，测试结果表明本实施例最终制备的有机电致发光器件的水蒸汽透过率（WVTR）可达4.3×10-5g/m2·day。
在T701000cd/m2的发光条件下测试该有机电致发光器件的寿命，结果表明，本实施例最终制备的有机电致发光器件的寿命为13132小时。
本实施例制备的有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极导电基板、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层、散热层和封装盖，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层，所述有机阻挡层的材质为m-MTDATA，无机阻挡层的材质CoCr2O4，湿气吸收层的材质为MgO，其结构如下：
玻璃/ITO/(MoO3-NPB)/TCTA/(TPBI-Ir(ppy)3)/Bphen/(CsN3-Bphen)/Al/m-MTDATA/CoCr2O4/MgO/Cu-Al/金属箔片。
实施例五
一种有机电致发光器件的制备方法，包括以下步骤：
（1）选用ITO玻璃作为阳极导电基板，将阳极导电基板依次放入丙酮、乙醇、去离子水、乙醇中，各超声清洗5分钟，然后采用氮气吹干，并放入烘箱中烤干待用；然后对洗净后的ITO玻璃基板进行表面活化处理，以增加ITO玻璃基板表面层的含氧量，提高ITO玻璃基板表面的功函数；所述ITO玻璃包括玻璃基底与蒸镀在基底上的ITO导电层，所述ITO导电层的厚度为100nm。
（2）采用真空蒸镀的方式在清洁干燥并经过表面活化处理后的阳极导电基板上真空蒸镀制备空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层与阴极，其中：
空穴注入层的材质为掺杂MoO3的N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺（表示为MoO3-NPB），MoO3的掺杂质量分数30%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500201
蒸镀厚度为10nm；
空穴传输层的材质为4,4',4″-三（咔唑-9-基）三苯胺（表示为TCTA）；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500202
蒸镀厚度为30nm；
发光层的材质包括主体材料和客体材料。主体材料为1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯（表示为TPBI），客体材料为三（2-苯基吡啶）合铱（表示为Ir(ppy)3），并且客体材料的掺杂质量分数为5%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度蒸镀厚度为20nm；
电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉（表示为Bphen）；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度蒸镀厚度为10nm；
电子注入层的材质为掺杂CsN3的4,7-二苯基-1,10-菲罗啉（CsN3-Bphen），CsN3的掺杂质量分数为30%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa蒸发速度
Figure BDA00002647928500205
蒸镀厚度为20nm；
阴极的材质为铝，真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500206
蒸镀厚度为100nm。
（3）在所述阴极上制备阻挡层，得到有机电致发光器件，其中，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层，具体制备方法如下：
（a）采用真空蒸镀的方式在上述阴极上制备有机阻挡层，其中有机阻挡层的材质为4，7－二苯基－1，10－邻菲罗啉（表示为BCP），真空蒸镀时的真空度为5×10-5Pa，蒸发速度蒸镀厚度为250nm。
（b）采用磁控溅射的方式在上述有机阻挡层上制备无机阻挡层，无机阻挡层的材质为合金氧化物，本实施例为Fe2LuO4，磁控溅射时的本底真空度为5×10-4Pa，溅射厚度为150nm。
（c）采用磁控溅射的方式在上述无机阻挡层上制备湿气吸收层，湿气吸收层的材质为CaO，磁控溅射时的本底真空度为5×10-4Pa，溅射厚度为200nm。
（4）采用真空蒸镀的方式在上述湿气吸收层上蒸镀散热层，散热层的材质为铝（Al），真空蒸镀时的真空度为5×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500211
蒸镀厚度为300nm。
（5）封装盖选用金属箔片，在金属箔片边缘涂布封装胶，然后将金属箔片覆盖在所述散热层上，接着用紫外光（波长为365），以光强20mW/cm2进行固化，曝光时间为340秒，从而使金属箔片与阳极导电基板密封形成封闭空间，将空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层和散热层容置在该封闭空间内，形成密封的有机电致发光器件。
采用水蒸汽透过率测试仪测量该有机电致发光器件的水蒸汽透过率，测试结果表明本实施例最终制备的有机电致发光器件的水蒸汽透过率（WVTR）可达5.0×10-5g/m2·day。
在T701000cd/m2的发光条件下测试该有机电致发光器件的寿命，结果表明，本实施例最终制备的有机电致发光器件的寿命为13120小时。
本实施例制备的有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极导电基板、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层、散热层和封装盖，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层，所述有机阻挡层的材质为BCP，无机阻挡层的材质Fe2LuO4，湿气吸收层的材质为CaO，其结构如下：
