CN103718106A - 着色组合物、着色辐射敏感组合物、彩色滤光片和固态成像器件 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种着色组合物，其具有令人满意的耐热性、无褪色、优异的可显影性，以及在基板和其他颜色的像素上没有显影残渣，具体地，提供了一种彩色滤光片用着色组合物，其包含(A)具有染料骨架的聚合物和(B)有机溶剂，其中相对于所述(A)具有染料骨架的聚合物，能够形成所述(A)具有染料骨架的聚合物的具有所述染料骨架的未反应单体组分的含量小于或等于1质量％。
Description
发明背景
技术领域
本发明涉及一种着色组合物，一种着色辐射敏感组合物，一种聚合物的制备方法，一种图案形成方法，一种彩色滤光片及其制备方法，以及一种固态成像器件。
背景技术
作为在液晶显示器或固态成像器件中使用的彩色滤光片的制备方法，已知染色法、印刷法、电沉积法和颜料分散法。
这些中，颜料分散法是其中通过使用其中将颜料分散在多种辐射敏感组合物中的着色辐射敏感组合物进行光刻而制造彩色滤光片的方法，并且因为使用颜料，具有对光、热等稳定的益处。位置精度也高，因为图案化通过光刻进行，因此，该方法作为在制造用于大屏幕和高清晰度彩色显示器的彩色滤光片中合适的方法广泛地使用。
然而，近年来，在用于固态成像器件的彩色滤光片中变得越来越需要高清晰度，并且用传统的颜料分散法存在问题，以使得分辨率不能提高并且归因于颜料的粗粒子而出现颜色不规则性。因此，传统的颜料法不适合于其中需要彩色滤光片具有细微图案的应用如固态成像器件。
为了解决这个问题，已经提出了染料的使用，然而，含有染料的辐射敏感组合物具有新的问题(参见，例如，专利文献1)。也就是，(1)普通的染料在或者碱性水溶液或者有机溶液中具有低溶解性，因此，难以获得目标光谱的液体辐射敏感组合物。(2)染料通常显示与辐射敏感组合物中的其他组分的相互作用，因此，难以调节固化区和未固化区的溶解性(可显影性)。(3)当染料的摩尔消光系数(ε)低时，需要加入大量的染料，因为辐射敏感组合物中其他组分如可聚合化合物、粘合剂或光聚合引发剂的量不得不减少，因此导致如降低组合物的固化性质、固化之后的耐热性、未固 化区的可显影性等的问题。(4)染料与颜料比较通常在耐光性和耐热性上不足。
因为该原因，已经提出了数种技术以通过经将染料与具有染料骨架的单体组分聚合而将染料制成染料聚合物，从而提高染料的稳定性。通过将染料聚合，与使用颜料的情况比较，可以提高稳定性并且降低颜色不规则性，然而，关于当将这种着色组合物应用至辐射敏感组合物时的可显影性，仍然存在进一步提高的空间。
同时，提出了其中使用具有酸性基团并且其玻璃化转变温度为100℃至350℃的碱溶性粘合剂的方法，而且，该粘合剂中包含的未反应单体的含量小于或等于3质量％以便提高可显影性并减少残渣(例如，参见JP2004-286810A)。
发明公开内容
技术问题
然而，在上面描述的相关技术中，当形成用于细小尺寸的固态成像器件的实现高分辨率的彩色滤光片时，可显影性是不足的。此外，通过使用染料，即使当尝试形成不具有颜色不规则性的薄膜的细小着色图案时，在基板和其他颜色的像素上也容易出现显影残渣，因此，难以获得高分辨率的彩色滤光片。
换言之，对于具有令人满意的耐热性、不褪色、在着色图像中无颜色不规则性、当应用至辐射敏感组合物时具有优异的可显影性，并且其中获得在基板和其他颜色的像素上没有显影残渣的细小图案的着色组合物和着色辐射敏感组合物的开发，存在强烈的需要。
考虑到以上描述的问题作出本发明，并且本发明的目标是提供一种具有令人满意的耐热性并且不褪色的着色组合物，而且，提供一种具有优异的可显影性并且在基板和其他颜色的像素上不具有显影残渣的着色辐射敏感组合物。
此外，本发明的目标是提供一种具有染料骨架的聚合物的制备方法，一种使用所述着色辐射敏感组合物的图案形成方法，一种彩色滤光片，一种彩色滤光片的制备方法，以及一种固态成像器件。
技术解决方案
用于实现以上目标的方式如下。
＜1＞一种彩色滤光片用着色组合物，所述彩色滤光片用着色组合物包含：(A)具有染料骨架的聚合物和(B)有机溶剂，其中相对于所述(A)具有染料骨架的聚合物，能够形成所述(A)具有染料骨架的聚合物的具有所述染料骨架的未反应单体组分的含量小于或等于1质量％。
＜2＞根据＜1＞所述的彩色滤光片用着色组合物，其中所述(A)具有染料骨架的聚合物是通过在聚合之后进行加热再沉淀制备的。
＜3＞根据＜1＞或＜2＞所述的彩色滤光片用着色组合物，其中所述(A)具有染料骨架的聚合物是通过将聚合中的聚合浓度调节至大于或等于30质量％制备的。
＜4＞一种彩色滤光片用着色辐射敏感组合物，所述彩色滤光片用着色辐射敏感组合物包含：根据＜1＞至＜3＞中的任一项所述的着色组合物；(C)可聚合化合物；和(D)聚合引发剂。
＜5＞一种聚合物的制备方法，其中通过在聚合之后进行加热再沉淀而制备根据＜1＞至＜3＞中的任一项所述的(A)具有染料骨架的聚合物。
＜6＞一种聚合物的制备方法，其中通过将聚合中的聚合浓度调节至大于或等于30质量％而制备根据＜1＞至＜3＞中的任一项所述的(A)具有染料骨架的聚合物。
＜7＞一种图案形成方法，所述图案形成方法包括：其中将根据＜4＞所述的着色辐射敏感组合物涂布到基板上并且形成着色辐射敏感组合物层的步骤；其中将所述着色辐射敏感组合物层以图案形状曝光的步骤；和其中将曝光之后的所述着色辐射敏感组合物层显影的步骤。
＜8＞一种彩色滤光片，所述彩色滤光片包括使用根据＜4＞所述的着色辐射敏感组合物形成的着色膜。
＜9＞一种彩色滤光片的制备方法，所述制备方法包括：其中将根据＜4＞所述的着色辐射敏感组合物涂布到基板上并且形成着色辐射敏感组合物层的步骤；其中将所述着色辐射敏感组合物层以图案形状曝光的步骤；和其中将曝光之后的所述着色辐射敏感组合物层显影并且形成着色图案 的步骤。
＜10＞一种固态成像器件，所述固态成像器件包括根据＜8＞所述的彩色滤光片。
在本发明中，在(A)具有染料骨架的聚合物中，具有所述染料骨架的未反应单体组分的含量小于或等于1质量％，然而，因为考虑到具有所述染料骨架的未反应单体具有低分子量，热运动是容易的并且与聚合物组分比较热分解加速并且作为结果，由加热所致出现褪色，所获得的着色层的色纯度减少，并且获得目标颜色变得困难。据推测这种由加热所致的褪色可以通过将具有所述染料骨架的未反应单体组分的含量抑制为小于或等于1质量％而防止。
而且，对于含有可聚合化合物或聚合引发剂的着色辐射敏感组合物，当具有染料骨架的聚合物中包含的具有所述染料骨架的未反应单体组分大于1质量％时，在显影中在基板和其他颜色的像素上可能出现显影残渣。据推测因为具有所述染料骨架的未反应单体具有低分子量，容易移动到基板(或其他颜色的像素)，并且容易被吸附，因此容易形成残渣。在本发明中，具有令人满意的可显影性的着色辐射敏感组合物可以通过下列方式获得：通过保持具有所述染料骨架的未反应单体组分的单体的含量小于或等于1质量％以抑制残渣的出现。
有益效果
根据本发明，可以提供具有令人满意的耐热性并且不褪色的着色组合物，并且可以提供具有优异的可显影性并且在基板和其他颜色的像素上不具有显影残渣的着色辐射敏感组合物。
还可以提供具有染料骨架的聚合物的制备方法，使用所述着色辐射敏感组合物的图案形成方法，彩色滤光片，彩色滤光片的制备方法，以及固态成像器件。
用于实施本发明的最佳模式
在下文中，将详细描述本发明的着色组合物。
本发明的着色组合物包含(A)具有染料骨架的聚合物和(B)有机溶剂，其中相对于所述(A)具有染料骨架的聚合物，能够形成所述(A)具有染料骨架的聚合物的具有所述染料骨架的未反应单体组分的含量小于或等于1质量％。
将描述构成本发明的着色组合物的(A)具有染料骨架的聚合物和(B)有机溶剂。
此外，在本发明的着色组合物和着色辐射敏感组合物中，术语“全部固体”意指每个着色组合物和着色辐射敏感组合物的全部组成中除了溶剂之外的组分的总质量。
＜(A)具有染料骨架的聚合物＞
在本发明的着色组合物中使用的(A)具有染料骨架的聚合物(在下文中，称为“染料聚合物”)是具有染料骨架的单体单元的聚合物并且包括二聚体、三聚体、多聚体等结构。本发明的(A)具有染料骨架的聚合物关于(A)具有染料骨架的聚合物具有小于或等于1质量％的具有所述染料骨架的未反应单体单元(在下文中，也适当地称为“未反应单体组分”)的含量。相对于具有染料骨架的聚合物，未反应单体组分的含量小于或等于0.8质量％是优选的，并且小于或等于0.4质量％是特别优选的。通过将含量保持在该范围内，当储存具有染料骨架的聚合物时的储存稳定性变得更加令人满意。对未反应单体组分的含量的下限没有特别限定并且不含有未反应单体组分(含量0质量％)是最优选的，然而，考虑到该着色组合物制备上的成本，0.001质量％的下限是优选的并且0.005质量％是更优选的。
本发明中未反应单体组分意指具有染料骨架的单体和具有源自染料的部分结构的单体，并且(A)具有染料骨架的聚合物可以通过将单体聚合获得。
将当合成具有染料骨架的聚合物时余下的未反应单体组分控制为相对于(A)具有染料骨架的聚合物小于或等于1质量％，并且在本发明中使用(A)具有染料骨架的聚合物。
(A)具有染料骨架的聚合物的合成中未反应单体组分的含量控制可以不仅通过选择温度、浓度和搅拌条件，而且通过选择聚合引发剂、链转 移剂等的类型或加入量的条件，也可以通过后面描述的针对所获得的聚合溶液实施加热再沉淀法，或通过选择并组合多个这些方法。
作为用于将具有染料骨架的聚合物中未反应单体组分的含量控制为小于或等于1质量％的方法，使用这样的方法：其中将具有染料骨架的聚合物用有机溶剂加热，未反应单体组分的溶解性通过加热提高，并且因此使得未反应单体组分保持在有机溶剂中，将所获得的聚合物过滤，因为聚合物在有机溶剂中溶解性较低并且聚合物中未反应单体组分的含量减少；或按需要，这样的方法：其中在将具有染料骨架的聚合物用有机溶剂加热之后，将聚合物和有机溶剂的混合物(未反应单体组分溶解)冷却，聚合物沉淀，并且聚合物中未反应单体组分的含量减少；或按需要，这样的方法：其中在将具有染料骨架的聚合物用有机溶剂加热之后，将聚合物和有机溶剂的混合物(未反应单体组分溶解)逐滴加入至其中聚合物的溶解性低并且未反应单体组分的溶解性相对高的不良溶剂中，并且聚合物中未反应单体组分的含量减少(这些方法统称为加热再沉淀方法)；这样的方法：其中将具有染料骨架的聚合物溶解在其中所述聚合物可溶的有机溶剂中，并且将溶液逐滴加入至其中聚合物的溶解性低并且未反应单体组分的溶解性相对高的不良溶剂中，并且使聚合物沉淀(通过不良溶剂的沉淀提纯法)；其中将未反应单体组分的含量通过液体-液体萃取从聚合反应产物减少的方法；其中将未反应单体组分的含量在聚合之后通过蒸馏、水蒸汽蒸馏、减压蒸馏、薄膜蒸馏等减少的方法；以及其中将未反应单体组分的含量使用柱层析减少的方法，其中将未反应单体组分使用超临界流体萃取的方法等。其中，加热再沉淀法是优选的。
当使用通过不良溶剂的加热再沉淀法或沉淀提纯法时，染料聚合物沉淀的温度为优选20至80℃并且更优选40至60℃。此外，相对于可聚合溶液，基于质量，不良溶剂的量为优选5至40分之一的量并且更优选10至20分之一的量。当加热时的搅拌时间为优选0.5至4小时并且更优选1至2小时。
在选择用于不良溶剂的溶剂类型中，任意溶剂是可能的，条件是所获得的聚合物是不溶的并且未反应单体组分是可溶的，然而，选择对聚合物溶液具有高亲和性的溶剂类型是优选的。
这些步骤可以重复数次或作为两个以上的组合使用，以便将具有染料骨架的聚合物中未反应单体组分的含量保持在目标含量。
在加热再沉淀方法中，可以将所获得的聚合物溶解在加热的有机溶剂中，然而，如果聚合物溶液通过加热聚合物溶液而变得均匀，则可以将该溶液按原样使用。
而且，作为所使用的有机溶剂，可以使用任意有机溶剂，条件是聚合物在目标温度均匀地溶解。
作为加热温度，小于或等于有机溶剂的沸点的温度是可接受的。
作为具有染料骨架的聚合物的聚合条件，优选的是聚合进程充分地进行以使得未反应单体组分减少。
该聚合条件中的聚合浓度为相对于聚合溶液的总量优选大于或等于20质量％，并且更优选大于或等于30质量％并且小于或等于50质量％。
在本说明书中，术语聚合浓度意指聚合反应体系(包括溶剂等的反应溶液的总体积)中聚合物组分(意指能够形成聚合物的组分并且也包括链转移剂，条件是可以形成聚合物)的浓度(基于质量)。
