CN103814288B - 测定用设备以及使用其的被测定物的特性测定方法 - Google Patents

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Abstract

本发明的测定用设备具备:设备主体(21),其具备至少1个用于收容包含被测定物的检体的凹部(20);和空隙配置结构体(1),其具有在与主面垂直的方向上贯通的多个空隙部(10),特征在于,按照所述空隙配置结构体(1)的一部分或全部位于所述凹部(20)的内部的方式,固定所述空隙配置结构体(1)。

Description

测定用设备以及使用其的被测定物的特性测定方法
技术领域
本发明涉及测定用设备以及使用其的被测定物的特性测定方法。
背景技术
过去,为了分析物质的特性,使用将被测定物保存在空隙配置结构体,并用电磁波照射保持该被测定物的空隙配置结构体,解析其透过率光谱来测定被测定物的特性的方法。具体地,例如能举出对附着被测定物的蛋白质等的金属网过滤器照射太赫兹波来解析透过率光谱的手法。
另一方面,作为高灵敏度地测定微量的被测定物的方法,已知用太赫兹波等的电磁波照射金属网等的空隙配置结构体的测定方法。例如,在专利文献1(特开2007—010366号公报)中公开了如下方法:将被测定物保持在具有空隙部的空隙配置结构体(例如金属网)、和紧贴空隙配置结构体的基材上,向保持被测定物空隙配置结构体照射电磁波,检测透过空隙配置结构体的电磁波,由此基于因被测定物的存在而使得频率特性发生的变化来测定被测定物的特性。
但是,在这样的使用空隙配置结构体的测定方法中,需要检体向空隙配置结构体的滴下、干燥、洗净等的前处理。在医疗机构进行血液检查等的情况下,期望不需要花费进行这样的处理的工夫的测定方法。
另外,在专利文献2(特开2007—163170号公报)中,公开了如下方法:在检体为包含被测定物(溶质)的液体的情况下,将包含被测定物的液体以及空隙配置结构体收容在相同的容器内,对收容两者的容器照射电磁波,来测定被测定物的特性。
但是,在专利文献2记载的方法中,由于用于收容液体以及空隙配置结构体的容器的容量一般较大,因此有需要大量的检体(液体)这样的问题。
另外,在专利文献2中,作为探测器的电磁波不仅需要透过空隙配置结构体,还需要透过包含被测定物的液体和容器这2个物体。一般而言,由于液体和容器反射或吸收电磁波,因此透过电磁波的信号变弱,存在得到的数据的解析变得复杂的问题。
进而,在专利文献1和专利文献2公开的方法中,在测定次数或被测定物的种类多的情况下,每次测定都要准备新的空隙配置结构体,都需要使被测定物附着、或对其进行前处理的作业。
另外,作为与测定相关的误差要因,考虑空隙配置结构体的尺寸偏差等。这样的误差要因在被测定物的量少、频率特性的变化微小的情况下,不会带来特别大的影响。另外,空隙配置结构体的尺寸偏差,按照同一空隙配置结构体内、空隙配置结构体的个体间、空隙配置结构体的制造批次间的顺序变大。
先行技术文献
专利文献
专利文献1:JP特开2007—010366号公报
专利文献2:JP特开2007—163170号公报
发明内容
发明的概要
发明要解决的课题
本发明为了解决上述现有技术中的课题而提出,目的在于提供能不需要大量的检体(含有被测定物的液体)而以少量的检体测定被测定物的特性的高灵敏度的测定用设备、以及使用其的被测定物的特性测定方法。
用于解决课题的手段
本发明是一种测定用设备,具备:设备主体,其具备至少1个用于收容包含被测定物的检体的凹部;和空隙配置结构体,其具有在与主面垂直的方向上贯通的多个空隙,
所述测定用设备的特征在于,按照使所述空隙配置结构体的一部分或全部位于所述凹部的内部的方式,固定所述空隙配置结构体。
优选所述检体是液体。另外优选所述空隙配置结构体能从所述设备主体拆装。
优选所述设备主体具备阵列化的多个所述凹部。该情况下,所述测定用设备具备:1个所述空隙配置结构体,其包含配置在多个所述凹部各自的内部的多个有效区域,所述空隙配置结构体,按照多个所述有效区域各自位于多个所述凹部各自内部的方式,被固定在所述设备主体。
