CN103846813A - 硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置 - Google Patents
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Abstract
本发明是有关于一种硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其包括：金刚砂喷嘴、喷嘴移动装置、除尘风橱、硅片传送带、金刚砂料罐以及第一粉尘收集罐；其中，所述金刚砂喷嘴设置于所述喷嘴移动装置上，并且设置于所述硅片传送带的上方，能够在所述喷嘴移动装置的作用下在所述硅片传送带的上方左右移动；所述除尘风橱设置于所述硅片传送带的上方，并且由所述硅片传送带的上方向下延伸至所述硅片传送带的上表面，所述金刚砂喷嘴设置于所述除尘风橱内；在所述除尘风橱的顶部设有通孔，所述除尘风橱通过所述通孔与所述第一粉尘收集罐通过管道连通；所述金刚砂喷嘴通过管道与所述金刚砂料罐连通。
Description
技术领域
本发明涉及IC级硅单晶抛光片技术领域,特别是涉及一种硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置。
背景技术
IC级硅单晶抛光片是制造大规模和超大规模集成电路的核心材料，主要用于高速计算机、航空航天等高科技领域。硅单晶抛光片的微缺陷“氧化雾”一直困扰着高可靠性器件用硅单晶抛光片的质量。长期以来，人们采用多种方法以消除硅抛光片表面的氧化雾。所采用的方法主要是通过吸杂的方式，有内吸杂和外吸杂两种。内吸杂主要是利用硅片中的氧沉淀产生吸杂区消除硅抛光表面的氧化雾，因其设备昂贵，工艺复杂，要求硅片内氧沉淀分布均匀，不易控制，重复性差，因此在国内外应用较少。外吸杂主要是利用外部手段在硅片背面形成损伤或应力，具体方式有在硅片背面用金钢砂带损伤、激光损伤或LPCVD生长多晶硅层等，或者采用辐照、加热预处理、硅片背面软损伤等方法对硅片的氧化雾进行消除。
对硅片的背面采用干法喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面的氧化雾是近年来新兴的一种可有效消除硅抛光片表面的氧化雾，同时又工艺简单合理，投资小，可操作性强，易于实施的外吸杂方法。其是根据背损吸杂原理,在硅片背面干法喷砂，产生晶格损伤或畸变，制造吸杂源，通过对喷砂粒度、喷砂压力、作业片距、时间过程的控制和调制，在硅片背面制造均匀的层错密度，即在硅片背面产生6-38×104个／cm2的损伤层错，诱生堆杂层错，使硅片具有非本征的吸杂能力。在高温下，硅片的杂质会移位，并且转移到硅片里面和背面的非要害部位，在抛光片表面的制作集成电路区域，形成厚度几个um的洁净区，从而获得无“氧化雾”的高品质硅抛光片，确保IC产品电路特性不受影响。
发明内容
本发明的目的在于提供一种新型结构的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，所要解决的技术问题是使其通过使金刚砂喷嘴左右移动，可以减小金刚砂喷嘴的口径，使金刚砂在硅片背面的喷洒均匀，硅片背面喷砂形成的损伤均匀可控；并且通过在金刚砂喷嘴外设置除尘风橱、将除尘风橱与粉尘收集罐连通，可以防止喷砂时产生的粉尘扩散，对金刚砂进行收集再利用，非常适于实用。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其包括：金刚砂喷嘴、喷嘴移动装置、除尘风橱、硅片传送带、金刚砂料罐以及第一粉尘收集罐；其中，所述金刚砂喷嘴设置于所述喷嘴移动装置上，并且设置于所述硅片传送带的上方，能够在所述喷嘴移动装置的作用下在所述硅片传送带的上方左右移动；所述除尘风橱设置于所述硅片传送带的上方，并且由所述硅片传送带的上方向下延伸至所述硅片传送带的上表面，所述金刚砂喷嘴设置于所述除尘风橱内；在所述除尘风橱的顶部设有通孔，所述除尘风橱通过所述通孔与所述第一粉尘收集罐通过管道连通；所述金刚砂喷嘴通过管道与所述金刚砂料罐连通。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其中所述金刚砂喷嘴为石英管。
前述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其中所述喷嘴移动装置为汽缸，所述金刚砂喷嘴设置于所述汽缸的活塞上。
前述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其中所述金刚砂喷嘴在所述喷嘴移动装置的作用下在所述硅片传送带上方左右移动的距离为0-200mm。
前述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其中所述除尘风橱为密闭式风橱，并且在正对所述金刚砂喷嘴的一面上设有可观察硅片背面金刚砂喷射打毛情况的有机玻璃门。