当合成染料聚合物时聚合引发剂的量为优选相对于全部单体组分的总摩尔量为5至40mmol％并且更优选10至20mmol％。
聚合溶液的滴加时间为优选1至4小时并且更优选在1至2小时的范围。
作为评价未反应单体组分的含量的方法，可以使用高效液相色谱法(HPLC)或气相色谱法(GC)以测定聚合物中未反应单体组分的含量。
也可以通过其中通过凝胶渗透色谱(GPC)测定低分子量部分的含量的方法进行评价。
也可以通过其中将未反应单体组分分离并且将聚合物使用凝胶渗透色谱(GPC)或柱层析等量化的方法评价。
此外，可以使用其中将未反应单体组分从聚合物分离并且直接量化未反应单体组分的含量的方法。
在本发明中，使用其中使用高效液相色谱法建立单体组分的校准曲线并且使用校准曲线量化未反应单体组分的含量的方法。
在通过凝胶渗透色谱(GPC)的方法中，如果所测量的低分子量部分 (使用聚苯乙烯换算具有1,500至250的重均分子量范围的组分)的含量小于或等于1.0质量％，则在本发明的范围内之内。
在下文中，将详细描述源自染料的部分结构、染料聚合物的优选结构、染料聚合物可以具有的官能团，以及染料聚合物的优选物理性质。
这里，术语“源自染料的部分结构”表示从后面描述的染料骨架移除氢原子后的可以连接至染料聚合物的连接单元(聚合物链，树枝状聚合物的核等)的结构。而且，在本说明书中的基团(原子团)的注解中，其中未写明取代或未取代的注解不仅包括不具有取代基的基团(原子团)也包括具有取代基的基团(原子团)。例如，“烷基”不仅包括不具有取代基的烷基(未取代的烷基)，还包括具有取代基的烷基(取代的烷基)。
(源自染料的部分结构)
对在本发明的着色组合物中使用的(A)具有染料骨架(在下文中，适当地称为“染料结构”)的聚合物没有特别地限定并且可以应用包括公知的染料结构的多种类型。
作为公知的染料结构，可以使用例如源自下列各项的的染料结构：偶氮染料、偶氮次甲基染料(靛苯胺染料、靛酚染料等)、二吡咯甲川染料、醌系染料(苯醌染料、萘醌染料、蒽醌染料、蒽吡啶酮染料等)、碳
染料(二苯基甲烷染料、三苯基甲烷染料、咕吨染料、吖啶染料等)、醌亚胺染料
嗪染料、噻嗪染料等)、吖嗪染料、聚次甲基染料(氧杂菁染料、部花青染料、亚芳基染料、苯乙烯基染料、花青染料、方酸菁染料、克酮
染料等)、喹酞酮(quinophthalone)染料、酞菁染料、亚酞菁染料、芘酮(perinone)染料、靛青染料、硫代靛青染料、喹啉染料、硝基染料、亚硝基染料和金属配合物染料。在这些染料结构中，偶氮染料、二吡咯甲川染料、蒽醌染料、三苯基甲烷染料、咕吨染料、花青染料、方酸菁染料、喹酞酮染料、酞菁染料和亚酞菁染料是特别优选的。
可以形成染料结构的具体的染料化合物描述在“A Dye Handbook，新版”(The Society of Synthetic Organic Chemistry，Japan；Maruzen Company，Limited，1970)，“Color Index”(The Society of Dyers and Colorists)，“APigment Handbook(Okawara等；Kodansha Ltd.)等中。
在本发明中的染料聚合物中，染料结构中的氢原子可以被以下取代基取代。
＜染料聚合物可以具有的取代基＞
作为染料聚合物可以具有的取代基，可以包括卤素原子、烷基、环烷基、烯基、环烯基、炔基、芳基、杂环基、氰基、羟基、硝基、羧基、烷氧基、芳氧基、硅烷氧基、杂环氧基、酰氧基、氨基甲酰氧基、氨基(包括烷基氨基和苯胺基)、酰基氨基、氨基羰基氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、氨磺酰氨基、烷基-或芳基磺酰氨基、巯基、烷基硫基、芳基硫基、杂环硫基、氨磺酰基、磺基、烷基-或芳基亚磺酰基、烷基-或芳基磺酰基、酰基、芳氧基羰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、芳基-或杂环偶氮基、亚氨基、膦基、氧膦基、氧膦基氧基、氧膦基氨基、硅烷基等。
对于取代基中具有氢原子的那些，取代基中的氢原子可以被上面描述的任意基团取代。可以作为取代基引入的基团的实例可以包括：烷基羰基氨基磺酰基、芳基羰基氨基磺酰基、烷基磺酰基氨基羰基或芳基磺酰基氨基羰基，并且具体地，可以包括甲磺酰基氨基羰基、对甲磺酰基氨基羰基、乙酰基氨基磺酰基或苯甲酰基氨基磺酰基。
将详细描述特别优选的染料骨架。
＜二吡咯甲川＞
作为本发明的(A)具有染料骨架的聚合物的染料骨架结构，包含由二吡咯甲川化合物和金属或金属化合物获得的二吡咯甲川化合物或二吡咯甲川金属配合物的结构是优选的。
作为包含二吡咯甲川金属配合物的结构，包含从由下列通式(M)表示的二吡咯甲川化合物和金属或金属化合物获得的二吡咯甲川金属配合物和其互变异构体的结构是优选的，并且其中，可以包括包含由下列通式(7)表示的二吡咯甲川金属配合物的结构或源自由下列通式(8)表示的二吡咯甲川金属配位化合物的染料结构作为优选的方面，并且由下列通式(8)表示的染料结构是最优选的。
[包含由下列通式(M)表示的二吡咯甲川化合物和金属或金属化合物获得的二吡咯甲川金属配合物和其互变异构体的结构]
本发明的染料结构的一个优选方面是包含其中由下列通式(M)表示的化合物(二吡咯甲川化合物)或其互变异构体与金属或金属化合物配位的配合物(在下文中，适当地称为“特定配合物”)作为染料部分的染料结构。
而且，在本发明中，将包含二吡咯甲川结构的化合物称为二吡咯甲川化合物，并且将其中包含二吡咯甲川结构的化合物与金属或金属配合物配位的配合物称为二吡咯甲川金属配位化合物。
[化学式1]
在通式(M)中，R4至R10各自独立地表示氢原子或单价取代基。然而，不存在其中R4和R9彼此连接以形成环的情况。
当将由通式(M)表示的二吡咯甲川金属配位化合物引入至后面描述的由通式(A)至通式(C)表示的结构单元、由通式(D)表示的聚合物或由通式(1)表示的单体时，对引入位点没有特别地限定，然而，在合成适合性的方面，在R4至R9的任一个位点引入是优选的，在R4、R6、R7和R9的任一个引入是更优选的，并且在R4和R9中的任一个引入是再更优选的。
作为在其中通式(M)中的R4至R9表示单价取代基的情况下的单价取代基，可以包括在取代基的上面部分中描述的取代基。
如果通式(M)中作为R4至R9表示的单价取代基是可以进一步被取代的基团，则它可以还具有R4至R9中描述的取代基，并且当存在两个以上取代基时，这些取代基可以彼此相同或不同。
通式(M)中的R4和R5，R5和R6，R7和R8以及R8和R9各自独立地彼此连接并可以形成五元、六元或七元饱和环或不饱和环。然而，不存在其中R4和R9彼此连接以形成环的情况。如果所形成的五元、六元或七元环可以进一步被取代，则它可以被R4至R9中描述的取代基取代，并且当存在两个以上取代基时，这些取代基可以彼此相同或不同。
当通式(M)中的R4和R5，R5和R6，R7和R8以及的R8和R9各自独立地彼此连接并且形成不具有取代基的五元、六元或七元饱和环或不饱和环时，作为不具有取代基的五元、六元或七元饱和环或不饱和环，例如，可以包括吡咯环、呋喃环、噻吩环、吡唑环、咪唑环、三唑环、
唑环、噻唑环、吡咯烷环、哌啶环、环戊烯环、环己烯环、苯环、吡啶环、吡嗪环、哒嗪环等，并且优选地，可以包括苯环或吡啶环。
在通式(M)中，R10优选表示氢原子、卤素原子、烷基、芳基或杂环基，并且卤素原子、烷基、芳基或杂环基与对R4至R9的取代基的描述相同并且优选的范围也相同。
如果在其中R10表示烷基、芳基或杂环基的情况下的所述烷基、芳基或杂环基可以进一步被取代，则它可以被在R4至R9中作为单价取代基描述的取代基取代，并且当存在两个以上取代基时，这些取代基可以彼此相同或不同。
～金属或金属化合物～
本发明中的特定配合物是其中上面描述的由通式(M)表示的化合物或其互变异构体与金属或金属化合物配位的配合物。
这里，作为金属或金属化合物，可以使用可以形成配合物的任意金属或金属配合物，并且包括二价金属原子、二价金属氧化物、二价金属氢氧化物或二价金属氯化物。作为金属或金属化合物，例如，除了Zn、Mg、Si、Sn、Rh、Pt、Pd、Mo、Mn、Pb、Cu、Ni、Co、Fe等之外，包括金属氯化物如AlCl、InCl、FeCl、TiCl2、SnCl2、SiCl2或GeCl2，金属氧化物如TiO或VO，或金属氢氧化物如Si(OH)2。
其中，从配合物稳定性、光谱特征、耐热性、耐光性、制备适合性等的角度，Fe、Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Mo、Mn、Cu、Ni、Co、TiO或VO 是优选的，Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Cu、Ni、Co或VO是更优选的，并且Zn是最优选的。
接下来，将描述由本发明中的通式(M)表示的化合物的特定配合物的更优选范围。
作为本发明中的特定配合物的优选范围，在通式(M)中，R4和R9各自独立地表示氢原子、烷基、烯基、芳基、杂环基、硅烷基、羟基、氰基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、氨基、苯胺基、杂环氨基、碳酰胺基、脲基、亚氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰胺基、偶氮基、烷基硫基、芳基硫基、杂环硫基、烷基磺酰基、芳基磺酰基或膦酰基氨基；R5和R8各自独立地表示氢原子、卤素原子、烷基、烯基、芳基、杂环基、羟基、氰基、硝基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、亚胺基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基、偶氮基、烷基硫基、芳基硫基、杂环硫基、烷基磺酰基、芳基磺酰基或氨磺酰基；R6和R7各自独立地表示氢原子、卤素原子、烷基、烯基、芳基、杂环基、硅烷基、羟基、氰基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、苯胺基、碳酰胺基、脲基、亚胺基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基、偶氮基、烷基硫基、芳基硫基、杂环硫基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、氨磺酰基或膦酰基氨基；R10表示氢原子、卤素原子、烷基、芳基或杂环基，并且金属或金属化合物在Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Mo、Mn、Cu、Ni、Co、TiO或V=O的范围内。
作为本发明中的具体配合物的更优选范围，在通式(M)中，R4至R9各自独立地表示氢原子、烷基、烯基、芳基、杂环基、氰基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、氨基、杂环氨基、碳酰胺基、脲基、亚胺基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰胺基、偶氮基、烷基磺酰基、芳基磺酰基或膦酰基氨基；R5和R8各自独立地表示烷基、烯基、芳基、杂环基、氰基、硝基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、亚胺基、烷基磺酰基、芳基磺酰基或氨磺酰基；R6和R7各自独立地表示氢原子、烷基、烯基、芳基、杂环基、氰基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、碳酰胺基、脲基、亚胺基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基、烷基硫基、芳基硫基、杂环硫基、烷基磺酰基、芳基磺酰基或氨磺酰基；R10表示氢原子、卤素 原子、烷基、芳基或杂环基，并且金属或金属化合物在Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Cu、Ni、Co或V=O的范围内。
