CN103865379A - 聚二甲基硅氧烷溶胶,应用该聚二甲基硅氧烷溶胶对金属基体进行表面处理的方法及制品 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种聚二甲基硅氧烷溶胶,其包括聚二甲基硅氧烷、异丙醇、气相二氧化硅、盐酸及水。本发明还提供一种应用该聚二甲基硅氧烷溶胶进行表面处理的方法及制品。
Description
技术领域
本发明涉及一种聚二甲基硅氧烷溶胶,应用该聚二甲基硅氧烷溶胶对金属基体进行表面处理的方法及制品。
背景技术
铝合金目前被广泛应用于航空、航天、汽车及微电子等工业领域。但铝合金的标准电极电位很低,耐腐蚀差,暴露于自然环境中会引起表面快速腐蚀。
真空镀膜技术(PVD)是一种较环保的镀膜技术。PVD膜层具有高硬度、高耐磨性、良好的化学稳定性等优点,因此在表面防护或装饰处理领域的应用越来越广。而对于铝合金来说,其标准电极电位与许多PVD功能性膜层(如装饰性的颜色层等)的差异较大,极易造成电偶腐蚀,使整个铝合金产品失效。
据悉,目前有通过真空镀膜技术设置一绝缘层于铝或铝合金基体与功能性膜层之间来防止铝或铝合金基体的电偶腐蚀及失效,但收效甚微。这是由于PVD膜层本身不可避免的会存在缺陷,如针孔、裂纹等,这些缺陷将成为电解质溶液的通道,使铝或铝合金基体和表面的功能性膜层相连形成微电池。此时,功能性膜层成为微电池的阴极,而铝或铝合金基体表面的微小孔洞接触点成为阳极,由于阴极的面积远远大于阳极的面积,即阴阳极的面积比趋于无限大,致使腐蚀电流极大而急剧加速了腐蚀。这种腐蚀失效严重限制了铝或铝合金基体于PVD镀膜技术的应用。
发明内容
有鉴于此,提供一种聚二甲基硅氧烷溶胶。
同时,提供一种应用所述聚二甲基硅氧烷溶胶对金属基体进行表面处理的方法,该方法可提高形成有真空镀膜层的金属基体的耐腐蚀性。
另,还提供一种经上述表面处理方法制得的制品。
一种聚二甲基硅氧烷溶胶,其包括聚二甲基硅氧烷、异丙醇、气相二氧化硅、盐酸及水。
一种应用聚二甲基硅氧烷溶胶对金属基体进行表面处理的方法,包括如下步骤:
提供金属基体;
提供一聚二甲基硅氧烷溶胶,该聚二甲基硅氧烷溶胶含有聚二甲基硅氧烷、异丙醇、气相二氧化硅、盐酸及水;
将所述聚二甲基硅氧烷溶胶涂覆于该金属基体上形成一聚二甲基硅氧烷溶胶层;
对聚二甲基硅氧烷溶胶层进行热处理,使聚二甲基硅氧烷溶胶层形成聚二甲基硅氧烷凝胶层,该聚二甲基硅氧烷凝胶层含有由聚二甲基硅氧烷聚集形成的网络结构及气相二氧化硅,聚二甲基硅氧烷被物理吸附在具有多孔结构的气相二氧化硅表面,和/或与气相二氧化硅键合形成Si-O键。
一种制得的制品,该制品包括金属基体及形成于金属基体上的聚二甲基硅氧烷凝胶层,该聚二甲基硅氧烷凝胶层含有由聚二甲基硅氧烷聚集形成网络结构及气相二氧化硅,聚二甲基硅氧烷被物理吸附在具有多孔结构的气相二氧化硅表面,和/或与气相二氧化硅键合形成Si-O键。
本发明通过在金属基体与真空镀膜层之间形成一致密的聚二甲基硅氧烷凝胶层,可有效阻碍进入真空镀膜层中的电解质溶液向金属基体的方向扩散,如此可提高金属基体的耐腐蚀性。
附图说明
图1为本发明一较佳实施例的制品的示意图。
主要元件符号说明
制品 | 10 |
金属基体 | 11 |
聚二甲基硅氧烷凝胶层 | 13 |
真空镀膜层 | 15 |
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
本发明一较佳实施方式的聚二甲基硅氧烷溶胶的主要成分为正聚二甲基硅氧烷、异丙醇、气相二氧化硅、氢氧化铝、盐酸及水。其中,聚二甲基硅氧烷的体积百分含量为40%~50%、异丙醇的体积百分含量为5%~10%、气相二氧化硅的体积百分含量为5%~10%、氢氧化铝的体积百分含量为5%~10%、盐酸的体积百分含量为3%~5%、及水的体积百分含量为3%~20%。该聚二甲基硅氧烷溶胶的pH值为3~5。