优选所述设备主体由第1部件和第2部件构成,所述空隙配置结构体被夹持在所述第1部件与所述第2部件间。该情况下,所述空隙配置结构体具备用于保持所述空隙配置结构体的框部件,通过所述框部件、与所述第1部件以及所述第2部件嵌合,来将所述空隙配置结构体夹持在所述第1部件与所述第2部件间。另外,优选,所述设备主体的材料含有磁性体。
优选所述测定用设备用于:对所述测定用设备照射电磁波,检测在所述空隙配置结构体前方散射或后方散射的电磁波的频率特性,由此来测定包含在所述检体的被测定物的特性。
另外,本发明是一种被测定物的特性测定方法,是使用了上述的测定用设备的被测定物的特性测定方法,其中,所述被测定物的特性测定方法具备:第1步骤,将包含所述被测定物的检体收容在所述凹部的内部;第2步骤,将所述空隙配置结构体从所述设备主体取下;和第3步骤,对所述空隙配置结构体照射电磁波,并检测在所述空隙配置结构体前方散射或后方散射的电磁波的频率特性,由此来测定包含在所述检体的被测定物的特性。
发明的效果
在本发明的测定用设备中,由于能使得用于收容含有被测定物的检体的凹部的容量较小,因此能实现能不需要大量的检体(含有被测定物的液体)而以少量的检体测定被测定物的特性的高灵敏度的测定。
另外,在本发明的测定用设备中空隙配置结构体为能拆装的情况下,由于能在使空隙配置结构体与检体和容器分离的状态下进行测定,因此能不受检体和容器的影响地实现高灵敏度的测定。
另外,本发明的测定用设备具备阵列化的多个凹部的情况下,由于在测定次数或被测定物的种类多的情况下也能同时进行作业,因此能缩短作业时间,能提升测定的吞吐量。另外,不再需要对被测定物的每个种类洗净容器内这一工序,还降低了生物危害的危险性。
另外,通过使本发明的测定设备为在多个凹部的内部配置公共的1个空隙配置结构体的各部分的结构,能降低空隙配置结构体的制造批次间以及个体间的尺寸偏差引起的测定误差,能实现高灵敏度的测定。
附图说明
图1是用于说明本发明的测定方法的概要的示意图。
图2是在本发明中使用的空隙配置结构体的一例的主视图。
图3是表示实施方式1的测定用设备的一个构成的示意图。
图4是表示实施方式1的测定用设备的另一构成的示意图。
图5是表示实施方式2的测定用设备的立体图。
图6是与实施方式2的测定用设备的制造方法、或空隙配置结构体的拆装方法相关的说明图。
图7是与实施方式2的测定用设备的制造方法、或空隙配置结构体的拆装方法相关的另一说明图。
图8是与实施方式2的测定用设备的制造方法、或空隙配置结构体的拆装方法相关的再另一说明图。
具体实施方式
首先,使用图1来说明本发明的测定方法的一例的概略。图1是示意表示在本发明的测定方法中使用的测定装置的整体结构的图。该测定装置利用通过将从激光器7(例如短光脉冲激光器)照射的激光照射到半导体材料而产生的电磁波(例如具有20GHz~120THz的频率的太赫兹波)脉冲。
在图1的构成中,使从激光器7出射的激光在半反射镜70分歧成2条路径。一方照射到电磁波产生侧的光传导元件77,另一方通过使用多个反射镜71(相同的功能省去标号添加)而经过时间延迟台76照射到接收侧的光传导元件78。作为光传导元件77、78,一般使用在LT—GaAs(低温生长GaAs)形成带有间隙部的偶极天线的构成。另外,作为激光器7,能使用利用了光纤型激光器或钛蓝宝石等的固体的激光器等。进而,在电磁波的产生、检测中,也可以无天线地使用半导体表面,或使用ZnTe晶体这样的电光学晶体。在此,由电源80对成为产生侧的光传导元件77的间隙部施加合适的偏置电压。
产生的电磁波被抛物面反射镜72变成平行波束,通过抛物面反射镜73照射空隙配置结构体1。在此,空隙配置结构体既可以保持位于后述的测定用设备(微板)的凹部的内部的状态不变,也可以从测定用设备(微板)取下。
透过空隙配置结构体1的电磁波通过抛物面反射镜74、75而由光传导元件78接收。被光传导元件78接收的电磁波信号在被放大器84放大后通过锁相放大器82而取得。然后,在用包含计算单元的PC(个人计算机)83进行过傅立叶变换等的信号处理后,计算出平板状的空隙配置结构体1的透过率光谱等。对为了在锁相放大器82取得而以振荡器81的信号施加在产生侧的光传导元件77的间隙的来自电源80的偏置电压进行调制(振幅5V到30V)。由此,能通过进行同步检波来提升S/N比。
以上说明的测定方法是一般被称作太赫兹时域分光法(THz—TDS)的方法。除了THz—TDS以外,还可以利用傅立叶变换红外分光法(FT—IR)。