作为本发明中的特定配合物的特别优选的范围，在通式(M)中，R4至R9各自独立地表示氢原子、烷基、芳基、杂环基、氨基、杂环氨基、碳酰胺基、脲基、亚胺基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基、偶氮基、烷基磺酰基、芳基磺酰基或膦酰基氨基；R5和R8各自独立地表示烷基、芳基、杂环基、氰基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、烷基磺酰基或芳基磺酰基；R6和R7各自独立地表示氢原子、烷基、芳基或杂环基；R10表示氢原子、烷基、芳基或杂环基，并且金属或金属化合物在Zn、Cu、Co或V=O的范围内。
此外，下面详细描述的由通式(7)或通式(8)表示的方面也是特别优选的方面。
[包含由通式(7)表示的二吡咯甲川金属配合物的结构]
本发明的染料结构的一个方面是包括由下列通式(7)表示的二吡咯甲川金属配合物的结构。
[化学式2]
在通式(7)中，R4至R9各自独立地表示氢原子或取代基，并且R10表示氢原子、卤素原子、烷基、芳基或杂环基。Ma表示金属原子或金属配合物。X1表示可以连接至Ma的基团，X2表示中和Ma的电荷的基团，并且X1和X2彼此连接并且可以与Ma形成五元、六元或七元环。然而，不存在其中R4和R9彼此连接以形成环的情况。
包含由下列通式(7)表示的二吡咯甲川金属配合物的结构也包括互变异构体。
当将包含由通式(7)表示的二吡咯甲川金属配合物的结构引入至后面描述的由通式(A)至通式(C)表示的结构单元、由通式(D)表示的聚合物或由通式(1)表示的单体时，对引入位点没有特别地限定，然而，在合成适合性方面，在R4至R9中的任一个位点引入是优选的，在R4、R6、R7和R9的任一个引入是更优选的，并且在R4和R9中的任一个引入是再更优选的。
作为将碱溶性基团引入至本发明的染料结构的方法，由通式(7)表示的二吡咯甲川金属配合物中R4至R10、X1和X2中的任一个或两个以上取代基可以具有碱溶性基团。在这些取代基中，R4至R9和X1的任一个是优选的，R4、R6、R7和R9中的任一个是更优选的，并且R4和R9中的任一个是再更优选的。
包含由通式(7)表示的二吡咯甲川金属配合物的结构除了碱溶性基团之外可以具有其他官能团，条件是不影响本发明的效果。
通式(7)中的R4至R9与通式(M)中的R4至R9是相同的，并且优选的方面也是相同的。
在通式(7)中，Ma表示金属原子或金属化合物。作为金属原子或金属化合物，可以使用可以形成配合物的任意金属原子或金属配合物并且包括二价金属原子、二价金属氧化物、二价金属氢氧化物或二价金属氯化物。
例如，包括Zn、Mg、Si、Sn、Rh、Pt、Pd、Mo、Mn、Pb、Cu、Ni、Co、Fe等，金属氯化物如AlCl、InCl、FeCl、TiCl2、SnCl2、SiCl2或GeCl2，金属氧化物如TiO或V=O，或金属氢氧化物如Si(OH)2。
其中，从配合物稳定性、光谱特征、耐热性、耐光性、制备适合性等的角度，Fe、Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Mo、Mn、Cu、Ni、Co、TiO或V=O是优选的，Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Cu、Ni、Co或VO是更优选的，Zn、Co、V=O和Cu是特别优选的，并且Zn是最优选的。
而且，在通式(7)中，R10表示氢原子、卤素原子、烷基、芳基或杂环基并且优选氢原子。
在通式(7)中，X1可以是可以连接至Ma的任意基团，并且具体地，可以包括水、醇，(例如，甲醇、乙醇或丙醇)，等，此外，可以包括“Metal Chelates”([1]Sakaguchi Takeichi，Ueno Keihei(1995，Nankodo Co.，Ltd.)， [2](1996)，[3](1997)等)中描述的化合物。其中，从制备的角度，水、羧酸化合物或醇是优选的，并且水或羧酸化合物是更优选的。
在通式(7)中，作为由X2表示的“中和Ma的电荷的基团”，例如，可以包括卤素原子、羟基、羧酸基、磷酸基、磺酸基等，并且其中，从制备的角度，卤素原子、羟基、羧酸基或磺酸基是优选的，并且羟基或羧酸基是更优选的。
在通式(7)中，X1和X2彼此连接并可以与Ma形成五元、六元或七元环。所形成的五元、六元或七元环可以是饱和环或不饱和环。此外，五元、六元或七元环可以仅由碳原子组成，也可以形成具有选自氮原子、氧原子或/和硫原子的至少一种原子的杂环。
作为由通式(7)表示的化合物的优选的方面，其中R4至R9各自独立地如R4至R9的说明中所描述的方面是优选的，其中R10如R10的说明中所描述的方面是优选的，Ma是Zn、Cu、Co或V=O，X1是水或羧酸化合物，X2是羟基或羧酸基，并且X1和X2彼此连接并且可以形成五元或六元环。
[包含由通式(8)表示的二吡咯甲川金属配合物的结构]
在本发明的着色辐射敏感组合物中使用的染料结构的一个方面是包含由下列通式(8)表示的二吡咯甲川金属配合物的结构。
[化学式3]
在通式(8)中，R11和R16各自独立地表示烷基、烯基、芳基、杂环基、烷氧基、芳氧基、烷基氨基、芳基氨基或杂环氨基。R12至R15各自独立地表示氢原子或取代基。R17表示氢原子、卤素原子、烷基、芳基或杂环基。Ma表示金属原子或金属化合物。X2和X3各自独立地表示NR(R表 示氢原子、烷基、烯基、芳基、杂环基、酰基、烷基磺酰基或芳基磺酰基)、氮原子、氧原子或硫原子。Y1和Y2各自独立地表示NRc(Rc表示氢原子、烷基、烯基、芳基、杂环基、酰基、烷基磺酰基或芳基磺酰基)、氮原子或碳原子。R11和Y1彼此连接并且可以形成五元、六元或七元环，并且R16和Y2彼此连接并且可以形成五元、六元或七元环。X1是可以连接至Ma的基团并且a表示0、1或2。
由下列通式(8)表示的包含二吡咯甲川金属配合物的结构也包括互变异构体。
当将由通式(8)表示的包含二吡咯甲川金属配合物的结构引入至后面描述的由通式(A)至通式(C)表示的结构单元、由通式(D)表示的聚合物或由通式(1)表示的单体时，对引入位点没有特别地限定，条件是不影响本发明的效果，然而，在R11至R17，X1，Y1至Y2中的任一个引入是优选的。其中，在合成适合性的方面，在R11至R16和X1中的任一个引入是优选的，在R11、R13、R14和R16中的任一个插入的方面是更优选的，并且在R11和R16中的任一个插入的方面是再更优选的。
作为将碱溶性基团引入至本发明的染料结构的方法，当使用具有碱溶性基团的染料单体或结构单元时，由通式(8)表示的二吡咯甲川金属配合物中R11至R17、X1和Y1至Y2中的任一个或两个以上取代基可以具有碱溶性基团。在这些取代基中，R11至R16和X1中的任一个是优选的，R11、R13、R14和R16中的任一个是更优选的，并且R11和R16中的任一个是再更优选的。
包含由通式(8)表示的二吡咯甲川金属配合物的结构可以具有除了碱溶性基团之外的其他官能团，条件是不影响本发明的效果。
R12至R15与通式(M)中的R5至R8相同并且优选的方面也相同。R17与通式(M)中的R10相同并且优选的方面也相同。Ma与通式(7)中的Ma相同并且优选的范围也相同。
更具体地，作为通式(8)中的R12至R15中的R12和R15，烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、腈基、亚胺基或氨基甲酰基磺酰基是优选的，烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、烷基磺酰基、腈基、亚胺基或氨基甲酰基磺酰基是更优选的，烷氧基羰基、芳 氧基羰基、氨基甲酰基、腈基、亚胺基或氨基甲酰基磺酰基是再更优选的，并且烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基是特别优选的。
作为R13和R14，取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的芳基或取代的或未取代的杂环基是优选的，并且取代的或未取代的烷基或取代的或未取代的芳基是更优选的。这里，更优选的烷基、芳基和杂环基的具体实例与对于通式(M)中的R6和R7列出的具体实例相同。
在通式(8)中，R11和R16表示烷基(优选具有1至36个碳原子，更优选具有1至12个碳原子的具有直链、支链或环结构的烷基，并且，例如，甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、己基、2-乙基己基、十二烷基、环丙基、环戊基、环己基，或1-金刚烷基)、烯基(优选具有2至24个碳原子，更优选具有2至12个碳原子的烯基，并且，例如，乙烯基、烯丙基或3-丁烯-1-基)、芳基(优选具有6至36个碳原子，更优选具有6至18个碳原子的芳基，并且，例如，苯基或萘基)、杂环基(优选具有1至24个碳原子，更优选具有1至12个碳原子的杂环基，并且例如，2-噻吩基、4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、2-吡啶基、2-苯并噻唑基、1-咪唑基、1-吡唑基或苯并三唑-1-基)、烷氧基(优选具有1至36个碳原子，更优选具有1至18个碳原子的烷氧基，并且，例如，甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、己氧基、2-乙基己氧基、十二烷氧基或环己氧基)、芳氧基(优选具有6至24个碳原子，更优选具有6至18个碳原子的芳氧基，并且，例如，苯氧基或萘氧基)、烷基氨基(优选具有1至36个碳原子，更优选具有1至18个碳原子的烷基氨基，并且，例如，甲基氨基、乙基氨基、丙基氨基、丁基氨基、己基氨基、2-乙基己基氨基、异丙基氨基、叔丁基氨基、叔辛基氨基、环己基氨基、N，N-二乙基氨基、N，N-二丙基氨基、N，N-二丁基氨基或N-甲基-N-乙基氨基)、芳基氨基(优选具有6至36个碳原子，更优选具有6至18个碳原子的芳基氨基，并且，例如，苯基氨基、萘基氨基、N，N-二苯基氨基或N-乙基-N-苯基氨基)或杂环氨基(优选具有1至24个碳原子，更优选具有1至12个碳原子的杂环氨基，并且，例如，2-氨基吡咯基、3-氨基吡唑基、2-氨基吡啶基或3-氨基吡啶基)。
作为R11和R16，在以上中，烷基、烯基、芳基、杂环基、烷基氨基、芳基氨基或杂环氨基是优选的，烷基、烯基、芳基或杂环基是更优选的， 烷基、烯基或芳基是更优选的，并且烷基是特别优选的。
如果通式(8)中的R11和R16的烷基、烯基、芳基、杂环基、烷氧基、芳氧基、烷基氨基、芳基氨基或杂环氨基是可以进一步被取代的基团，则它可以被作为后面描述的通式(1)中的R1的取代基描述的取代基取代，并且当存在两个以上取代基时，这些取代基可以彼此相同或不同。
在通式(8)中，X2和X3各自独立地表示NR、氮原子、氧原子或硫原子。这里，R表示氢原子、烷基(优选具有1至36个碳原子，更优选具有1至12个碳原子的具有直链、支链或环结构的烷基，并且，例如，甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、己基、2-乙基己基、十二烷基、环丙基、环戊基、环己基或1-金刚烷基)、烯基(优选具有2至24个碳原子，更优选具有2至12个碳原子的烯基，并且，例如，乙烯基、烯丙基或3-丁烯-1-基)、芳基(优选具有6至36个碳原子，更优选具有6至18个碳原子的芳基，并且，例如，苯基或萘基)、杂环基(优选具有1至24个碳原子，更优选具有1至12个碳原子的杂环基，并且，例如，2-噻吩基、4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、1-吡啶基、2-苯并噻唑基、1-咪唑基、1-吡唑基或苯并三唑-1-基)、酰基(优选具有1至24个碳原子，更优选具有2至18个碳原子的酰基，并且，例如，乙酰基、特戊酰基、2-乙基己基、苯甲酰基或环己酰基)、烷基磺酰基(优选具有1至24个碳原子，更优选具有1至18个碳原子的烷基磺酰基，并且，例如，甲磺酰基、乙基磺酰基、异丙基磺酰基或环己基磺酰基)或芳基磺酰基(优选具有6至24个碳原子，更优选具有6至18个碳原子的芳基磺酰基，并且，例如，苯磺酰基或萘基磺酰基)。
在通式(8)中，Y1和Y2各自独立地表示NRc、氮原子或碳原子，Rc与X2和X3的R相同，并且优选的方面也相同。