前述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其中在所述硅片传送带的承载构件上设有网格，所述网格贯穿所述承载构件的承载面和与其相对的另一面，在所述硅片传送带的下方设有第二粉尘收集罐，所述硅片传送带的网格能够允许散落于所述硅片传送带上的金刚砂通过进入所述第二粉尘收集罐。
前述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其中所述硅片传送带为网状尼龙布传送带。
前述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其中所述金刚砂料罐设有震动器。
前述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其中所述震动器为电动振动器。
前述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其中在所述除尘风橱与所述第一粉尘收集罐连通的管道上还设有排风机，所述除尘风橱的所述通孔是通过管道与所述排风机的入口连接，所述排风机的出口是通过管道与所述第一粉尘收集罐连接。
本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方案，本发明硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置至少具有下列优点及有益效果：
1、本发明通过使金刚砂喷嘴左右移动，可以减小金刚砂喷嘴的口径,使金刚砂在硅片背面的喷洒均匀，硅片背面喷砂形成的损伤均匀可控；并且通过在金刚砂喷嘴外设置除尘风橱、将除尘风橱与粉尘收集罐连通，可以防止喷砂时产生的粉尘扩散，对金刚砂进行收集再利用。
2、本发明通过采用石英管作为喷嘴可以防止在喷砂时引入新的沾污。
3、本发明通过采用网状传送带运送硅片及在传送带的下方配置粉尘收集罐，可以随时对散落于传送带上硅片四周的金刚砂进行收集，再利用。
4、本发明通过在金刚砂料罐加设震动器，可以使储存于料罐中的金刚砂一直保持疏松状态，从而使由管道至金刚砂喷嘴的金刚砂运输通畅，金刚砂输送的流速均匀。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图,详细说明如下。
附图说明
图1是本发明硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置的较佳实施例的结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
有关本发明的前述及其他技术内容、特点及功效，在以下配合参考图式的较佳实施例的详细说明中将可清楚呈现。通过具体实施方式的说明,应当可对本发明为达成预定目的所采取的技术手段及功效获得一更加深入且具体的了解，然而所附图式仅是提供参考与说明之用，并非用来对本发明加以限制。
请参阅图1所示，是本发明硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置的较佳实施例的结构示意图。
本发明的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置是用于对硅片背面干法喷砂制造吸杂源以消除硅抛光表面的氧化雾，其主要由金刚砂喷嘴1、喷嘴移动装置2、除尘风橱3、硅片传送带4、金刚砂料罐5和第一粉尘收集罐6组成。其中，金刚砂喷嘴1设置于喷嘴移动装置2上，并且设置于硅片传送带4的上方，能够在喷嘴移动装置2的作用下在硅片传送带4的上方左右移动。除尘风橱3设置于硅片传送带4的上方，并且由硅片传送带4的上方向下延伸至硅片传送带4的上表面，金刚砂喷嘴1设置于除尘风橱3内。在除尘风橱3的顶部设有通孔，除尘风橱3通过所述通孔与第一粉尘收集罐6通过管道连通。金刚砂喷嘴1通过管道与金刚砂料罐5连通。
本发明的金刚砂喷嘴1可以为石英（SiO2）管，喷嘴移动装置2可以为汽缸，此时金刚砂喷嘴1设置于汽缸的活塞上，金刚砂喷嘴1在喷嘴移动装置2的作用下在硅片传送带4上方左右移动的距离可以为0-200mm。本发明通过采用石英（SiO2）管作为金刚砂喷嘴1，相对于现有技术常用的铜喷嘴或不锈钢喷嘴，可以避免铜喷嘴或不锈钢喷嘴在与金刚砂长期接触后磨损，而将铜或不锈钢杂质喷至硅片背面对硅片背面造成的二次污染。同时，本发明通过石英（SiO2）管喷嘴在喷嘴移动装置2的作用下左右移动，相对于现有技术常用的固定不动的喇叭形喷嘴来分散喷洒金刚砂，可以避免采用喇叭形喷嘴喷砂造成的硅片背面损伤层不均匀，使硅片7背面的损伤均匀可控，硅片7背面的中心和边缘的损伤层密度一致。
本发明的除尘风橱3为密闭式风橱，并且在正对金刚砂喷嘴1的一面上设有可观察硅片7背面金刚砂喷射打毛情况的有机玻璃门（未图示）。本发明通过除尘风橱3的设置，可以使金刚砂喷洒时产生的粉尘得到有效的控制，避免在金刚砂喷嘴喷砂时不设置任何除尘设备，或者在金刚砂喷嘴的上方设置风罩时，由于金刚砂喷嘴与金刚砂传送带之间为敞开的空间,喷洒金刚砂产生的大量粉尘飞扬，进入大气，造成环境污染。
本发明的硅片传送带4的承载构件上可设有网格，所述网格是贯穿承载构件的承载面和与其相对的另一面，在硅片传送带4的下方可设有第二粉尘收集罐8，其中硅片传送带4的网格能够允许散落于硅片传送带4上的金刚砂通过进入第二粉尘收集罐8。较佳地，本发明的硅片传送带4可以为网状尼龙布传送带。本发明通过采用网状传送带运送硅片，并在网状传送带下方设置粉尘收集罐，相对于采用现有技术常用的致密尼龙布传送带运送硅片对散落于传送带上硅片四周的金刚砂仅能够从传送带出口处进行收集，可以通过硅片传送带4上的网格实现对散落于硅片传送带4上硅片四周的金刚砂的随时收集，再利用。
本发明的金刚砂料罐5可设有震动器9，相对于现有技术以不设置震动器的料罐储存金刚砂，再通过气压将罐内的金刚砂压送至金刚砂喷嘴，本发明通过震动器9的设置可以使金刚砂在震动器9的作用下在金刚砂料罐5中一直保持疏松状态，避免因罐中金刚砂堆积致密，而致使金刚砂输送的流速不均匀，可以使从管道至喷嘴的金刚砂运输通畅，流速均匀。较佳的，本发明的震动器9可以为电动振动器。
本发明在除尘风橱3与第一粉尘收集罐6连通的管道上还可设有排风机（未图示），其中除尘风橱3的通孔是通过管道与排风机的入口连接，排风机的出口是通过管道与第一粉尘收集罐6连接。本发明通过第一粉尘收集罐6的设置可以对金刚砂喷嘴1向硅片传送带4上的硅片7喷洒金刚砂时飞扬的粉尘进行收集，使收集的金刚砂能够得到再利用。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (10)
1.一种硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其特征在于其包括：金刚砂喷嘴、喷嘴移动装置、除尘风橱、硅片传送带、金刚砂料罐以及第一粉尘收集罐；其中，所述金刚砂喷嘴设置于所述喷嘴移动装置上，并且设置于所述硅片传送带的上方，能够在所述喷嘴移动装置的作用下在所述硅片传送带的上方左右移动；所述除尘风橱设置于所述硅片传送带的上方，并且由所述硅片传送带的上方向下延伸至所述硅片传送带的上表面，所述金刚砂喷嘴设置于所述除尘风橱内；在所述除尘风橱的顶部设有通孔，所述除尘风橱通过所述通孔与所述第一粉尘收集罐通过管道连通；所述金刚砂喷嘴通过管道与所述金刚砂料罐连通。
2.根据权利要求1所述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其特征在于其中所述金刚砂喷嘴为石英管。
3.根据权利要求2所述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其特征在于其中所述喷嘴移动装置为汽缸，所述金刚砂喷嘴设置于所述汽缸的活塞上。
4.根据权利要求3所述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其特征在于其中所述金刚砂喷嘴在所述喷嘴移动装置的作用下在所述硅片传送带上方左右移动的距离为0-200mm。
5.根据权利要求4所述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其特征在于其中所述除尘风橱为密闭式风橱，并且在正对所述金刚砂喷嘴的一面上设有可观察硅片背面金刚砂喷射打毛情况的有机玻璃门。
6.根据权利要求5所述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其特征在于其中在所述硅片传送带的承载构件上设有网格，所述网格贯穿所述承载构件的承载面和与其相对的另一面，在所述硅片传送带的下方设有第二粉尘收集罐，所述硅片传送带的网格能够允许散落于所述硅片传送带上的金刚砂通过进入所述第二粉尘收集罐。
7.根据权利要求6所述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其特征在于其中所述硅片传送带为网状尼龙布传送带。
8.根据权利要求7所述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其特征在于其中所述金刚砂料罐设有震动器。
9.根据权利要求8所述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其特征在于其中所述震动器为电动振动器。
10.根据权利要求9所述的硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其特征在于其中在所述除尘风橱与所述第一粉尘收集罐连通的管道上还设有排风机，所述除尘风橱的所述通孔是通过管道与所述排风机的入口连接，所述排风机的出口是通过管道与所述第一粉尘收集罐连接。
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105881236A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-08-24 | 杭州科技职业技术学院 | 一种旋转移动的喷砂防护装置 |
| CN108581854A (zh) * | 2017-12-19 | 2018-09-28 | 济南大学 | 球类零件抛丸机 |