盐酸作为催化剂,提供H3O+离子,使用时促进聚二甲基硅氧烷成膜。盐酸还用以调节二氧化硅溶胶的pH值。
请参见图1,应用所述聚二甲基硅氧烷溶胶对金属基体进行表面处理的方法,包括如下步骤:
提供金属基体11,该金属基体11的材质可为铝、铝合金、镁或镁合金等。
将所述聚二甲基硅氧烷溶胶涂覆于所述金属基体11表面形成一聚二甲基硅氧烷凝胶层13,其包括如下步骤:
首先,通过涂布或浸泡的方式,在该金属基体11上形成一聚二甲基硅氧烷溶胶层。
之后,对该聚二甲基硅氧烷凝胶进行热处理,其具体操作和工艺参数如下:提供一烘烤炉(未图示),将烘烤炉加热至炉内温度为70~90℃,将金属基体11置于烘烤炉内并保温10~15min。再将烘烤炉加热至炉内温度为160~180℃并保温10~20min,最终于所述金属基体11上形成聚二甲基硅氧烷凝胶层13。所述聚二甲基硅氧烷凝胶层13的厚度为3~6μm。
在该热处理过程中,聚二甲基硅氧烷聚集形成网络结构。气相二氧化硅主要通过形成Si-O键与聚二甲基硅氧烷发生化学交联。另外,因气相二氧化硅为多孔性物质,聚二甲基硅氧烷还极易被物理吸附在二氧化硅粒子表面并发生结晶,使所述聚二甲基硅氧烷凝胶层13更致密,进而提高聚二甲基硅氧烷凝胶层13的耐腐蚀性。另外,所述结晶化的聚二甲基硅氧烷,可提高聚二甲基硅氧烷凝胶层13的硬度及强度。
采用真空镀膜的方式,在该聚二甲基硅氧烷凝胶层13上形成一真空镀膜层15。所述真空镀膜层15可以为CrN层、CrC层、TiNO层、TiCN层、TiN层、CrNO层、CrCN层或其他任意具装饰色彩的膜层。该真空镀膜层15也可被其他的功能性膜层所替代。
一种经由上述表面处理方法制得的制品10包括金属基体11、依次形成于该金属基体11上的聚二甲基硅氧烷凝胶层13及真空镀膜层15。
该聚二甲基硅氧烷凝胶层13含有由聚二甲基硅氧烷聚集形成网络结构、气相二氧化硅及填充于该网络结构内的氢氧化铝。聚二甲基硅氧烷物被理吸附在具有多孔结构的气相二氧化硅表面,和/或与气相二氧化硅键合形成Si-O键。
所述聚二甲基硅氧烷凝胶层13的厚度为3~6μm。
所述真空镀膜层15可以为CrN层、CrC层、TiNO层、TiCN层、TiN层、CrNO层、CrCN层或其他任意具装饰色彩的膜层。该真空镀膜层15也可被其他的功能性膜层所替代。
本发明通过在金属基体11与真空镀膜层15之间形成一致密的聚二甲基硅氧烷凝胶层13,可有效阻碍进入真空镀膜层15中的电解质溶液扩散至金属基体11,如此可提高金属基体11的耐腐蚀性。
此外,当聚二甲基硅氧烷凝胶被加热至200℃以上时,氢氧化铝将迅速分解并释放出三个结晶水,该结晶水可吸收大量的热量,降低聚二甲基硅氧烷溶胶表面温度,因而可提高制品10的耐热性。
实施例1
提供一金属基体11,该金属基体11的材质为铝合金。
提供一聚二甲基硅氧烷溶胶。在该聚二甲基硅氧烷溶胶中,聚二甲基硅氧烷的体积百分含量为50%、异丙醇的体积百分含量为10%、气相二氧化硅的体积百分含量为10%、氢氧化铝的体积百分含量为8%、盐酸的体积百分含量为5%、及盐酸的体积百分含量为5%、及水的体积百分含量为12%。该聚二甲基硅氧烷溶胶的pH值为3.5。
在所述金属基体11表面形成一聚二甲基硅氧烷凝胶层13,其包括如下步骤:
首先,通过涂布的方式,在该金属基体11上形成一聚二甲基硅氧烷溶胶层。
之后,对该二氧化硅凝胶进行热处理,将金属基体11置于90℃的烘烤炉内保温12min。再将烘烤炉加热至炉内温度为180℃并保温20min,最终于所述金属基体11上形成聚二甲基硅氧烷凝胶层13。所述聚二甲基硅氧烷凝胶层13的厚度为2.5μm。