在通式(8)中，R11和Y1彼此连接并且可以与碳原子形成五元环(例如，环戊烷环、吡咯烷环、四氢呋喃环、二氧戊环环、四氢噻吩环、吡咯环、呋喃环、噻吩环、吲哚环、苯并呋喃环或苯并噻吩环)、六元环(例如，环己烷环、哌啶环、哌嗪环、吗啉环、四氢吡喃环、二
烷环、五亚甲基硫化物环、二噻烷环、苯环、哌啶环、哌嗪环、哒嗪环、喹啉环或喹唑啉环)或七元环(例如，环庚烷环或六亚甲基亚胺环)。
在通式(8)中，R16和Y2彼此连接并且可以与碳原子形成五元环(例如，环戊烷环、吡咯烷环、四氢呋喃环、二氧戊环环、四氢噻吩环、吡咯环、呋喃环、噻吩环、吲哚环、苯并呋喃环或苯并噻吩环)、六元环(例如，环己烷环、哌啶环、哌嗪环、吗啉环、四氢吡喃环、二烷环、五亚甲基硫化物环、二噻烷环、苯环、哌啶环、哌嗪环、哒嗪环、喹啉环或喹唑啉环)或七元环(例如，环庚烷环或六亚甲基亚胺环)。
如果通式(8)中由R11和Y1，以及R16和Y2连接形成的五元、六元和七元环是可以进一步被取代的基团，则它们可以被作为后面描述的通式(1)中的R1的取代基描述的取代基取代，并且当存在两个以上取代基时，那些取代基可以彼此相同或不同。
在通式(8)中，R11和R16各自独立地是具有优选1.5以上，更优选2.0以上，再更优选3.5以上，并且特别优选5.0以上的作为空间参数的-E值的单价取代基。
这里，术语空间参数-E值是表示取代基空间庞大性的参数，并且使用描述在文献(JA.Macphee，等，Tetrahedron，第34卷，第3553-3562页，Chemistry Special Edition107，Chemical Structure-Activity Correlation and Drug Design，由Fujita Minorubu编辑，1986年2月20日出版(Kagaku Dojin))中的-E值。
在通式(8)中，X1是可以连接至Ma的基团并且具体地，是与通式(7)中的X1相同的基团并且优选的方面也相同。a表示0、1或2。
作为由通式(8)表示的包含二吡咯甲川金属配合物的结构的优选方面，其中R12至R15各自独立地与在通式(M)中的R5至R8的说明中所描述的相同的方面是优选的，其中R17与在通式(M)中的R10的说明中描述的相同的方面是优选的，Ma是Zn、Cu、Co或V=O，X2是NR(R是氢原子或烷基)、氮原子或氧原子，X3是NR(R是氢原子或烷基)或氧原子，Y1是NPc(Rc表示氢原子或烷基)，氮原子或碳原子，Y2是氮原子或碳原子，R11和R16各自独立地表示烷基、芳基、杂环基、烷氧基或烷基氨基，X1是通过氧原子连接的基团，a是0或1，并且R11和Y1彼此连接并且可以形成五元或六元环或者R16和Y2彼此连接并且可以形成五元或六元环。
作为由通式(8)表示的包含二吡咯甲川金属配合物的结构的更优选方 面，其中R12至R15各自独立地与在由通式(M)表示的化合物中R5至R8的说明中描述的相同的方面是优选的，其中R17与在通式(M)中的R10的说明中描述的相同的方面是优选的，Ma是Zn，X2和X3是氧原子，Y1是NH，Y2是氮原子，R11和R16各自独立地表示烷基、芳基、杂环基、烷氧基或烷基氨基，X1是通过氧原子连接的基团，a是0或1，并且R11和Y1彼此连接并且可以形成五元或六元环或者R16和Y2彼此连接并且可以形成五元或六元环。
从着色力的角度，包含由通式(7)和通式(8)表示的二吡咯甲川金属配合物的结构的摩尔消光系数优选尽可能高。而且，从色纯度提高的角度，作为最大吸收波长的λmax为优选520nm至580nm并且更优选530nm至570nm。当将该范围内的结构应用至着色组合物等时，可以制造具有令人满意的色彩再现性的彩色滤光片。此外，相对于本发明的染料聚合物在450nm处的吸光度，最大吸收波长(λmax)优选大于或等于1,000倍，更优选大于或等于10,000倍，再更优选大于或等于100,000倍。通过将该比例保持在该范围内，当将本发明中的染料聚合物应用至着色组合物等时和特别是当制造蓝色滤光片时，可以形成具有更高透射率的彩色滤光片。最大吸收波长和摩尔消光系数也使用分光光度计Cary5(由Varian，Inc.制造)测量。
从溶解性的角度，包含由通式(7)和通式(8)表示的二吡咯甲川金属配合物的结构的熔点最好不过高。
由通式(7)和通式(8)表示的二吡咯甲川金属配位化合物可以通过US4774339A、US5433896A、JP2001-240761A、JP2002-155052A、JP3614586B，Aust.J.Chem.，1965，11，1835-1845，J.H.Boger等，Heteroatom Chemistry，第1卷，第5期，389(1990)等公开的方法合成。具体地，可以应用JP2008-292970A的第0131至0157段中公开的方法。
二吡咯甲川染料的具体实例如下所示，然而，本发明不限于这些。
[化学式4]
[化学式5]
＜偶氮染料＞
关于本发明的染料聚合物的一个方面是包含源自以下偶氮化合物的结构作为染料部分的部分结构的染料聚合物。本发明中的偶氮化合物是在 分子内具有包含N=N的染料部分的化合物的集合术语。作为偶氮染料，可以适当地使用公知的偶氮染料(例如，取代的偶氮苯(作为具体实例，后面描述的(AZ-4)至(AZ-6)等)，然而，通式(D)、(E)、(F)、(G)、(I)和(V)是特别优选的。
-品红染料-
作为品红染料，适宜使用由下列通式(9)表示的偶氮染料。
[化学式6]
在通式(9)中，R1至R4各自独立地表示氢原子、烷基、烯基、芳基、杂环基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、烷基磺酰基或芳基磺酰基，A表示芳基或芳族杂环基，Z1至Z3各自独立地表示-C(R5)=或-N=，并且R5表示氢原子或取代基。
详细描述通式(9)的每个取代基。
在通式(9)中，R1至R4各自独立地表示氢原子、烷基(优选具有1至36个碳原子，更优选具有1至12个碳原子的具有直链、支链或环结构的烷基，并且，例如，甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、己基、2-乙基己基、十二烷基、环丙基、环戊基、环己基或1-金刚烷基)、烯基(优选具有2至24个碳原子，更优选具有2至12个碳原子的烯基，并且，例如，乙烯基、烯丙基或3-丁烯-1-基)、芳基(优选具有6至36个碳原子，更优选具有6至18个碳原子的芳基，并且，例如，苯基或萘基)、杂环基(优选具有1至24个碳原子，更优选具有1至12个碳原子的杂环基，并且，例如，2-噻吩基、4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、1-吡啶基、2-苯并噻唑基、1-咪唑基、1-吡唑基或苯并三唑-1-基)、酰基(优选具有1至24个碳原子，更优选具有2至18个碳原子的酰基，并且，例如，乙酰 基、特戊酰基、2-乙基己基、苯甲酰基或环己酰基)、烷氧基羰基(优选具有1至10个碳原子，更优选具有1至6个碳原子的烷氧基羰基，并且，例如，甲氧基羰基或乙氧基羰基)、芳氧基羰基(优选具有6至15个碳原子，更优选具有6至10个碳原子的芳氧基羰基，并且，例如，苯氧基羰基)、氨基甲酰基(优选具有1至8个碳原子，更优选具有2至6个碳原子的氨基甲酰基，并且，例如，二甲基氨基甲酰基)、烷基磺酰基(优选具有1至24个碳原子，更优选具有1至18个碳原子的烷基磺酰基，并且，例如，甲基磺酰基、乙基磺酰、异丙基磺酰基或环己基磺酰基)或芳基磺酰基(优选具有6至24个碳原子，更优选具有6至18个碳原子的芳基磺酰基，并且，例如，苯磺酰基或萘基磺酰基)。
R1和R3优选各自独立地表示烷基、烯基、芳基或杂环基。R2和R4优选各自独立地表示氢原子或烷基。
如果R1至R4是可以被取代的基团，例如，它可以被上面的取代基部分中描述的取代基取代，并且当存在两个以上取代基时，这些取代基可以彼此相同或不同。
R1和R2，R1和R5(当Z1或Z2是-C(R5)=时)，R3和R4，以及R3和R5(当Z1是-C(R5)=时)彼此连接并且可以形成五元或六元环。
Z1至Z3各自独立地表示-C(R5)=，或-N=，并且R5表示氢原子或取代基。作为R5的取代基，例如，可以包括上面的取代基部分描述的取代基。如果R5的取代基是可以进一步被取代的基团，则它们可以被上面的取代基部分描述的取代基取代并且当存在两个以上取代基时，那些取代基可以彼此相同或不同。
作为Z1至Z3，优选的是Z1是-N=，Z2是-C(R5)=或-N=，并且Z3是-C(R5)=。更优选地，Z1是-N=，并且Z2和Z3是-C(R5)=。
A表示芳基或芳族杂环基。A的芳基和芳族杂环基也可以具有，例如，上面的取代基部分描述的取代基并且当存在两个以上取代基时，那些取代基可以彼此相同或不同。
A优选为芳族杂环基。更优选地，可以包括咪唑环、吡唑环、三唑环、噻唑环、唑环、1，2，4-噻二唑环、1，3，4-噻二唑环、吡啶环、嘧啶环、吡嗪环、苯并吡唑环、苯并噻唑环等。
在通式(9)中，对在聚合(染料聚合物的合成)中涉及的可聚合基团的引入位点没有特别地限定，然而，在合成适合性的方面，在R1、R2和A的任一个、两个以上位点引入是优选的，并且在R1和/或A引入是更优选的。
由通式(9)表示的偶氮染料更优选由通式(10)表示。
[化学式7]
在通式(10)中，R1至R4与通式(9)中的那些相同并且优选的范围也相同。Ra表示具有作为0.2以上的哈米特取代基常数的σp值的吸电子基团并且Rb表示氢原子或取代基。Rc表示烷基、烯基、芳基、杂环基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、烷基磺酰基或芳基磺酰基。
作为Rb的取代基，例如，可以包括上面的取代基部分描述的取代基。
由下列通式(E)表示的偶氮染料适合用作品红染料。
在通式(E)中，R11至R16各自独立地表示氢原子或单价取代基。R11和R12，以及R15和R16各自独立地彼此连接并且可以形成环。
详细描述通式(E)中的每个取代基。
R11至R16各自独立地表示氢原子或单价取代基。单价取代基可以包含，例如，卤素原子、具有1至30个碳原子的烷基(这里，意指包括环烷基和双环烷基的饱和脂族基团)、具有2至30个碳原子的烯基(这里，意指包括环烯基和双环烯基的具有双键的不饱和脂族基团)、具有2至30个 碳原子的炔基、具有6至30个碳原子的芳基、具有3至30个碳原子的杂环基、氰基、具有1至30个碳原子的脂族氧基、具有6至30个碳原子的芳氧基、具有2至30个碳原子的酰氧基、具有1至30个碳原子的氨基甲酰氧基、具有2至30个碳原子的脂族氧基羰基氧基、具有7至30个碳原子的芳氧基羰基氧基、具有0至30个碳原子的氨基(包括烷基氨基、苯胺基和杂环氨基)、具有2至30个碳原子的酰基氨基、具有1至30个碳原子的氨基羰基氨基、具有2至30个碳原子的脂族氧基羰基氨基、具有7至30个碳原子的芳氧基羧基氨基、具有0至30个碳原子的氨磺酰氨基、具有1至30个碳原子的烷基-或芳基氨基磺酰氨基、具有1至30个碳原子的烷基硫基、具有6至30个碳原子的芳基硫基、具有0至30个碳原子的氨磺酰基、具有1至30个碳原子的烷基-或芳基亚磺酰基、具有1至30个碳原子的烷基-或芳基磺酰基、具有2至30个碳原子的酰基、具有6至30个碳原子的芳氧基羰基、具有2至30个碳原子的脂族氧基羰基、具有1至30个碳原子的氨基甲酰基、具有3至30个碳原子的芳基-或杂环偶氮基，或酰胺基，并且每个基团可以还具有取代基。
R11和R12优选各自独立地是氢原子、杂环、氰基，并且更优选氰基。
R13和R14优选各自独立地是氢原子、取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的芳基，并且更优选取代的或未取代的烷基。
R15和R16优选各自独立地是氢原子、取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的芳基，并且更优选取代的或未取代的烷基。
在通式(E)中，对聚合(染料聚合物的合成)中涉及的可聚合基团的引入位点没有特别地限定，然而，在合成适合性的方面，在R13、R15和R16的任意一个、两个以上位点引入是优选的，在R13和/或R15引入是更优选的，并且在R13引入是再更优选的。
-黄色染料-
作为黄色染料，由下列通式(G)、(I-1)、(I-2)和(V)表示的偶氮染料(还包括其互变异构体)是合适的。