在图1示出了测定电磁波的透过率的情况,但在本发明中也可以测定电磁波的反射率。优选地,测定0阶方向的透过下的透过率、0阶方向的反射下的反射率。
另外,一般来说,在将衍射栅格(diffractiongrating)的栅格间隔设为s、将入射角设为i、将衍射角设为θ、将波长设为λ时,因衍射栅格而衍射的光谱能表征为
s(sini—sinθ)=nλ…(1)。
上述“0阶方向”的0阶是指上述式(1)的n为0的情况。由于s以及λ不会成为0,因此n=0的成立的仅有sini—sinθ=0的情况。因此,上述所谓“0阶方向”是指入射角与衍射角相等时、即电磁波的行进方向不改变的方向。
在本发明的测定方法中使用的电磁波优选是波长λ为0.3μm~15mm(频率:20GHz~1PHz)的电磁波(太赫兹波)。为了进行更高灵敏度的测定,优选使照射到空隙配置结构体的电磁波的波长λ较短,优选使波长λ为300μm以下(频率:1THz以上)。
作为具体的电磁波,例如能举出以短光脉冲激光器为光源、通过ZnTe等的电光学晶体的光整流效果而产生的太赫兹波。另外,例如,能举出以短光脉冲激光器为光源、通过在光传导天线激发自由电子、用施加在光传导天线的电压瞬时产生电流而产生的太赫兹波。另外,例如能举出从高压水银灯或高温陶瓷发出的太赫兹波。另外,作为具体的电磁波,例如能举出从半导体激光器或光电二极管出射的可见光。
另外,在本发明的测定方法中照射到空隙配置结构体的电磁波优选是直线偏振的电磁波。直线偏振的电磁波既可以是从无偏振、圆偏振等的光源出射的电磁波(直线)通过偏振片后的直线偏振的电磁波,也可以是从偏振光源出射的直线偏振的电磁波。作为直线偏振片,能使用线栅等。
在本发明中,所谓“被测定物的特性测定”是指进行成为被测定物的化合物的定量或各种定性等,例如能举出测定溶液中等的微量的被测定物的含有量的情况、或进行被测定物的辨识的情况。具体地,能举出如下方法:例如将空隙配置结构体浸渍在溶解了被测定物的溶液中,在使被测定物附着在空隙配置结构体的表面后将溶媒和多余的被测定物洗净、并使空隙配置结构体干燥,然后再使用后述的测定装置来测定被测定物的特性。
在本发明中,在求取被测定物的量的情况下,优选通过与以预先测定各种量的被测定物而得到的频率特性为基础而作成的校正曲线进行比较,来算出被测定物的量。
<测定用设备>
接下来,详细说明本发明的测定用设备。本发明的测定用设备具备设备主体和空隙配置结构体,特征在于,按照空隙配置结构体的一部分或全部位于凹部的内部的方式,固定空隙配置结构体。
(设备主体)
设备主体是具备至少1个用于收容包含被测定物的检体的凹部的部件。另外,检体优选是液体。
所述设备主体,也可以是仅具备1个凹部的容器状的部件,但优选具备阵列化的多个凹部。具备这样的阵列化的多个凹部的设备主体通常被称作微板(microplate)。微板是一直以来在生物化学的分析或临床检查等中为了测定血液等的检体中的被测定物而使用的形成有多个井(凹部)的板。本发明的测定设备特征在于,按照空隙配置结构体的一部分或全部位于微板的井的内部的方式,固定所述空隙配置结构体。若使用具备众多井的微板,则在相同条件下能得到众多的数据,能谋求作业的省力化,实现了能一次处理众多样本、信息的高吞吐化。
这种情况下,井的容量通常为数微升到数毫升程度,能实现检体(包含被测定物的液体等)的少量化。另外,微板由于通常是一次性使用,不再如过去那样需要洗净容器内等的步骤。
这种情况下,本发明的测定用设备具备包含配置在多个井(凹部)各自内部的多个有效区域的1个空隙配置结构体,空隙配置结构体优选按照多个有效区域各自位于设备主体的多个凹部各自内部的方式,被固定在设备主体。由此,能降低空隙配置结构体的尺寸偏差引起的测定误差,能实现高灵敏度测定。
本发明的测定用设备,优选具备用于固定设备主体与空隙配置结构体的相对位置的固定单元。进而,该固定单元优选是以能在设备主体拆装空隙配置结构体的状态进行固定的单元。由此,由于能以使空隙配置结构体与检体和容器分离的状态进行测定,因此能不受检体和容器的影响地实现高灵敏度的测定。另外,在空隙配置结构体能从设备主体拆装的情况下,能容易地进行用于再利用构成空隙配置结构体的金属(特别是贵金属)的回收。
本发明的测定用设备优选用于:对测定用设备照射电磁波,并检测在空隙配置结构体前方散射或后方散射的电磁波的频率特性,由此测定包含在检体中的被测定物的特性。
作为设备主体的材质,例如能举出聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、丙烯酸树脂等树脂、玻璃、陶瓷、半导体。优选对所使用的电磁波反射率小、吸收小的材料。作为井(well)的形状,例如除了能举出平底、圆底以外,还能举出组合大量细长微管的形式(深井板)等。能对应于测定目的适宜地区分使用。
(空隙配置结构体)
构成本发明的测定用设备的空隙配置结构体,是具有在与主面垂直的方向上贯通的多个空隙部的空隙配置结构体。整体的形状通常为平板状或薄膜状。
在本发明中使用的空隙配置结构体是在上述主面上的至少一个方向上周期性配置在与主面垂直的方向上贯通的多个空隙部的结构体。例如,能举出在空隙配置结构体的主面方向上矩阵状地配置多个空隙部的结构体。但是,并不需要在空隙配置结构体的整体上周期性配置空隙部,只要在至少一部周期性地配置空隙部即可。
空隙配置结构体优选是准周期结构体或周期结构体。所谓准周期结构体是虽不具有平移对称性但在排列中保持了秩序性的结构体。作为准周期结构体,例如作为一维准周期结构体能举出斐波纳契结构,作为二维准周期结构体能举出彭罗斯结构。所谓周期结构体是具有以平移对称性为代表的各种空间对称性的结构体,对应于其对称的维数而分类为一维周期结构体、二维周期结构体、三维周期结构体。一维周期结构体例如能举出线栅结构、一维衍射栅格等。二维周期结构体例如能举出网过滤器、二维衍射栅格等。这些周期结构体中也适当地使用二维周期结构体,更优选使用空隙部在纵向以及横向规则地排列(方形排列)的二维周期结构体。
作为方形排列空隙部的二维周期结构体,例如能举出图2所示的矩阵状地以恒定间隔配置空隙部10的板状结构体(栅格状结构体)。图2所示的空隙配置结构体1,是从其主面侧观察正方形的空隙部10在与该正方形的各边平行的2个排列方向(图2中的纵向和横向)上以相等的间隔设置的板状结构体。空隙部并不限定于这样的形状,例如也可以是长方形、圆形或椭圆形等。另外,并不限定于具有这样的对称性的形状,也可以是在空隙部的一部分具有突起部或切口部的形状等。另外,在空隙部的排列为方形排列的情况下,2个排列方向的间隔也可以不相等,例如可以为长方形排列。
另外,空隙配置结构体的厚度(t)优选为测定中使用的电磁波的波长λ几分之一以下。例如,在照射的电磁波的波长λ为300μm的情况下,优选t为150μm以下。在结构体的厚度大于该范围时,透过或反射的电磁波的强度变弱而有时会难以检测出信号。
另外,空隙配置结构体的空隙部的尺寸(例如图2所示的d)优选为在测定中使用的电磁波的波长λ的十分之一以上、10倍以下。在空隙部的尺寸为该范围以外时,透过的电磁波的强度变弱而有时会难以检测出信号。
另外,空隙部的栅格间隔(间距)(例如图2所示的s),优选为在测定中使用的电磁波的波长的十分之一以上、10倍以下。在空隙部的栅格间隔成为该范围外时,有时会难以发生透过。
其中,空隙配置结构体、空隙部的形状和寸法对应于测定方法、空隙配置结构体的材质特性、所使用的电磁波的频率等而适宜设计,其范围难以一般化,并不限定于上述的范围。
空隙配置结构体优选由金属构成。作为金属能举出能与具有羟基、硫醇基、羧基等官能基的化合物的官能基键合的金属;能在表面被覆羟基、氨基等的官能基的金属;还有这些金属的合金。具体地,能举出金、银、铜、铁、镍、钛、铬、硅、锗等,优选金、银、铜、镍、钛、铬,更优选镍、金。
在使用金、镍的情况下,特别是在被测定物具有硫醇基(-SH基)的情况下,由于能使该硫醇基与空隙配置结构体的表面键合,因此有利。另外,在使用镍的情况下,特别在被测定物具有羟基(-OH)或羧基(-COOH)的情况下,由于能使该官能基与空隙配置结构体的表面键合,因此有利。
该空隙配置结构体能用各种公知的方法来制作,但优选在板状或薄膜状的支承基材的表面通过图案形成来形成。图案形成能通过通常的半导体上电极制作工序(例如抗蚀剂涂布、图案印刷、抗蚀剂图案形成、金属蒸镀、抗蚀剂除去)等进行。
<被测定物的特性测定方法>
本发明所涉及的被测定物的特性测定方法具备以下的第1步骤、第2步骤以及第3步骤,在该测定方法中使用上述的测定用设备。
(第1步骤)
在该步骤,将包含被测定物的检体收容在测定设备的凹部的内部。收容在该测定设备的凹部的检体中的被测定物,通常保持在空隙配置结构体(位于测定设备的凹部的内部的有效区域)。
作为将被测定物保持在空隙配置结构体的方法,能使用各种公知的方法,例如既可以直接附着在空隙配置结构体,也可以隔着支承膜等附着。从通过提升测定灵敏度、抑制测定的偏差来进行重现性高的测定的观点出发,优选使被测定物直接附着在空隙配置结构体的表面。
作为使被测定物直接附着在空隙配置结构体的情况,不仅包括在空隙配置结构体的表面与被测定物间直接形成化学键合等的情况,还包括对预先在表面键合了主分子的空隙配置结构体,使被测定物键合在该主分子的情况。作为化学键合,能举出共价键合(例如金属-硫醇基间的共价键合等)、范德瓦尔斯键合、离子键合、金属键合、氢键合等,优选为共价键合。另外,所谓主分子是指能特异地使被测定物键合的分子等,作为主分子和被测定物的组合,例如能举出抗原和抗体、糖链和蛋白质、脂肪和蛋白质、低分子化合物(配合体)和蛋白质、蛋白质和蛋白质、单链DNA和单链DNA等。
(第2步骤)
在该步骤,将空隙配置结构体从设备主体取下。在将空隙配置结构体从设备主体取下前,通常由于将空隙配置结构体固定在设备主体,因此需要解除固定单元。但是,在由第1部件以及第2部件构成的设备主体、和空隙配置结构体通过磁力来固着的情况下等,能保持固定的状态不变地,容易地以手工作业将空隙配置结构体从设备主体分离。
(第3步骤)
在该步骤,用电磁波照射在第2步骤取下的空隙配置结构体,并检测在空隙配置结构体前方散射或后方散射的电磁波的频率特性,由此测定包含在检体中的被测定物的特性。
在本发明的测定方法中,基于在上述空隙配置结构体散射的电磁波的与频率特性相关的至少1个参数来测定被测定物的特性。例如,在空隙配置结构体前方散射(透过)的电磁波的频率特性中产生的谷底波形、在后方散射(反射)的电磁波的频率特性中产生的峰值波形等,会因被测定物的存在而变化,能基于此来测定被测定物的特性。
在此,所谓谷底波形是在检测到的电磁波相对于所照射的电磁波的比率(例如电磁波的透过率)相对变大的频率范围内,在平板状的周期的结构体的频率特性(例如透过率光谱)部分地看到的谷型(向下凸)的部分的波形。另外,所谓峰值波形是在检测到的电磁波相对于所照射的电磁波的比率(例如电磁波的反射率)相对变小的频率范围内,在平板状的周期的结构体的频率特性(例如反射率光谱)部分地看到的峰型(向上凸)的波形。
下面举出具体的实施方式来更详细说明本发明,但本发明并不限定于此。
<实施方式1>
图3是表示本实施方式的测定用设备的1个构成的示意图。如图3所示,在本实施方式的测定用设备2中,空隙配置结构体1(或其一部分)配置在凹部(井)20内。
空隙配置结构体1,优选能从构成凹部20的设备主体21拆装。由于能在使空隙配置结构体与检体和容器分离的状态下进行测定,因此能不受检体和容器的影响地实现高灵敏度的测定。
另外,设备主体(容器)21的材质期望对所使用的电磁波吸收小。另外,设备主体(容器)21的材质期望对所使用的电磁波反射率小。由此,能降低对设备主体进行的测定的影响,能进行高灵敏度的测定。
在图3,空隙配置结构体1配置在凹部20的中间位置,但空隙配置结构体1也可以如图4所示那样配置在凹部20的底部。
在测定被测定物的特性时,首先将含有被测定物的液体投入到容器2的凹部20内,通过进行静置、搅拌等适当的处理来使被测定物附着在空隙配置结构体1。接下来,在从测定用设备2取下空隙配置结构体1后用电磁波照射空隙配置结构体1,根据电磁波的透过特性等来进行被测定物的特性测定。如此,通过使空隙配置结构体1与检体和容器分离,能实现高灵敏度测定。
另外,期望在用电磁波照射空隙配置结构体1来进行测定前,排除附着于空隙配置结构体1的多余的溶质。另外,在需要用于洗净附着于空隙配置结构体1的被测定物以外的附着物的洗净工序的情况下,也是只要在取下空隙配置结构体1后实施洗净工序,就能与洗净容器内的情况相比省去洗净液的分注等的工夫,能简便地进行洗净。
<实施方式2>
图5是表示本实施方式的测定用设备的立体图。如图5所示,在本实施方式中,构成收容含有被测定物的液体的凹部20的设备主体21,具备阵列化的多个凹部20。由此,能实现能一次处理大量的样本、信息的高吞吐的测定。
另外,在图5中,空隙配置结构体1配置为:被夹持在构成凹部(井)20的底部侧的第1部件(井底部部件)211、与构成井20的上部侧的第2部件(井上部部件)212间,空隙配置结构体1的有效区域位于井20的内部。空隙配置结构体1既可以如图3所示那样与各个井20的底部分离,也可以如图4所示那样与各个井20的底部相接,优选与各个井20的底部分离。进而,空隙配置结构体1与各个井20的底部的距离,优选为与距被空隙配置结构体1增强电磁场的范围的空隙配置结构体1的主面的距离相同程度以上。这是因为被空隙配置结构体1增强的电磁场区域不包括井20的底部,提升了测定灵敏度。
在本实施方式中,由于位于各个井20内的空隙配置结构体1的有效区域分别为同一个体的空隙配置结构体1的一部分,因此各有效区域的尺寸偏差小于空隙配置结构体的个体间、和制造批次间的尺寸偏差。为此,能降低尺寸偏差引起的测定误差,能实现高灵敏度测定。
(测定用设备的制造方法、空隙配置结构体的拆装方法)
图6、图7、图8是与本实施方式的测定用设备的制造方法、或空隙配置结构体的拆装方法相关的说明图。
图6是用第1部件(井底部部件)211和第2部件(井上部部件)212夹着空隙配置结构体1而构成的测定用设备(微板)的分解图。
第1部件(井底部部件)211和第2部件(井上部部件)212优选含磁性体材料。这是因为,在这种情况下能使含金属材料的空隙配置结构体1容易地固着、且能从微板主体(第1部件211以及第2部件212)拆装空隙配置结构体1。通过在测定时使空隙配置结构体1与含有被测定物的液体(检体)和容器(设备主体)分离,能不受检体和容器的影响地实现高灵敏度的测定或阵列扫描测定。
在图7中,以使空隙配置结构体1的拆装容易为目的,而在空隙配置结构体1设置框部件(支承材料)12。然后,通过让设于框部件12的两面的阳模部件(突起部)31(在图7中仅图示单面)、和设于第1部件211以及第2部件212的空隙配置结构体1侧的阴模部件(凹部)32(图7中仅图示了设于第1部件211的阴模部件)卡合,来进行固定,以将空隙配置结构体1配置在第1部件211与第2部件212间的给定位置。另外,在如此具有卡合单元来作为固定单元的情况下,也可以使第1部件211和第2部件212含磁性体材料。
在图8中,以防止井间的液渗(泄漏)为目的,在第1部件211以及第2部件212的空隙配置结构体1侧的井周围设置橡胶制的环4(图8中仅图示设于第1部件211的环4)。通过这种具备井结构以及环4的结构,能防止井间的污染。
作为用作利用了本实施方式的测定用设备(微板)的测定的设备,用于使用微板来检测、测定吸光、荧光、发光的微板读取器(Microplatereader)尤为重要,由此能同时进行微量且众多的样本的测定。除此以外,还可用在微板用的离心机、自动进行样本的出入、洗净等的装置。
标号的说明
1空隙配置结构体
10空隙部
12框部件
2测定用设备(微板)
20凹部
21设备主体(微板主体)
211第1部件
212第2部件
31突起部(阳模部件)
32凹部(阴模部件)
4环
7激光器
70半反射镜
71反射镜
72、73、74、75抛物面反射镜
76时间延迟台
77、78光电导元件
80电源
81振荡器
82锁相放大器
83PC(个人计算机)
84放大器

Claims (9)

1.一种测定用设备,具备:
设备主体(21),其具备至少1个用于收容包含被测定物的检体的凹部(20);和
空隙配置结构体(1),其具有在与主面垂直的方向上贯通的多个空隙部(10),
所述测定用设备的特征在于,
按照使所述空隙配置结构体(1)的一部分或全部位于所述凹部(20)的内部的方式,固定所述空隙配置结构体(1),
所述设备主体(21)由第1部件(211)和第2部件(212)构成,
所述空隙配置结构体(1)具备框部件,所述框部件被夹持在所述第1部件(211)与所述第2部件(212)间。
2.根据权利要求1所述的测定用设备,其中,
所述检体是液体。
3.根据权利要求1所述的测定用设备,其中,
所述空隙配置结构体(1)能从所述设备主体(21)拆装。
4.根据权利要求1所述的测定用设备,其中,
所述设备主体(21)具备阵列化的多个所述凹部(20)。
5.根据权利要求4所述的测定用设备,其中,
所述测定用设备具备:
1个所述空隙配置结构体(1),其包含配置在多个所述凹部(20)各自的内部的多个有效区域,
所述空隙配置结构体(1),按照多个所述有效区域各自位于多个所述凹部(20)各自内部的方式,被固定在所述设备主体(21)。
6.根据权利要求1所述的测定用设备,其中,
所述框部件用于保持所述空隙配置结构体,
通过所述框部件、与所述第1部件(211)以及所述第2部件(212)嵌合,来将所述空隙配置结构体(1)夹持在所述第1部件(211)与所述第2部件(212)间。
7.根据权利要求1所述的测定用设备,其中,
所述设备主体(21)的材料含有磁性体。
8.根据权利要求1所述的测定用设备,其中,
所述测定用设备用于:
对所述测定用设备照射电磁波,检测在所述空隙配置结构体(1)前方散射或后方散射的电磁波的频率特性,由此来测定包含在所述检体的被测定物的特性。
9.一种被测定物的特性测定方法,是使用了权利要求3所述的测定用设备的被测定物的特性测定方法,其中,所述被测定物的特性测定方法具备:
第1步骤,将包含所述被测定物的检体收容在所述凹部(20)的内部;
第2步骤,将所述空隙配置结构体(1)从所述设备主体(21)取下;和
第3步骤,对所述空隙配置结构体(1)照射电磁波,并检测在所述空隙配置结构体(1)前方散射或后方散射的电磁波的频率特性,由此来测定包含在所述检体的被测定物的特性。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110545653A (zh) * 2019-09-09 2019-12-06 中国科学院福建物质结构研究所 一种金属网栅及电磁屏蔽光学窗

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN205175908U (zh) * 2013-03-25 2016-04-20 株式会社村田制作所 空隙配置构造体
WO2015151563A1 (ja) * 2014-04-01 2015-10-08 株式会社村田製作所 被測定物の測定方法
CN106645016A (zh) * 2016-11-23 2017-05-10 电子科技大学 基于l形结构超材料的透射型太赫兹微流通道传感器
JP7103332B2 (ja) * 2019-11-14 2022-07-20 株式会社豊田中央研究所 赤外線吸収分光光度計及び赤外線吸収スペクトルの測定方法
CN113008907B (zh) * 2019-12-19 2024-04-12 华为技术有限公司 太赫兹感知系统和太赫兹感知阵列

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005095929A1 (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Hamamatsu Photonics K.K. マスキング部材、光測定方法、光測定用キット及び光測定用容器
JP2007010366A (ja) * 2005-06-28 2007-01-18 Advantest Corp 一体型構造体、測定装置、方法およびプログラム
JP2007163170A (ja) * 2005-12-09 2007-06-28 Advantest Corp 収容型構造体、測定装置、方法およびプログラム
JP2008083020A (ja) * 2006-03-17 2008-04-10 Institute Of Physical & Chemical Research 分析方法及び分析装置
JP2009019925A (ja) * 2007-07-10 2009-01-29 Iwate Prefectural Univ 分光測定試料、分光測定基板、及び、分光測定方法
WO2011070817A1 (ja) * 2009-12-09 2011-06-16 株式会社村田製作所 空隙配置構造体が保持された分光測定用デバイス、それに用いられる枠部材、および、分光器

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5290705A (en) * 1992-01-13 1994-03-01 R. E. Davis Chemical Corporation Speciman support for optical analysis
