CN103833335A - 一种远红外粉的制备工艺 - Google Patents

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缪建新
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Abstract

本发明涉及一种远红外粉的制备工艺,包括以下步骤:(1)将所用原料按拟定配方配制,而后于振动混料机中充分混合,粉碎原料中的聚合体,使各种原料都能均匀混合;(2)将混匀后的配合料压块并置于容器中,于850℃~950℃的温度下,高温煅烧合成;(3)冷却到常温,在滚动研磨机中研磨;(4)将远红外粉体、刚玉球、水配合成1∶1∶4(质量比)的浆液,在滚动球磨机中粗磨;(5)将粗磨后的浆液打入振动球磨机中,用氧化锆球研磨,并加入适量的分散剂,进行研磨;(6)研磨完后,将浆液低温烘干;(7)烘干后的远红外粉体用气流磨进行粉碎和分离,即得到纳米级远红外粉体。通过本发明制成的远红外粉体颗粒的细度均匀并圆滑,红外线辐射能力高。

Description

一种远红外粉的制备工艺
技术领域
本发明涉及一种纺织品印染工艺,尤其是涉及远红外粉的制备工艺。
背景技术
远红外粉是具有远红外辐射能力的粉状材料,又称远红外陶瓷粉。远红外粉的种类很多,许多物质都有较强的发射远红外线的能力。能做成织物的粉是复合粉,这种粉的红外线辐射能力高,能满足保健需要。人体温度一般在36℃左右,只有在此温度下具有较高远红外辐射能力的材料才具有使用价值。
发明内容
本申请人针对上述的市场需要,进行了研究改进,提供了一种远红外辐射粉的制备工艺。
为了解决上述技术问题,本发明采用如下的技术方案:
一种远红外粉的制备工艺,包括以下步骤:
(1)将所用原料按拟定配方配制,而后于振动混料机中充分混合,粉碎原料中的聚合体,使各种原料都能均匀混合;
(2)将混匀后的配合料压块并置于容器中,于850℃~950℃的温度下,高温煅烧合成;
(3)冷却到常温,在滚动研磨机中研磨;
(4)将远红外粉体、刚玉球、水配合成1∶1∶4(质量比)的浆液,在滚动球磨机中粗磨;
(5)将粗磨后的浆液打入振动球磨机中,用氧化锆球研磨,并加入适量的分散剂,进行研磨;
(6)研磨完后,将浆液低温烘干;
(7)烘干后的远红外粉体用气流磨进行粉碎和分离,即得到纳米级远红外粉体。
本发明的技术效果在于:
通过在水介质中研磨,使其颗粒的细度均匀并圆滑;高温烧结使表面吸附的气体分子脱落,增加自极化强度,增加远红外线的发射率;用气流磨能够对远红外线粉体进行再一次的分散和研磨,解决以前喷雾干燥时粉体团聚的问题。
具体实施方式
下面对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。
一种远红外粉的制备工艺,包括以下步骤:
(1)将所用原料按拟定配方配制,而后于振动混料机中充分混合,粉碎原料中的聚合体,使各种原料都能均匀混合;
(2)将混匀后的配合料压块并置于容器中,于850℃的温度下,高温煅烧合成;
(3)冷却到常温,在滚动研磨机中研磨;
(4)将远红外粉体、刚玉球、水配合成1∶1∶4(质量比)的浆液,在滚动球磨机中粗磨;
(5)将粗磨后的浆液打入振动球磨机中,用氧化锆球研磨,并加入适量的分散剂,进行研磨;
(6)研磨完后,将浆液低温烘干;
(7)烘干后的远红外粉体用气流磨进行粉碎和分离,即得到纳米级远红外粉体。

Claims (1)

1.一种远红外粉的制备工艺,其特征在于:包括以下步骤:
(1)将所用原料按拟定配方配制,而后于振动混料机中充分混合,粉碎原料中的聚合体,使各种原料都能均匀混合;
(2)将混匀后的配合料压块并置于容器中,于850℃~950℃的温度下,高温煅烧合成;
(3)冷却到常温,在滚动研磨机中研磨;
(4)将远红外粉体、刚玉球、水配合成1∶1∶4(质量比)的浆液,在滚动球磨机中粗磨;
(5)将粗磨后的浆液打入振动球磨机中,用氧化锆球研磨,并加入适量的分散剂,进行研磨;
(6)研磨完后,将浆液低温烘干;
(7)烘干后的远红外粉体用气流磨进行粉碎和分离,即得到纳米级远红外粉体。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106927740A (zh) * 2015-12-30 2017-07-07 武汉沁馨硅藻新材料科技有限公司 一种纳米远红外硅藻泥功能性墙体壁材
CN116239134A (zh) * 2022-12-07 2023-06-09 雅安百图高新材料股份有限公司 导热领域用的氧化铝煅烧粉体的处理方法
CN116282097A (zh) * 2022-12-07 2023-06-23 雅安百图高新材料股份有限公司 超细类球形氧化铝颗粒及其制备方法和应用

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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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