[化学式9]
在通式(G)中，R34表示氢原子或取代基，R35表示氢原子、烷基、烯基、芳基、杂环基、酰基、烷氧基羰基或氨基甲酰基。Z30和Z31各自独立地表示-C(R36)=或-N=，并且R36表示氢原子或取代基。A31表示芳基或芳族杂环基。
详细描述通式(G)的每个取代基。
R34表示氢原子或取代基并且与通式(F)中的R30相同，并且优选的方面也相同。
R35表示氢原子、烷基(优选具有1至36的碳原子数，更优选具有1至12个碳原子的具有直链、支链或环结构的烷基，并且，例如，甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、己基、2-乙基己基、十二烷基、环丙基、环戊基、环己基或1-金刚烷基)、烯基(优选具有2至24个碳原子，更优选具有2至12个碳原子的烯基，并且，例如，乙烯基、烯丙基或3-丁烯-1-基)、芳基(优选具有6至36个碳原子，更优选具有6至18个碳原子的芳基，并且例如，苯基或萘基)、杂环基(优选具有1至24个碳原子，更优选具有1至12个碳原子的杂环基，并且，例如，2-噻吩基、4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、1-吡啶基、2-苯并噻唑基、1-咪唑基、1-吡唑基或苯并三唑-1-基)、酰基(优选具有1至24个碳原子，更优选具有2至18个碳原子的酰基，并且，例如，乙酰基、特戊酰基、2-乙基己基、苯甲酰基或环己酰基)、烷氧基羰基(优选具有1至10个碳原子，更优选具有1至6个碳原子的烷氧基羰基，并且，例如，甲氧基羰基或乙氧基羰基)或氨基甲酰基(优选具有1至10个碳原子，更优选具有1至6个碳原子的氨基甲酰基，并且，例如，N，N-二甲基氨基甲酰基)。
Z30和Z31各自独立地表示-C(R36)=或-N=，并且R36表示氢原子或取代基。作为R36的取代基，例如，可以包括上面的取代基部分描述的取代基。如果R36的取代基是可以进一步被取代的基团，它们可以被上面的取代基部分描述的取代基取代，并且当存在两个以上取代基时，那些取代基可以彼此相同或不同。
作为Z30和Z31，优选地，Z30是-N=并且Z31是-C(R36)=。
A31与通式(9)中的A相同并且在优选的方面也相同。
在通式(G)中，对聚合(染料聚合物的合成)中涉及的可聚合基团的引入位点没有特别地限定，然而，在合成适合性的方面，在R34和/或A31引入是优选的。
[化学式10]
通式(I-1)和通式(I-2)中的Ri1、Ri2和Ri3各自独立地表示取代基。a表示0至5的整数。如果a大于或等于2，相邻的两个Ri1连接并且可以形成稠合环。b和c各自独立地表示0至4的整数。如果b和c大于或等于1，相邻的两个Ri1连接并且可以形成稠合环。
A32表示通式(IA)、通式(IB)和通式(IC)。
[化学式11]
在通式(IA)中，R42表示氢原子、烷基或芳基。R43表示取代基。R44表示氢原子、烷基或芳基。
[化学式12]
在通式(IB)中，R44和R45各自独立地表示氢原子、烷基或芳基。T表示氧原子或硫原子。
[化学式13]
在通式(IC)中，R46表示氢原子、烷基或芳基。R47表示取代基。
作为通式(I-1)和通式(I-2)的Ri1、Ri2和Ri3表示的取代基，可以包括上面的取代基部分描述的取代基，并且可以包括特别是，烷基(优选具有1至10个碳原子，更优选具有1至5个碳原子的具有直链、支链或环结构的烷基，并且，例如，甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、己基、2-乙基己基、十二烷基、环丙基、环戊基、环己基或1-金刚烷基)、芳基(优选具有6至36个碳原子，更优选具有6至18个碳原子的芳 基，并且，例如，苯基或萘基)，烯基(优选具有1至10个碳原子，更优选具有1至5个碳原子的具有直链、支链或环结构的烯基，并且，例如，乙烯基、烯丙基、异戊二烯基、香叶基或油烯基)、磺基、氨磺酰基(具有优选1至10个碳原子的烷基氨磺酰基)，然而，特别是，具有1至5个碳原子的烷基和具有1至10个碳原子的烷基氨磺酰基是优选的。a优选为1至3。b和c优选为1至3。
在通式(1A)中，R44表示氢原子、烷基或芳基，然而，特别是，具有1至5个碳原子的烷基和苯基是优选的。R44表示上面的取代基部分描述的取代基，然而，特别是，氰基或氨基甲酰基是优选的。R44和R42表示氢原子、烷基或芳基，然而，特别是，具有1至5个碳原子的烷基和苯基是优选的。
在通式(IB)中，T表示氧原子或硫原子，然而，氧原子是优选的。R44和R45各自独立地表示氢原子、烷基或芳基，然而，特别是，具有1至5个碳原子的烷基和苯基是优选的。
在通式(1C)中，R46表示氢原子、烷基或芳基，然而，特别是，具有1至5个碳原子的烷基和苯基是优选的。R47表示的取代基是上面的取代基部分描述的取代基，然而，特别是，氢原子、烷基或芳基是优选的，并且特别是，具有1至5个碳原子的烷基和苯基是优选的。
[化学式14]
在通式(V)中，Mv表示Cr或Co。Rv1表示氧原子或COO。Rv2和Rv3各自独立地表示氢原子、烷基或芳基。v表示0至4的整数。Rv4表示取代基。如果v大于或等于2，相邻的两个Rv4连接并且可以形成环。
Rv2和Rv3特别优选具有1至5个碳原子的烷基和苯基。R44表示的取代基是上面的取代基部分描述的取代基，然而，特别是，烷基或芳基、硝基、氨磺酰基和磺基是优选的，并且具有1至5个碳原子的烷基、苯基和硝基是最优选的。
在偶氮染料中，作为黄色染料，由通式(I-1)、通式(I-2)和通式(V)表示的偶氮染料是优选的。
偶氮染料的具体实例如下所示，然而，本发明不限于这些。
[化学式15]
[化学式16]
[化学式17]
[化学式18]
[化学式19]
[化学式20]
＜蒽醌染料＞
关于本发明的染料聚合物的一个方面是包含源自由下列通式(AQ-4)至(AQ-3)表示的化合物(蒽醌化合物)的结构作为染料部分的部分结构的染料聚合物。本发明中的蒽醌化合物是具有在分子内包含蒽醌骨架的染料部分的化合物的集合术语。
[化学式21]
在通式(AQ-1)中，A和B各自独立地表示氨基、羟基、烷氧基和氢原子。Xqa表示ORqa1或NRqa2Rqa3。Rqa1至Rqa3各自独立地表示氢原子、烷基或芳基。Rq1至Rq4表示取代基。Rq1至Rq4表示的取代基与上面的取代基部分描述的取代基相同。Ra和Rb表示氢原子、烷基或芳基。
在通式(AQ-2)中，C和D分别与通式(AQ-1)中的A和B相同。Xqb表示ORqb1或NRqb2Rqb3。Rqb1至Rqb3各自独立地表示氢原子、烷基或 芳基。Rq5至Rq8分别与Rq1至Rq4相同。Rc与Ra或Rb相同。
在通式(AQ-3)中，E和F分别与通式(AQ-1)中的A和B相同。Xqc表示ORqc1或NRqc2Rqc3。Rqc1至Rqc3各自独立地表示氢原子、烷基或芳基。Rq9至Rq12分别与Rq1至Rq4相同。Rd与Ra或Rb相同。
在通式(AQ-1)中，A和B优选为氢原子。Xqa优选为ORqa1(Rqa1为氢原子、具有1至5个碳原子的烷基或苯基)，或NRqa2Rqa3(Rqa2是氢原子，Rqa3是具有1至5个碳原子的烷基或苯基)。Rq1至Rq4优选为氢原子、卤素原子或烷氧基。Ra优选为氢原子，Rb优选为氢原子、具有1至5个碳原子的烷基或苯基。
在通式(AQ-2)中，C和D优选为氢原子。Xqb优选为ORqb1(Rqb1为氢原子，具有1至5个碳原子的烷基，或苯基)，或NRqb2Rqb3(Rqb2为氢原子，Rqb3为具有1至5个碳原子的烷基或苯基)。Rq5至Rq8优选为氢原子、卤素原子或烷氧基。Rc为优选氢原子、具有1至5个碳原子的烷基或苯基。
在通式(AQ-3)中，E和F优选为氢原子。Xqc优选为ORqc1(Rqc1为氢原子，具有1至5个碳原子的烷基或苯基)，或NRqc2Rqc3(Rqc2为氢原子，Rqc3为具有1至5个碳原子的烷基或苯基)。Rq9至Rq12优选为氢原子、卤素原子或烷氧基。Rd为优选氢原子、具有1至5个碳原子的烷基或苯基。
蒽醌染料的具体实例如下所示，然而，本发明不限于这些。
[化学式22]
＜三芳基甲烷染料＞
关于本发明的染料聚合物的一个方面是包含源自由下列通式(TP)表示的化合物(三芳基甲烷化合物)的结构作为染料部分的部分结构的染料聚合物。
本发明中的三芳基甲烷化合物是在分子内具有包含三芳基甲烷骨架的染料部分的化合物的集合术语。
[化学式23]
在通式(TP)中，R中1至R中4各自独立地表示氢原子、烷基或芳基。R中5表示氢原子、烷基、芳基或NRtp9R中10(R中9和R中10表示氢原子、烷基或芳基)。R中6、R中7和Rtp8表示取代基。a、b和c表示0至4的整数。如果a、b和c大于或等于2，R中6、Rtp7和R中8可以彼此连接并且可以形成环。X-表示阴离子。
作为Rtp1至Rtp6，氢原子、具有1至5个碳原子的直链或支链的烷基和苯基是优选的。Rtp5优选为氢原子或NR中9R中10，NR中9Rtp10是最优选的。Rtp9和R中10优选为氢原子、具有1至5个碳原子的直链或支链的烷基，以及苯基。作为R中6、Rtp7和Rtp8表示的取代基，可以使用上面的取代基部分描述的取代基，然而，特别是，具有1至5个碳原子的直链或支链的烷基、具有1至5个碳原子的烯基、具有6至15个碳原子的芳基、羧基和磺基是优选的，并且具有1至5个碳原子的直链或支链的烷基、具有1至5个碳原子的烯基、苯基和羧基是更优选的。特别是，作为R中6和R中8，具有1至5个碳原子的烷基是优选的，并且作为R中7，烯基(特别是，其中相邻的两个烯基连接的苯基是优选的)、苯基和羧基是优选的。
a、b和c表示0至4的整数并且特别是，优选的是a和b是0至1，并且c是0至2。
X-表示阴离子，但具体地，可以包括无机阴离子如氟阴离子、氯阴离子、溴阴离子、碘阴离子、高氯酸根阴离子、硫氰酸根阴离子、六氟磷酸根阴离子、六氟锑酸根阴离子或四氟硼酸根阴离子、羧酸根阴离子如乙酸根阴离子或苯甲酸根阴离子、有机磺酸根阴离子如苯磺酸根阴离子、甲苯 磺酸根阴离子、三氟甲磺酸根阴离子、有机磷酸根阴离子如辛基磷酸根阴离子、十二烷基磷酸根阴离子、十八烷基磷酸根阴离子、苯基磷酸根阴离子或壬基苯基磷酸根阴离子等。X-可以连接至染料骨架或染料聚合物的一部分(聚合物链等)。
X-优选为氟阴离子、氯阴离子、溴阴离子、碘阴离子、高氯酸根阴离子或羧酸酯阴离子，并且高氯酸根阴离子或羧酸酯阴离子是最优选的。
通式(TP)的具体实例如下所示，然而，本发明不限于这些。
[化学式24]
[化学式25]
＜咕吨染料＞
关于本发明的染料聚合物的优选方面是包含源自由下列通式(J)表示的咕吨化合物结构作为染料部分的部分结构的染料聚合物。
[化学式26]
在通式(J)中，R81、R82、R83和R84各自独立地表示氢原子或单价取代基。R85各自独立地表示单价取代基并且m表示0至5的整数。X-表示阴离子。
可以选择的取代基R81至R84和R85与上面的取代基部分描述的取代基相同。
R81和R82，R83和R84，以及当m大于或等于2时的R85各自独立地彼此连接并可以形成五元、六元或七元饱和环，或不饱和环。如果所形成的五元、六元或七元环是可以进一步被取代的基团，它可以被R81至R85中描述的取代基取代，并且当存在两个以上取代基时，那些取代基可以彼此相同或不同。
在其中R81和R82，R83和R84，以及当m大于或等于2时的R85各自独立地彼此连接并形成五元、六元或七元饱和环或不饱和环的情况下，可以包括，例如，吡咯环、呋喃环、噻吩环、吡唑环、咪唑环、三唑环、
唑环、噻唑环、吡咯烷环、哌啶环、环戊烯环、环己烯环、苯环、吡啶环、吡嗪环、哒嗪环等，并且优选地，可以包括苯环或吡啶环作为五元、六元或七元饱和环或不饱和环。
特别是，R82和R83是氢原子并且R81和R84优选为取代的或未取代的苯基。而且，R85优选为卤素原子、具有1至5个碳原子的直链或支链的烷基、磺基，磺酰胺基或羧基。作为R81和R84的苯基具有的取代基，氢原子、卤素原子、具有1至5个碳原子的直链或支链的烷基、磺基、磺酰胺基或羧基是最优选的。
X-表示阴离子，并且具体地，可以包括无机阴离子如氟阴离子、氯阴 离子、溴阴离子、碘阴离子、高氯酸根阴离子、硫氰酸根阴离子、六氟磷酸根阴离子、六氟锑酸根阴离子或四氟硼酸根阴离子、羧酸根阴离子如乙酸根阴离子或苯甲酸根阴离子、有机磺酸根阴离子如苯磺酸根阴离子、甲苯磺酸根阴离子、三氟甲磺酸根阴离子、有机磷酸根阴离子如辛基磷酸根阴离子、十二烷基磷酸根阴离子、十八烷基磷酸根阴离子、苯基磷酸根阴离子，或壬基苯基磷酸根阴离子等。X-可以连接至染料骨架或染料聚合物的一部分(聚合物链等)。
X-优选为氟阴离子、氯阴离子、溴阴离子、碘阴离子、高氯酸根阴离子或羧酸根阴离子，并且高氯酸根阴离子或羧酸根阴离子是最优选的。
具有由通式(J)表示的咕吨骨架的化合物可以使用文献中公开的方法合成。具体地，可以应用Tetrahedron Letters，2003，第44卷，第23期，第4355至4360页和Tetrahedron Letters，2005，第61卷，第12期，第3097至3106页中公开的方法。
咕吨化合物的具体实例如下所示，然而，本发明不限于这些。
[化学式27]
(在该式中，Rb和Rc各自独立地表示氢原子、-SO3-、CO2H或-SO2NHRa。Rd、Re和Rf各自独立地表示-SO3-、SO3Na或-SO2NHRa。Rg、Rh和Ri各自独立地表示氢原子、-SO3-、SO3H-或-SO2NHRa。Ra表示具有1至10个碳原子的烷基并且优选表示2-乙基己基。X和a表示与上面相同的含义。)
由式(1b)表示的化合物是由式(1b-1)表示的化合物的互变异构体。其中，式(1e)和式(1f)是优选的。
＜花青染料＞
关于本发明的染料聚合物的一个方面是包含源自由下列通式(PM)(花青化合物)表示的化合物的结构作为染料部分的部分结构的染料聚合物。本发明中的花青化合物是具有在分子内包含花青骨架的染料部分的化合物的集合术语。
[化学式28]
在通式(PM)中，环Z1和环Z2各自独立地表示可以具有取代基的杂环。1表示大于或等于0并且小于或等于3的整数。X-表示阴离子。
环Z1和环Z2各自独立地包括
唑、苯并
唑、
唑啉、噻唑、噻唑啉、苯并噻唑、假吲哚、苯并假吲哚或1，3-噻二嗪。环Z1和环Z2可以选择的取代基与上面的取代基部分描述的取代基相同。X-表示无机阴离子如可以包括氟阴离子、氯阴离子、溴阴离子、碘阴离子、高氯酸根阴离子、硫氰酸根阴离子、六氟磷酸根阴离子、六氟锑酸根阴离子或四氟硼酸根阴离子、羧酸根阴离子如乙酸根阴离子或苯甲酸根阴离子、有机磺酸根阴离子如苯磺酸根阴离子、甲苯磺酸根阴离子、三氟甲磺酸根阴离子、有机磷酸根阴离子如辛基磷酸根阴离子、十二烷基磷酸根阴离子、十八烷基磷酸根阴离子、苯基磷酸根阴离子或壬基苯基磷酸根阴离子等。X可以连接至染料骨架或染料聚合物的一部分(聚合物链等)。
通式(PM)优选表示为通式(PM-2)。
[化学式29]
在该式中，环Z5和环Z6各自独立地表示可以具有取代基的苯环或可以具有取代基的萘环。
Y-表示Cl-、Br-、I-、ClO4 -、OH-、单价有机羧酸根阴离子、单价有机磺酸根阴离子、单价硼酸根阴离子或单价有机金属配合物阴离子。Y-可以连接至染料骨架或染料聚合物的一部分(聚合物链等)。
n表示大于或等于0并且小于或等于3的整数。A1和A2各自独立地表示氧原子、硫原子、硒原子、碳原子或氮原子。
R1和R2各自独立地表示可以具有取代基的具有1至20个碳原子的单价脂族烃基。
R3和R4各自独立地或者表示氢原子或者可以具有取代基的具有1至6个碳原子的单价脂族烃基，或者表示由一个R3和一个R4的结合形成的具有2至6个碳原子的二价脂族烃基。
a和b各自独立地表示大于或等于0并且小于或等于2的整数。
在通式(PM-2)中，Y-优选为氟阴离子、氯阴离子、溴阴离子、碘阴离子、高氯酸根阴离子或羧酸根阴离子并且最优选氯阴离子、高氯酸根阴离子或羧酸酯阴离子。n优选为1。A1和A2优选为氧原子、硫原子和碳原子并且最优选碳原子。
花青化合物的具体实例如下所示，然而，本发明不限于这些。
[化学式30]
在具体实例中，由(pm-1)至(pm-6)，(pm-9)和(pm-10)表示的结构是优选的并且由(pm-1)、(pm-2)和(pm-10)表示的结构是特别优选的。
＜方酸菁染料＞
关于本发明的染料聚合物的一个方面是包含源自由下列通式(K)(方 酸菁化合物)化合物表示的结构作为染料部分的部分结构的染料聚合物。本发明中的方酸菁化合物是具有分子内包含方酸菁骨架的染料部分的化合物的集合术语。
[化学式31]
在通式(K)中，A和B各自独立地表示芳基或杂环基。作为芳基，可以包括优选具有6至48个碳原子，更优选具有6至24个碳原子的芳基，并且，例如，苯基或萘基。作为杂环基团，可以包括五元环或六元环的杂环基以及，例如，吡咯基、咪唑基、吡唑基、噻吩基、吡啶基、嘧啶基、哒嗪基、三唑-1-基、呋喃基、噻二唑基等。
作为由通式(K)表示的化合物，特别是，由通式(K-1)、通式(K-2)、通式(K-3)或通式(K-1)表示的化合物是优选的。
[化学式32]
在通式(K-1)中，R91、R92、R94、R95、R96和R98各自独立地表示氢原子、卤素原子、直链或支链的烷基、环烷基、直链或支链的烯基、环烯基、炔基、芳基、杂环基、氰基、羟基、硝基、羧基、烷氧基、芳氧基、硅烷氧基、杂环氧基、酰氧基、氨基甲酰氧基、氨基(包括烷基氨基和苯胺基)、酰基氨基、氨基羰基氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、氨磺酰氨基、烷基-或芳基磺酰氨基、巯基、烷基硫基、芳基硫基、杂环硫基、氨磺酰基、磺基、烷基-或芳基亚磺酰基、烷基或芳基磺酰基、酰基、芳氧基羰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、芳基-或杂环偶氮基、亚胺基、膦基、氧膦基、氧膦基氧基、氧膦基氨基或硅烷基。
R93和R97各自独立地表示氢原子、直链或支链的烷基、环烷基、环烯基、炔基、芳基或杂环基。
R91和R92，以及R95和R96分别彼此连接并且可以形成环。
在通式(K-1)中，R91、R92、R94、R95、R96和R98可以选择的取代基与上面的取代基部分描述的取代基相同。
优选的是，R91至R98各自独立地是氢原子、烷基、羟基、氨基、芳基或杂环，更优选的是R93、R94、R97和R98是烷基，或者，R91和R92，以及R95和R96彼此连接并形成芳环，最优选的是R93、R94、R97和R98是具有1至20个碳原子的烷基，或者，R91和R92，以及R95和R96彼此连接并形成苯环。
[化学式33]
在通式(K-2)中，R101、R103、R104、R105、R107和R108与通式(K-1)中的R91、R93、R94、R95、R97和R98相同。R103和R107与通式(K-1)中的R93和 R97相同。
在通式(K-2)中，优选的是R101、R103、R104、R105、R107和R108是氢原子、烷基、羟基、氨基、芳基或杂环基，更优选的是R101、R103、R105和R107是烷基或芳基，或者，R104和R108是羟基或氨基，并且再更优选的是R101、R103、R105和R107是具有1至20个碳原子的烷基，或者，R104和R108是羟基。优选的是R103和R107是氢原子、直链或支链的烷基以及芳基，并且更优选的是R103和R107是具有1至5个碳原子的烷基和苯基。
[化学式34]
在通式(K-3)中，R100、R110、R112、R113、R114、R115、R118和R119与通式(K-1)中的R91、R93、R94、R95、R97和R98相同。R116和R117与通式(K-1)中的R93和R97相同。
在通式(K-3)中，优选的是R109、R110、R111、R112、R113、R114、R115、R118和R119是氢原子、卤素原子、直链或支链的烷基、羟基或烷氧基。特别是，最优选的是R109、R113、R115、R118和R119是氢原子，R110、R111和R112是氢原子或烷氧基，R114是氢原子、卤素原子、羟基、具有1至5个碳原子的烷基、具有1至5个碳原子的烷氧基。
[化学式35]
在通式(K-4)中，R120和R121表示卤素原子、烷基、烷氧基和烯基。m表示1至4的整数。n表示0至4的整数。
作为R120，特别是，具有1至5个碳原子的烷基或具有1至5个碳原子的烷氧基是优选的。作为m，1至3是优选的，并且3是最优选的。作为n，0至3是优选的，并且0或1是更优选的。
作为本发明中的染料结构中可以包含的染料化合物，从颜色的角度，源自由通式(K-1)表示的方酸菁化合物的结构是优选的。
由通式(K-1)至通式(K-4)表示的方酸菁化合物可以应用J.Chem.Soc.，Perkin Trans.1，2000，599中公开的方法合成。
通式(K-1)至通式(K-4)的具体实例如下所示，然而，本发明不限于这些。
[化学式36]
＜喹酞酮染料＞
关于本发明的染料聚合物的一个方面是包含源自由下列通式(QP)表示的化合物(喹酞酮化合物)的结构作为染料部分的部分结构的染料聚合物。本发明中的喹酞酮化合物是具有在分子内包含喹酞酮骨架的染料部分 的化合物的集合术语。
[化学式37]
在通式(QP)中，Rqp1至Rqp6各自独立地表示氢原子或取代基。当Rqp1至Rqp6中的至少两个相邻时，它们彼此连接并且可以形成环，并且环可以还具有取代基。
取代基Rqp1至Rqp6表示上面的取代基部分描述的取代基。作为Rqp1至Rqp6表示的取代基，卤素原子、烷基、烯基和芳基是优选的。特别是，优选的是Rqp1和Rqp2，并且Rqp5和Rqp6彼此连接并形成取代的或未取代的苯基。Rqp3和Rqp4优选氢原子、氯原子或溴原子。
作为由Rqp1和Rqp2，以及Rqp5和Rqp6彼此连接形成的苯基的取代基，可以包括上面的取代基部分描述的取代基，然而，卤素原子、氨基甲酰基、氨基、烷氧基、芳氧基、烷基硫基、芳基硫基和烷氧基羰基是优选的。
通式(QP)的具体实例如下所示，然而，本发明不限于这些。
[化学式38]
＜酞菁化合物＞
关于本发明的染料聚合物的一个方面是包含源自由下列通式(Ph)(酞菁化合物)表示的化合物的结构作为染料部分的部分结构的染料聚合物。本发明中的酞菁化合物是具有在分子内包含酞菁骨架的染料部分的化合物的集合术语。
[化学式39]
在通式(Ph)中，M1表示金属的类型，Z1、Z2、Z3和Z4各自独立地表示形成由选自碳原子和氮原子的原子构成的六元环所需的原子团。
详细描述通式(Ph)。
在通式(Ph)中，作为由M1表示的金属的类型，例如，可以包括金属原子如Zn、Mg、Si、Sn、Rh、Pt、Pd、Mo、Mn、Pb、Cu、Ni、Co和Fe，金属氯离子如A1C1、InCl、FeCl、TiCl2、SnCl2、SiCl2和GeCl2，金属氧化物如TiO和VO，以及金属氢氧化物如Si(OH)2，然而，Cu和Zn是特别优选的。
在通式(Ph)中，Z1、Z2、Z3和Z4各自独立地表示形成由选自碳原子和氮原子的原子构成的六元环所需的原子团。六元环可以是饱和环或不饱和环，并且可以是未取代的或具有取代基。作为取代基，可以包括上面的取代基部分描述的取代基。此外，当六元环具有两个以上取代基时，那些取代基可以彼此相同或不同。此外，六元环可以与其他五元或六元环稠合。
六元环包括苯环、环己烷环等。
在由通式(Ph)表示的酞菁系染料残基中，由通式(Ph-1)表示的源自酞菁系染料的残基是特别优选的。
[化学式40]
在通式(Ph-1)中，M2与通式(Ph)中的M1相同，并且在优选的方面也相同。
在通式(Ph-1)中，R101至R116各自独立地表示氢原子或取代基，并且如果由R101至R116表示的取代基是可以进-步被取代的基团，它可以被作为上面的取代基描述的基团取代，并且当存在两个以上取代基时，那些取代基可以彼此相同或不同。
其中，由R101至R116表示的取代基优选为氢原子，SO2NR117R118(R117和R118是氢原子或具有3至20个碳原子的可以具有取代基的直链或支链的烷基)，或SR119(R119是具有3至20个碳原子的可以具有取代基的直链或支链的烷基)。
通式(Ph)的具体实例如下所示，然而，本发明不限于这些。
[化学式41]
＜亚酞菁化合物＞
关于本发明的染料聚合物的一个方面是包含源自由下列通式(SP)表示的化合物(亚酞菁化合物)的结构作为染料部分的部分结构的染料聚合物。本发明中的亚酞菁化合物是具有在分子内包含亚酞菁骨架的染料部分的化合物的集合术语。
[化学式42]
在通式(SP)中，Z1至Z12各自独立地表示氢原子、烷基、芳基、羟基、巯基、氨基、烷氧基、芳氧基或硫代醚基。X表示阴离子。
详细描述通式(SP)。