在该聚二甲基硅氧烷凝胶层13上形成真空镀膜层15。该真空镀膜层15为CrN层。
对比例
本对比例与实施例1不同的是金属基体11与真空镀膜层15之间未形成有聚二甲基硅氧烷凝胶层13,其它条件与实施例1相同。
性能测试
将实施例1制得的制品及对比例处理后的金属基体进行盐雾测试,具体测试方法及结果如下:
将实施例1制得的制品及对比例处理后的金属基体进行35℃中性盐雾(NaCl浓度为5%)测试。结果表明,由本发明实施例1的方法所制备的制品10在168小时后真空镀膜层15上未出现腐蚀点,而经对比例的方法处理后的金属基体在120小时后表面出现腐蚀点。可见,上述制品10具有较好的耐腐蚀性。
Claims (12)
1.一种聚二甲基硅氧烷溶胶,其特征在于:该聚二甲基硅氧烷溶胶包括聚二甲基硅氧烷、异丙醇、气相二氧化硅、盐酸及水。
2.如权利要求1所述的聚二甲基硅氧烷溶胶,其特征在于:所述聚二甲基硅氧烷溶胶中,聚二甲基硅氧烷的体积百分含量为40%~50%、异丙醇的体积百分含量为5%~10%、气相二氧化硅的体积百分含量为5%~10%、盐酸的体积百分含量为3%~5%、及水的体积百分含量为3%~20%。
3.如权利要求1所述的聚二甲基硅氧烷溶胶,其特征在于:该聚二甲基硅氧烷溶胶还含有氢氧化铝。
4.如权利要求3所述的聚二甲基硅氧烷溶胶,其特征在于:氢氧化铝的体积百分含量为5%~10%。
5.一种应用聚二甲基硅氧烷溶胶对金属基体进行表面处理的方法,包括如下步骤:
提供金属基体;
提供一聚二甲基硅氧烷溶胶,该聚二甲基硅氧烷溶胶含有聚二甲基硅氧烷、异丙醇、气相二氧化硅、盐酸及水;
将所述聚二甲基硅氧烷溶胶涂覆于该金属基体上形成一聚二甲基硅氧烷溶胶层;
对聚二甲基硅氧烷溶胶层进行热处理,使聚二甲基硅氧烷溶胶层形成聚二甲基硅氧烷凝胶层,该聚二甲基硅氧烷凝胶层含有由聚二甲基硅氧烷聚集形成的网络结构及气相二氧化硅,聚二甲基硅氧烷被物理吸附在具有多孔结构的气相二氧化硅表面,和/或与气相二氧化硅键合形成Si-O键。
6.如权利要求5所述的表面处理的方法,其特征在于:所述聚二甲基硅氧烷溶胶中,聚二甲基硅氧烷的体积百分含量为40%~50%、异丙醇的体积百分含量为5%~10%、气相二氧化硅的体积百分含量为5%~10%、盐酸的体积百分含量为3%~5%、及水的体积百分含量为3%~20%。
7.如权利要求5所述的表面处理的方法,其特征在于:该聚二甲基硅氧烷溶胶还含有氢氧化铝。
8.如权利要求5所述的表面处理的方法,其特征在于:所述热处理的方法如下:先将金属基体置于70~90℃的温度下烘烤10~15min;再将金属基体于160~180℃的温度下烘烤10~20min。
9.一种制品,该制品包括金属基体,其特征在于:该制品还包括形成于金属基体上的聚二甲基硅氧烷凝胶层,该聚二甲基硅氧烷凝胶层含有由聚二甲基硅氧烷聚集形成网络结构及气相二氧化硅,聚二甲基硅氧烷被物理吸附在具有多孔结构的气相二氧化硅表面,和/或与气相二氧化硅键合形成Si-O键。
10.如权利要求9所述的制品,其特征在于:该聚二甲基硅氧烷溶胶还含有氢氧化铝。
11.如权利要求9所述的制品,其特征在于:所述制品还包括形成于聚二甲基硅氧烷凝胶层表面的真空镀膜层。
12.如权利要求9所述的制品,其特征在于:所述真空镀膜层为CrN层、CrC层、TiNO层、TiCN层、TiN层、CrNO层或CrCN层。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140618 |
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WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |