CN103847036A - 一种除尘系统 - Google Patents
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Abstract
本发明是有关于一种除尘系统，用于硅片背面干法喷砂制造吸杂源以消除硅抛光表面氧化雾，其包括：排风除尘装置及粉尘收集罐；其中，所述排风除尘装置与所述粉尘收集罐通过管道连通。本发明的除尘系统可以对金刚砂喷嘴喷洒金刚砂时飞扬的粉尘进行收集，再利用。
Description
技术领域
本发明涉及IC级硅单晶抛光片技术领域,特别是涉及一种用于硅片背面干法喷砂制造吸杂源以消除硅抛光表面氧化雾的除尘系统。
背景技术
IC级硅单晶抛光片是制造大规模和超大规模集成电路的核心材料，主要用于高速计算机、航空航天等高科技领域。硅单晶抛光片的微缺陷“氧化雾”一直困扰着高可靠性器件用硅单晶抛光片的质量。长期以来，人们采用多种方法以消除硅抛光片表面的氧化雾。所采用的方法主要是通过吸杂的方式，有内吸杂和外吸杂两种。内吸杂主要是利用硅片中的氧沉淀产生吸杂区消除硅抛光表面的氧化雾，因其设备昂贵，工艺复杂，要求硅片内氧沉淀分布均匀，不易控制，重复性差，因此在国内外应用较少。外吸杂主要是利用外部手段在硅片背面形成损伤或应力，具体方式有在硅片背面用金钢砂带损伤、激光损伤或LPCVD生长多晶硅层等，或者采用辐照、加热预处理、硅片背面软损伤等方法对硅片的氧化雾进行消除。
对硅片的背面采用干法喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面的氧化雾是近年来新兴的一种可有效消除硅抛光片表面的氧化雾，同时又工艺简单合理，投资小，可操作性强，易于实施的外吸杂方法。其是根据背损吸杂原理,在硅片背面干法喷砂，产生晶格损伤或畸变，制造吸杂源，通过对喷砂粒度、喷砂压力、作业片距、时间过程的控制和调制，在硅片背面制造均匀的层错密度，即在硅片背面产生6-38×104个/cm2的损伤层错，诱生堆杂层错，使硅片具有非本征的吸杂能力。在高温下，硅片的杂质会移位，并且转移到硅片里面和背面的非要害部位，在抛光片表面的制作集成电路区域，形成厚度几个um的洁净区，从而获得无“氧化雾”的高品质硅抛光片，确保IC产品电路特性不受影响。
在现有技术中，对硅片的背面采用干法喷砂制造吸杂源以消除硅抛光表面的氧化雾，通常是通过在运送硅片的传送带上方设置金刚砂喷嘴，通 过金刚砂喷嘴向传送带上的硅片喷洒金刚砂来实现。其中在金刚砂喷嘴向传送带上的硅片喷洒金刚砂时，飞扬的粉尘会排入大气中，给环境造成污染。
发明内容
本发明的目的在于，克服现有技术存在的缺陷，而提供一种新型结构的一种除尘系统，所要解决的技术问题是使其可以对金刚砂喷嘴喷洒金刚砂时飞扬的粉尘进行收集，再利用，非常适于实用。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种除尘系统，用于硅片背面干法喷砂制造吸杂源以消除硅抛光表面氧化雾，其包括：排风除尘装置及粉尘收集罐；其中，所述排风除尘装置与所述粉尘收集罐通过管道连通。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的除尘系统，其中所述排风除尘装置包括：集尘罩及排风机，所述集尘罩通过管道与所述排风机的入口连接，所述排风机的出口通过管道与所述粉尘收集罐连接，所述集尘罩设置于硅片传送带上方的金刚砂喷嘴的上方。
本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方案，本发明一种除尘系统至少具有下列优点及有益效果：本发明的除尘系统可以对金刚砂喷嘴喷洒金刚砂时飞扬的粉尘进行收集，再利用。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图,详细说明如下。
附图说明
图1是本发明的除尘系统的结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的一种除尘系统其具体 实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
有关本发明的前述及其他技术内容、特点及功效，在以下配合参考图式的较佳实施例的详细说明中将可清楚呈现。通过具体实施方式的说明,应当可对本发明为达成预定目的所采取的技术手段及功效获得一更加深入且具体的了解，然而所附图式仅是提供参考与说明之用，并非用来对本发明加以限制。
请参阅图1所示，是本发明的除尘系统的结构示意图。本发明的除尘系统用于硅片背面干法喷砂制造吸杂源以消除硅抛光表面氧化雾。其主要由排风除尘装置和粉尘收集罐1构成。其中，排风除尘装置与粉尘收集罐1通过管道连通。
本发明的排风除尘装置包括：集尘罩2和排风机3，其中集尘罩2通过管道与排风机3的入口连接，排风机3的出口通过管道与粉尘收集罐1连接，集尘罩2是设置于硅片传送带上方的金刚砂喷嘴的上方。
本发明的除尘系统通过将粉尘收集罐1设置于排风机3的出口，可以对金刚砂喷嘴向传送带上的硅片喷洒金刚砂时飞扬的粉尘进行收集，防止粉尘直接排入大气，给环境造成污染，并且可以对收集的金刚砂进行再利用。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (2)
1.一种除尘系统，用于硅片背面干法喷砂制造吸杂源以消除硅抛光表面氧化雾，其特征在于：其包括：排风除尘装置及粉尘收集罐；其中，所述排风除尘装置与所述粉尘收集罐通过管道连通。
2.根据权利要求1所述的除尘系统，其特征在于其中所述排风除尘装置包括：集尘罩及排风机，所述集尘罩通过管道与所述排风机的入口连接，所述排风机的出口通过管道与所述粉尘收集罐连接，所述集尘罩设置于硅片传送带上方的金刚砂喷嘴的上方。
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Country Status (1)
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN108554967A (zh) * | 2018-04-25 | 2018-09-21 | 广西联壮科技股份有限公司 | 封闭式碗坯除尘装置 |
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2013
- 2013-10-23 CN CN201310502983.4A patent/CN103847036A/zh active Pending
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