通式(SP)中Z1至Z12可以具有的烷基表示取代的或未取代的直链或支链的烷基。特别是，具有1至20个碳原子是优选的并且具有1至10个碳原子是更优选的。作为Z1至Z12可以具有的取代基，可以包括上面的取代基部分描述的取代基，然而，特别是，氟原子、羟基和巯基是优选的。
通式(SP)中的X表示阴离子。具体地，可以包括无机阴离子如氟阴离子、氯阴离子、溴阴离子、碘阴离子、高氯酸根阴离子、硫氰酸根阴离子、六氟磷酸根阴离子、六氟锑酸根阴离子或四氟硼酸根阴离子、羧酸根阴离子如乙酸根阴离子或苯甲酸根阴离子、有机磺酸根阴离子如苯磺酸根阴离子、甲苯磺酸根阴离子、三氟甲磺酸根阴离子、有机磷酸根阴离子如辛基磷酸根阴离子、十二烷基磷酸根阴离子、十八烷基磷酸根阴离子、苯基磷酸根阴离子或壬基苯基磷酸根阴离子等。X可以连接至染料骨架或染料聚合物的一部分(聚合物链等)。
X优选为氟阴离子、氯阴离子、溴阴离子、碘阴离子、高氯酸根阴离子、羧酸根阴离子或磷酸根阴离子，并且高氯酸根阴离子或羧酸根阴离子是最优选的。
亚酞菁化合物的具体实例如下所示，然而，本发明不限于这些。
在以下实例化合物中，X表示至硼原子的配体。具体地，可以包括卤素原子、羟基、羧酸基、磷酸基、磺酸基等，并且从制备的角度，卤素原 子、羟基、羧酸基或磺酸基是优选的并且卤素原子或羧酸基是更优选的。
[化学式43]
(在本发明的着色组合物中使用的染料聚合物的结构)
在本发明的着色组合物中使用的染料聚合物优选包含由下列通式(A)、通式(B)和通式(C)表示的结构单元中的至少一种，或由以通式(D)表示的染料聚合物表示。将相继描述这些。
＜由通式(A)表示的单元结构＞
[化学式44]
在通式(A)中，X1表示通过聚合形成的连接基团，L1表示单键或二价连接基团。Dye I表示染料结构。在下文中，将详细描述它们。
在通式(A)中，X1表示通过聚合形成的连接基团。换言之，X1表示其中形成对应于由聚合反应形成的主链的重复单元的部分。而且，由两个*表示的部分成为重复单元。对X1没有特别地限定，条件是它是由能够聚合的传统的单体形成的连接基团，然而，特别是，由以下(XX-1)至(XX-24)表示的连接基团是优选的，由(XX-1)和(XX-2)表示的(甲基)丙烯酰基系连接链、由(XX-10)至(XX-17)表示的苯乙烯系连接链和由(XX-24)表示的乙烯系连接链是最优选的。在(XX-1)至(XX-24)中，由*表示的位点表示至L1的连接位点。而且，(XX-18)和(XX-19)中的R表示氢原子、具有1至5个碳原子的烷基和苯基。
[化学式45]
在通式(A)中，L1表示单键或二价连接基团。作为当L1表示二价连接基团的二价连接基团，提供的是具有1至30个碳原子的取代的或未取代的亚烷基(例如，亚甲基、亚乙基、三亚甲基、亚丙基、亚丁基等)、具有6至30个碳原子的取代的或未取代的亚芳基(例如，亚苯基、亚萘基等)、取代的或未取代的杂环基、-CH=CH-、-O-、-S-、-C(=O)-、-CO2-、-NR--(这里，R各自独立地表示氢原子、烷基、芳基或杂环基)、-CONR-、-O2C-、-SO-、-SO2-以及通过连接这些的两个以上形成的连接基团。
在通式(A)中，Dye I表示上面描述的染料骨架。
具有由通式(A)表示的重复单元的染料聚合物可以通过以下方法合成：(1)其中通过加成聚合合成具有染料残基的单体的方法，(2)其中使具有高度反应性基团如异氰酸酯基团、酸酐基团或环氧基的聚合物与具有能够与所述高度反应性基团反应的官能团(羟基、伯或仲氨基、羧基等)的染料反应的方法。作为加成聚合，可以应用公知的加成聚合(自由基聚合、阴离子聚合、阳离子聚合)，然而，其中，通过自由基聚合的合成是特别优选的，因为可以应用温和的反应条件。作为自由基聚合，可以应用公知的反应条件。
由通式(A)表示的染料聚合物(对应于单体化合物)的重复单元的具体实例如下所示，然而，本发明不限于这些。
[化学式46]
[化学式47]
[化学式48]
[化学式49]
[化学式50]
[化学式51]
[化学式52]
[化学式53]
[化学式54]
[化学式55]
[化学式56]
[化学式57]
[化学式58]
[化学式59]
[化学式60]
[化学式61]
[化学式62]
＜由通式(B)表示的结构单元＞
接下来，详细描述由通式(B)表示的结构单元。
[化学式63]
在通式(B)中，X2与通式(A)中的X1相同。L2与通式(A)中的L1相同。Y2表示能够与DyeII形成离子键或共价键的基团。DyeII表示染料结构。
在下文中，将详细描述它们。
在通式(B)中，X2与通式(A)中的X1相同，并且优选的范围也相同。L2与通式(A)中的L1相同并且优选的范围也相同。Y2是能够与DyeII形成离子键或共价键的基团，并且可以是阴离子基团或阳离子基团中的任意基团。作为阴离子基团，可以包括COO-、PO3H-、SO3 -、-SO3NH-、-SO3N-CO-等，然而，COO-、PO3H-或SO3 -是优选的。
作为阳离子基团，可以包括取代的或未取代的阳离子(例如，铵、吡啶、咪唑
、
等)并且特别是，铵阳离子是优选的。
Y2可以连接至DyeII中含有的阴离子部分(COO-、SO3 -、O-等)或阳离子部分(
阳离子或金属阳离子)。
由通式(B)表示的染料聚合物(对应于单体化合物)的重复单元的具体实例如下所示，然而，本发明不限于这些。
[化学式64]
＜由通式(C)表示的结构单元＞
[化学式65]
在通式(C)中，L3表示单键或二价连接基团。DyeIII表示染料结构。M表示0或1。
在下文中，将详细描述它们。
在通式(C)中，作为当由L3表示的二价连接基团时，合适地包括具有1至30个碳原子的具有直链、支链或环结构的取代的或未取代的亚烷基(例如，亚甲基、亚乙基、三亚甲基、亚丙基、亚丁基等)、具有6至30个碳原子的取代的或未取代的亚芳基(例如，亚苯基、亚萘基等)、取代的或未取代的杂环基、-CH=CH-、-O-、-S-、-NR-(R表示氢原子、烷基、芳基或杂环基)、-C(=O)-、-SO-、-SO2-和通过连接这些的两个以上形成的连接基团。m表示0或1，然而，1是优选的。
通式(C)中由L3表示的二价连接基团的具体实例如下所示，然而，本发明的L3不限于这些。
[化学式66]
具有通式(C)中的重复单元的染料聚合物通过序列聚合合成。序列聚合包括聚加成(例如，二异氰酸酯化合物与二醇的反应、二环氧化物与二 羧酸的反应、四羧酸二酐与二醇的反应等)和缩聚(例如，二羧酸与二醇的反应、二羧酸与二胺的反应等)。其中，特别是，通过聚加成反应的合成是优选的，因为这使得反应条件温和并且不降解染料结构。作为序列聚合，可以应用公知的反应条件。
由通式(C)表示的染料聚合物的重复单元(对应于单体化合物)的具体实例如下所示，然而，本发明不限于这些。
[化学式67]
[化学式68]
＜由通式(D)表示的染料聚合物＞
接下来，详细描述由通式(D)表示的染料聚合物。
[化学式69]
(在通式(D)中，L4表示具有n的价键数目的连接基团。n表示2至20的整数。当n是2以上时，DveIV的结构可以是彼此相同的或不同的。DveIV表示染料结构)
在通式(D)中，n优选为3至15并且特别优选3至6。
在通式(D)中，如果n是2，则作为由L4表示的二价连接基团，适宜地包括具有1至30个碳原子的取代的或未取代的亚烷基(例如，亚甲基、亚乙基、三亚甲基、亚丙基、亚丁基等)、具有6至30个碳原子的取代的或未取代的亚芳基(例如，亚苯基，亚萘基等)、取代的或未取代的杂环基、-CH=CH-、-O-、-S-、-NR-(这里，R各自独立地表示氢原子、烷基、芳基或杂环基)、-C(=O)-、-SO-、-SO2-和通过连接这些中的两个以上形成的连接基团。
作为具有当n是3以上时的n的价数的连接基团，可以包括通过具有取代的或未取代的亚芳基(1，3，5-亚苯基、1，2，4-亚苯基、1，4，5，8-萘基)、杂环连接基团(例如，1，3，5-三嗪基)、亚烷基连接基团等作为母核的二价连接基团的取代形成的连接基团。
通式(D)中L4的具体实例如下所示，然而，本发明不限于这些。
[化学式70]
通式(D)中DyeIV(对应于单体组分)的具体实例如下所示，然而，本发明不限于这些。
[化学式71]
在通式(A)至通式(D)中，由通式(A)、通式(B)和通式(D)表示的染料聚合物是优选的，因为它们通过共价键连接并且在抑制耐热性和颜色迁移至其他图案上是有效的，并且特别是，由通式(A)表示的染料聚合物是优选的，因为容易控制染料聚合物的分子量。
＜(A)染料聚合物中包含的可聚合基团＞
本发明的(A)染料聚合物更优选包含可聚合基团。作为可聚合基团，可以包括能够通过自由基、酸或热交联的公知的可聚合基团，并且例如，烯型不饱和键、环醚(环氧、氧杂环丁烷)、甲醇等，然而，特别是，烯型不饱和键是优选的并且(甲基)丙烯酸类基团是最优选的。
作为可聚合基团的引入方法，可以使用(1)其中将染料聚合物改性为含有可聚合基团的化合物并引入的方法，(2)其中将染料单体和含有可聚合基团的化合物共聚并引入的方法。在下文中，将详细描述它们。
＜(1)其中将染料聚合物改性为含有可聚合基团的化合物并引入的方法＞
对其中将染料聚合物改性为含有可聚合基团的化合物并引入的方法没有特别地限定并且可以使用公知的方法，然而，从制备的角度优选的是：(a)其中使染料聚合物中包含的羧酸与含有不饱和键的环氧化合物反应的方法，(b)其中使染料聚合物中包含的羟基或氨基与含有不饱和键的异氰酸酯化合物反应的方法，或(c)其中使染料聚合物中包含的环氧化合物与含有不饱和键的羧酸化合物反应的方法。
作为(a)其中使染料聚合物中包含的羧酸与含有不饱和键的环氧化合物反应的方法中的含有不饱和键的环氧化合物，可以包括甲基丙烯酸缩水甘油酯，丙烯酸缩水甘油酯，烯丙基缩水甘油醚，丙烯酸3，4-环氧-环己基甲酯，甲基丙烯酸3，4-环氧-环己基甲酯等，然而特别是，甲基丙烯酸缩水甘油酯和甲基丙烯酸3，4-环氧-环己基甲酯是优选的，因为交联性质和储存稳定性是优异的。对于反应条件，可以使用公知的条件。
作为(b)其中使染料聚合物中包含的羟基或氨基与含有不饱和键的异氰酸酯化合物反应的方法中的含有不饱和键的异氰酸酯化合物，可以包括2-异氰酸根合乙基甲基丙烯酸酯、2-异氰酸酯合甲丙烯酸乙酯(2-isocyanatoethylathacrylate)、1，1-双(丙烯酰氧基甲基)乙基异氰酸酯等，然而，2-异氰酸酯合甲基丙烯酸乙酯是优选的，因为交联性质和储存稳定性是优异的。对于反应条件，可以使用公知的条件。
对(c)其中使染料聚合物中包含的环氧化合物与含有不饱和键的羧酸化合物反应的方法中的含有不饱和键的羧酸化合物没有特别地限定，并且可以使用具有公知的(甲基)丙烯酰氧基的任意羧基化合物，然而，甲基丙烯酸和丙烯酸是优选的，并且特别是，甲基丙烯酸是优选的，因为交联性质和储存稳定性是优异的。对于反应条件，可以使用公知的条件。
＜(2)其中将染料单体和含有可聚合基团的化合物共聚并引入的方法＞
对(2)其中将染料单体和含有可聚合基团的化合物共聚并引入的方法没有特别地限定，并且可以使用公知的方法，然而，优选的是：(d)其中使能够自由基聚合的染料单体与含有能够自由基聚合的可聚合基团的化合物共聚的方法，或(e)其中使能够加成聚合的染料单体与含有能够加成聚合的可聚合基团的化合物共聚的方法。
作为(d)其中使能够自由基聚合的染料单体与含有能够自由基聚合的可聚合基团的化合物共聚的方法中的含有能够自由基聚合的可聚合基团的化合物，特别是，可以包括含有烯丙基的化合物(例如，(甲基)丙烯酸烯丙酯等)、含有环氧基的化合物(例如，(甲基)丙烯酸缩水甘油酯)、3，4-环氧-环己基甲基(甲基)丙烯酸酯等)、含有氧杂环丁烷基团的化合物(例如，3-甲基-3-氧杂环丁基甲基(甲基)丙烯酸酯等)和含有羟甲基的化合物(例如，N-(羟甲基)丙烯酰胺等)，并且特别是，环氧化合物和氧杂环丁烷化合物是优选的。对于反应条件，可以使用公知的条件。
作为(e)其中使能够加成聚合的染料单体与含有能够加成聚合的可聚合基团的化合物共聚的方法中的含有能够加成聚合的可聚合基团的化合物，可以包括含有不饱和键的二醇化合物(例如，(甲基)丙烯酸2,3-二羟基丙基等)。对于反应条件，可以使用公知的条件。
作为用于引入可聚合基团的方法，其中使染料聚合物中包含的羧酸与含有不饱和键的环氧化合物反应的方法是最优选的。
相对于1g的(A)染料聚合物，(A)染料聚合物中包含的可聚合基团的量优选为0.1至2.0mmol，更优选0.2至1.5mmol，并且最优选并且0.3至1.0mmol。