玻璃/ITO/(MoO3-NPB)/TCTA/(TPBI-Ir(ppy)3)/Bphen/(CsN3-Bphen)/Al/BCP/Fe2LuO4/CaO/Al/金属箔片。
实施例六
一种有机电致发光器件的制备方法，包括以下步骤：
（1）选用ITO玻璃作为阳极导电基板，将阳极导电基板依次放入丙酮、乙醇、去离子水、乙醇中，各超声清洗5分钟，然后采用氮气吹干，并放入烘箱中烤干待用；然后对洗净后的ITO玻璃基板进行表面活化处理，以增加ITO玻璃基板表面层的含氧量，提高ITO玻璃基板表面的功函数；所述ITO玻璃包括玻璃基底与蒸镀在基底上的ITO导电层，所述ITO导电层的厚度为100nm。
（2）采用真空蒸镀的方式在清洁干燥并经过表面活化处理后的阳极导电基板上真空蒸镀制备空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层与阴极，其中：
空穴注入层的材质为掺杂MoO3的N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺（表示为MoO3-NPB），MoO3的掺杂质量分数30%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500221
蒸镀厚度为10nm；
空穴传输层的材质为4,4',4″-三（咔唑-9-基）三苯胺（表示为TCTA）；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500222
蒸镀厚度为30nm；
发光层的材质包括主体材料和客体材料。主体材料为1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯（表示为TPBI），客体材料为三（2-苯基吡啶）合铱（表示为Ir(ppy)3），并且客体材料的掺杂质量分数为5%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度蒸镀厚度为20nm；
电子传输层的材质为4,7-二苯基-1，10-菲罗啉（表示为Bphen）；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500224
蒸镀厚度为10nm；
电子注入层的材质为掺杂CsN3的4,7-二苯基-1,10-菲罗啉（CsN3-Bphen），CsN3的掺杂质量分数为30%；真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa蒸发速度
Figure BDA00002647928500225
蒸镀厚度为20nm；
阴极的材质为铝，真空蒸镀时的真空度为3×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500226
蒸镀厚度为100nm。
（3）在所述阴极上制备阻挡层，得到有机电致发光器件，其中，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层，具体制备方法如下：
（a）采用真空蒸镀的方式在上述阴极上制备有机阻挡层，其中有机阻挡层的材质为酞菁铜（分子式为CuPc），真空蒸镀时的真空度为1×10-3Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500227
蒸镀厚度为250nm。
（b）采用磁控溅射的方式在上述有机阻挡层上制备无机阻挡层，无机阻挡层的材质为合金氧化物，本实施例为Y3Al5O12，磁控溅射时的本底真空度为1×10-3Pa，溅射厚度为120nm。
（c）采用磁控溅射的方式在上述无机阻挡层上制备湿气吸收层，湿气吸收层的材质为BaO，磁控溅射时的本底真空度为1×10-3Pa，溅射厚度为150nm。
（4）采用真空蒸镀的方式在上述湿气吸收层上蒸镀散热层，散热层的材质为银（Ag），真空蒸镀时的真空度为5×10-5Pa，蒸发速度
Figure BDA00002647928500231
蒸镀厚度为300nm。
（5）封装盖选用金属箔片，在金属箔片边缘涂布封装胶，然后将金属箔片覆盖在所述散热层上，接着用紫外光（波长为365），以光强18mW/cm2进行固化，曝光时间为360秒，从而使金属箔片与阳极导电基板密封形成封闭空间，将空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层和散热层容置在该封闭空间内，形成密封的有机电致发光器件。
采用水蒸汽透过率测试仪测量该有机电致发光器件的水蒸汽透过率，测试结果表明本实施例最终制备的有机电致发光器件的水蒸汽透过率（WVTR）可达2.4×10-5g/m2·day。
在T701000cd/m2的发光条件下测试该有机电致发光器件的寿命，结果表明，本实施例最终制备的有机电致发光器件的寿命为13553小时。
本实施例制备的有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极导电基板、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层、散热层和封装盖，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层，所述有机阻挡层的材质为CuPc，无机阻挡层的材质为Y3Al5O12，湿气吸收层的材质为BaO，其结构如下：
玻璃/ITO/(MoO3-NPB)/TCTA/(TPBI-Ir(ppy)3)/Bphen/(CsN3-Bphen)/Al/CuPc/Fe2LuO4/BaO/Ag/金属箔片。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极导电基板、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极，其特征在于，所述阴极上还设有阻挡层，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层；