| CN111203810A (zh) * | 2020-03-27 | 2020-05-29 | 麦斯克电子材料有限公司 | 一种硅片背面软损伤加工过程中用粉尘油污收集装置 |
| CN112605894A (zh) * | 2020-11-23 | 2021-04-06 | 杭州镜辉镜业有限公司 | 一种浴室镜用打砂机 |
| CN112720269A (zh) * | 2019-10-14 | 2021-04-30 | 天津环博科技有限责任公司 | 一种硅片背伤处理装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4738056A (en) * | 1984-12-28 | 1988-04-19 | Fuji Seiki Machine Works, Ltd. | Method and blasting apparatus for preparation of silicon wafer |
| CN101347926A (zh) * | 2008-08-22 | 2009-01-21 | 洛阳市鼎晶电子材料有限公司 | 硅片背面干法喷砂制造吸杂源、消除硅抛光表面氧化雾的工艺方法 |
| CN202607501U (zh) * | 2012-04-10 | 2012-12-19 | 上海良时喷涂设备有限公司 | 一种湿式硅片喷砂机 |
| CN103056783A (zh) * | 2011-10-19 | 2013-04-24 | 浙江昱辉阳光能源有限公司 | 一种喷砂设备 |
| CN203592407U (zh) * | 2013-10-23 | 2014-05-14 | 洛阳市鼎晶电子材料有限公司 | 硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置 |
-
2013
- 2013-10-23 CN CN201310503142.5A patent/CN103846813B/zh active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4738056A (en) * | 1984-12-28 | 1988-04-19 | Fuji Seiki Machine Works, Ltd. | Method and blasting apparatus for preparation of silicon wafer |
| CN101347926A (zh) * | 2008-08-22 | 2009-01-21 | 洛阳市鼎晶电子材料有限公司 | 硅片背面干法喷砂制造吸杂源、消除硅抛光表面氧化雾的工艺方法 |
| CN103056783A (zh) * | 2011-10-19 | 2013-04-24 | 浙江昱辉阳光能源有限公司 | 一种喷砂设备 |
| CN202607501U (zh) * | 2012-04-10 | 2012-12-19 | 上海良时喷涂设备有限公司 | 一种湿式硅片喷砂机 |
| CN203592407U (zh) * | 2013-10-23 | 2014-05-14 | 洛阳市鼎晶电子材料有限公司 | 硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105881236A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-08-24 | 杭州科技职业技术学院 | 一种旋转移动的喷砂防护装置 |
| CN105881236B (zh) * | 2016-05-31 | 2019-10-25 | 杭州科技职业技术学院 | 一种旋转移动的喷砂防护装置 |
| CN108581854A (zh) * | 2017-12-19 | 2018-09-28 | 济南大学 | 球类零件抛丸机 |
| CN112720269A (zh) * | 2019-10-14 | 2021-04-30 | 天津环博科技有限责任公司 | 一种硅片背伤处理装置 |
| CN111203810A (zh) * | 2020-03-27 | 2020-05-29 | 麦斯克电子材料有限公司 | 一种硅片背面软损伤加工过程中用粉尘油污收集装置 |
| CN111203810B (zh) * | 2020-03-27 | 2024-06-07 | 麦斯克电子材料股份有限公司 | 一种硅片背面软损伤加工过程中用粉尘油污收集装置 |
| CN112605894A (zh) * | 2020-11-23 | 2021-04-06 | 杭州镜辉镜业有限公司 | 一种浴室镜用打砂机 |
| CN112605894B (zh) * | 2020-11-23 | 2022-04-01 | 杭州镜辉镜业有限公司 | 一种浴室镜用打砂机 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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