DE10060560A1 (de) * 2000-05-26 2001-12-06 Bruker Optik Gmbh Mikrotiterplatte für Infrarotmessungen
US20030092075A1 (en) * 2000-10-30 2003-05-15 Sru Biosystems, Llc Aldehyde chemical surface activation processes and test methods for colorimetric resonant sensors
AU2003210685A1 (en) 2002-07-10 2004-02-02 Engineering Performance Solutions, Llc Method for reactivating activated carbon and activating carbon
US7122155B2 (en) * 2002-07-16 2006-10-17 Mcgill University Electron microscopy cell fraction sample preparation robot
US20040251414A1 (en) * 2003-06-10 2004-12-16 Stephan Rodewald Sample matrix for infrared spectroscopy
JP5035618B2 (ja) * 2006-12-05 2012-09-26 独立行政法人理化学研究所 電磁波を用いた検出方法、及び検出装置
WO2009088021A1 (ja) * 2008-01-08 2009-07-16 Nippon Telegraph And Telephone Corporation キャピラリーポンプユニット及びフローセル
JP2010236868A (ja) * 2009-03-30 2010-10-21 Sumitomo Electric Ind Ltd 生体由来試料固定用シート及びその製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005095929A1 (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Hamamatsu Photonics K.K. マスキング部材、光測定方法、光測定用キット及び光測定用容器
JP2007010366A (ja) * 2005-06-28 2007-01-18 Advantest Corp 一体型構造体、測定装置、方法およびプログラム
JP2007163170A (ja) * 2005-12-09 2007-06-28 Advantest Corp 収容型構造体、測定装置、方法およびプログラム
JP2008083020A (ja) * 2006-03-17 2008-04-10 Institute Of Physical & Chemical Research 分析方法及び分析装置
JP2009019925A (ja) * 2007-07-10 2009-01-29 Iwate Prefectural Univ 分光測定試料、分光測定基板、及び、分光測定方法
WO2011070817A1 (ja) * 2009-12-09 2011-06-16 株式会社村田製作所 空隙配置構造体が保持された分光測定用デバイス、それに用いられる枠部材、および、分光器

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110545653A (zh) * 2019-09-09 2019-12-06 中国科学院福建物质结构研究所 一种金属网栅及电磁屏蔽光学窗

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Publication number Publication date
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