所述有机阻挡层的材质为酞菁铜、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、8-羟基喹啉铝、4,4',4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺和4，7－二苯基－1，10－邻菲罗啉中的任意一种；
所述无机阻挡层的材质为MgAl2O4、Bi2Ti4O11、CrNiO4、CoCr2O4、Fe2LuO4或Y3Al5O12；
所述湿气吸收层的材质为氧化钙、氧化钡、氧化锶和氧化镁中的任意一种。
2.如权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述阻挡层上还设有散热层和封装盖，所述封装盖与所述阳极导电基板形成封闭空间，所述空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层和散热层容置在所述封闭空间内。
3.如权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述有机阻挡层的厚度为200nm～300nm，所述无机阻挡层的厚度为100nm～200nm，所述湿气吸收层的厚度为100nm～200nm。
4.如权利要求1或2所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述空穴注入层的材质为MoO3按照30wt%的掺杂浓度掺杂入N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺中组成的掺杂混合材料；
所述空穴传输层的材质为4,4',4″-三（咔唑-9-基）三苯胺；
所述发光层的材质为三（2-苯基吡啶）合铱按照5wt%的掺杂浓度掺杂入1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯中组成的掺杂混合材料；
所述电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉；
所述电子注入层的材质为CsN3按照30wt%的掺杂浓度掺入4,7-二苯基-1,10-菲罗啉中组成的混合材料。
5.如权利要求1或2所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述阳极导电基板为导电玻璃基板或导电有机薄膜基板。
6.一种有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
（1）提供清洁干燥的阳极导电基板，并在所述阳极导电基板的导电阳极层上依次真空蒸镀制备空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极；
（2）在所述阴极上制备阻挡层，得到有机电致发光器件；其中，所述阻挡层包括有机阻挡层、无机阻挡层和湿气吸收层，具体制备方法如下：
（a）在所述阴极上真空蒸镀制备有机阻挡层；
（b）采用磁控溅射的方式在所述有机阻挡层上制备无机阻挡层；
（c）采用磁控溅射的方式在所述无机阻挡层上制备湿气吸收层。
其中，所述有机阻挡层的材质为酞菁铜、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、8-羟基喹啉铝、4,4',4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺和4，7－二苯基－1，10－邻菲罗啉中的任意一种；所述无机阻挡层的材质为MgAl2O4、Bi2Ti4O11、CrNiO4、CoCr2O4、Fe2LuO4或Y3Al5O12；所述湿气吸收层的材质为氧化钙、氧化钡、氧化锶和氧化镁中的任意一种。
7.如权利要求6所述的有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述制备方法在步骤（2）后还包括：
（3）在步骤（2）得到的有机电致发光器件的湿气吸收层上真空蒸镀制备散热层；
（4）提供封装盖，在封装盖边缘涂布封装胶，然后将封装盖覆盖在所述散热层上，用紫外光照射使封装胶固化，密封形成封闭空间，将所述空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、阻挡层和散热层容置在所述封闭空间内，得到密封的有机电致发光器件。
8.如权利要求6所述的有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述有机阻挡层的厚度200nm～300nm，所述无机阻挡层的厚度为100nm～200nm，所述湿气吸收层的厚度为100nm～200nm。
9.如权利要求6或7所述的有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述空穴注入层的材质为MoO3按照30wt%的掺杂浓度掺杂入N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺中组成的掺杂混合材料；
所述空穴传输层的材质为4,4',4″-三（咔唑-9-基）三苯胺；
所述发光层的材质为三（2-苯基吡啶）合铱按照5wt%的掺杂浓度掺杂入1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯中组成的掺杂混合材料；
所述电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉；
所述电子注入层的材质为CsN3按照30wt%的掺杂浓度掺入4,7-二苯基-1,10-菲罗啉中组成的混合材料。
10.如权利要求6或7所述的有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述阳极导电基板为导电玻璃基板或导电有机薄膜基板。
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