作为具有可聚合基团的组成单元，可以包括如下所示的具体实例。然而，本发明不限于这些。
[化学式72]
[化学式73]
＜(A)染料聚合物中包含的其他官能团＞
本发明的A)染料聚合物可以具有其他官能团。作为其他官能团，碱溶性基团如羧酸根基团、磺酸根基团、磷酸根基团、酚羟基等是优选的。作为碱溶性基团，羧酸根基团是最优选的。
作为用于将碱溶性基团引入至染料聚合物的方法，包括其中将碱溶性基团预先引入至染料单体的方法，以及将除了具有碱溶性基团的染料单体之外的单体((甲基)丙烯酸、丙烯酸的己内酯改性的产物、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯的琥珀酸酐改性的产物、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯的邻苯二甲酸酐改性的产物、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯的1，2-环己烷二羧酸酐改性的产物、含有羧酸的单体如苯乙烯羧酸、衣康酸、马来酸、降冰片烯甲酸等，含有磷酸的单体如甲基丙烯酸磷酰氧基乙基酯和乙烯基膦酸，以及含有磺酸的单体如乙烯基磺酸和2-丙烯酰胺-2-甲磺酸)共聚的方法，然而，两种方法的使用都是最优选的。
相对于1g的(A)染料聚合物，(A)染料聚合物中包含的碱溶性基团的量优选为0.3至2.0mmol，更优选0.4至1.5mmol，并且最优选0.5至1.0mmol。
作为(A)染料聚合物中包含的其他官能团，可以包括并适当地引入显影促进基团如内酯、酸酐、酰胺、-COCH2CO-或氰基，具有疏水性质的调节基团如具有长链和环结构的烷基、芳烷基、芳基、聚氧化烯基团、羟基、马来酰亚胺基或氨基等。作为用于引入的方法，其中将其他官能团预 先引入至染料单体的方法和其中将具有官能团的单体共聚的方法。
作为染料聚合物中包含的具有其他官能团的重复单元，给出如下所示的具体实例。然而，本发明不限于这些。
[化学式74]
[化学式75]
[化学式76]
作为(A)染料聚合物的重均分子量，2,000至20,000是优选的，3,000至15,000是更优选的，并且4,000至10,000是最优选的。
此外，重均分子量/数均分子量的比例优选为1.0至3.0，更优选1.6至2.5并且最优选1.6至2.0。
(A)染料聚合物的重均分子量和分散度(重均分子量/数均分子量)定义为使用GPC测量的聚苯乙烯换算值。在本说明书中，使用HLC-8020GPC(由Tosoh Co.，Ltd.制造)，通过使用TSKgel Multipore HXL-M(由Tosoh Co.，Ltd.制造，7.8mm ID×30.0cm)作为柱并通过使用THF(四氢呋喃)作为洗脱剂测定重均分子量和数均分子量。
在上文中，已经描述了(A)具有染料骨架的聚合物(=染料聚合物)。作为本发明的彩色滤光片用着色组合物中的(A)具有染料骨架的聚合物的含量，相对于着色组合物的总量含有5质量％至70质量％是优选的，含有10质量％至60质量％是更优选的，含有20质量％至50质量％是最优选的。通过将含量保持在该范围内，作为由本发明的着色组合物获得的着色 层，可以获得即使是以薄层形式也具有高色纯度的着色层，并且对着色层的基板的粘附性是令人满意的。
＜9B)有机溶剂＞
本发明的彩色滤光片用着色组合物包含(B)有机溶剂。
通过包含(B)有机溶剂，可以获得均匀的着色组合物，因为将(A)染料聚合物或后面描述的其他组分溶解。作为结果，本发明的着色组合物的涂布性质变得令人满意的，着色组合物层在膜厚度上均匀，并且此外，还可以形成薄层。
对(B)有机溶剂基本上不特别地限定，条件是着色组合物中包含的每个组分的溶解性或着色组合物的涂布性质是令人满意的，然而，优选的是考虑到紫外线吸收剂、粘合剂的溶解性、涂布性质和安全性而选择有机溶剂。
还优选的是包含至少两种类型的有机溶剂以制备本发明的着色组合物。
作为有机溶剂，可以合适地包括：作为酯，例如，乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、甲酸戊酯、乙酸异戊酯、丙酸丁酯、丁酸异丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、氧乙酸烷基酯((例如：氧乙酸甲酯、氧乙酸乙酯、氧乙酸丁酯(例如，甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-氧基丙酸烷基酯((例如：3-氧基丙酸甲酯、3-氧基丙酸乙酯等(例如，3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-氧基丙酸烷基酯((例如：2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸丙酯等(例如，2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯))、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯和2-氧基-2-甲基丙酸乙酯(例如，2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯和2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯等；以及，作为醚，例如，二甘醇二甲醚、四氢呋喃、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、二甘醇单甲醚、二甘醇单乙醚、二甘醇单丁醚、 丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单-丙基醚乙酸酯、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯；以及，作为酮，例如，甲基乙基酮、环己酮、2-庚酮、3-庚酮等；以及，作为芳族烃，例如，甲苯、二甲苯等。
从涂布表面的形状改进的角度，该有机溶剂优选作为两种以上的组合使用。在这种情况下，优选的是混合溶液由选自以下各项的两种以上类型构成：3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、甲基溶纤剂乙酸酯、乳酸乙酯、二甘醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、环己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲基醚和丙二醇甲基醚乙酸酯。
关于着色组合物中有机溶剂的含量，从涂布性质的角度，着色组合物的全部固体浓度的量优选为5至80质量％，更优选5至60质量％，特别优选10至50质量％。
优选通过经由含有(C)可聚合化合物和(D)聚合引发剂对着色组合物给出辐射固化性质而使得本发明的着色组合物成为着色辐射敏感组合物。通过使着色组合物成为着色辐射敏感组合物，着色组合物层可以通过辐射如紫外线的图案照射而形成图案。
在下文中，将描述在本发明的着色组合物中可以使用的每个组成如(C)可聚合化合物，(D)聚合引发剂等，从而，还将描述着色辐射敏感组合物。
而且，在下文中，着色组合物和着色辐射敏感组合物统一称呼并且适当地称为“着色组合物”。
＜(C)可聚合化合物＞
(C)可聚合化合物选自具有至少一个，优选两个以上末端烯型不饱和键的化合物。其中，四官能以上的多官能可聚合化合物是优选的，并且五官能以上是更优选的。此外，(C)可聚合化合物不具有染料骨架。
该组化合物在相关的工业部门广泛已知，并且这些可以在本发明中不带有特别限定地使用。这些可以是任何化学形式，例如，单体、预聚物，换言之，二聚体、三聚体和低聚物，或它们的混合物和它们的聚合物等。本发明中的可聚合化合物可以或者单独使用或者作为两个以上的组合使 用。
更具体地，作为单体和预聚物的实例，可以包括不饱和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸等)或它们的酯，它们的酰胺，以及它们的聚合物，并且优选地，包括不饱和羧酸和脂族多价醇化合物的酯，以及不饱和羧酸和脂族多价胺化合物的酰胺以及它们的聚合物。此外，适宜地使用具有亲核取代基如羟基、酰胺基、巯基等的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能异氰酸酯或环氧树脂类的聚合加成反应产物，或与单官能或多官能羧酸等的脱水缩合反应产物。此外，还适宜地使用具有亲电取代基如异氰酸酯基团或环氧基等的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能醇、胺或硫醇的聚合加成反应产物，或具有离去取代基如卤素基团或甲苯磺酰氧基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能醇、胺或硫醇的取代反应产物。此外，作为其他实例，可以使用被乙烯基苯衍生物如不饱和膦酸、苯乙烯等、乙烯醚、烯丙基醚等代替不饱和羧酸进行取代的化合物基团。
作为如这些的具体实例，JP2009-288705A的段号0095至0108中公开的化合物也可以在本发明中合适地使用。
此外，作为可聚合化合物，在大气压下具有100℃以上的沸点的具有至少一个能够加成聚合的乙烯基并且具有烯型不饱和基团的化合物也是优选的。作为实例，可以包括：单官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯如聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯；多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯如聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三(丙烯酰氧基丙基)异氰脲酸酯、在将环氧乙烷或环氧丙烷加入至多官能醇如甘油或三羟甲基乙烷之后转化的(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯如JP1973-41708B(JP-S48-41708B)、JP1975-6034B(JP-S50-6034B)和JP1976-37193A(JP-S51-37193A)的每一个中公开的那些，聚酯丙烯酸酯如JP1973-64183A(JP-S48-64183A)、JP1974-43191B(JP-S49-43191B)和 JP1977-30490B(JP-S52-30490B)的每一个中公开的那些，以及作为环氧树脂与(甲基)丙烯酸酯的产物的环氧丙烯酸酯和这些的混合物。还可以包括由环醚基如(甲基)丙烯酸缩水甘油酯与具有烯型不饱和基团的化合物与多官能羧酸的反应获得的多官能(甲基)丙烯酸酯。
此外，作为优选的可聚合化合物，还可以使用在JP2010-160418A、JP2010-129825A、JP4364216B等的说明书中公开的具有芴环和两个以上烯型不饱和基团官能团的化合物或轴节树脂。
同样作为在大气压下具有100℃以上的沸点并且具有至少一个能够加成聚合的乙烯基的具有烯型不饱和基团的化合物，JP2008-292970A的段号0254至0257中公开的化合物也是合适的。
除了以上之外，也合适地使用由下列通式(MO-1)至(MO-5)表示的可自由基聚合单体。而且，在该式中，当T是亚烷氧基时，碳原子侧的末端连接至R。
[化学式77]
[化学式78]
在上面的通式中，n是0至14并且m是1至8。在一个分子内以复数存在的R和T可以分别彼此相同或不同。
在由下列通式(MO-1)至(MO-5)表示的可聚合化合物的每-个中，以复数存在的R中的至少一个表示由-OC(=O)CH=CH2或-OC(=O)C(CH3)=CH2表示的基团。
作为由下列通式(MO.1)至(MO-5)表示的可聚合化合物的具体实例，在本发明中可以合适地使用JP2007-269779A的段号0248至段号0251中公开的化合物。
此外，也可以使用如JP1998-62986A(JP-H10-62986A)中用具体实例的通式(1)和(2)公开的在将环氧乙烷或环氧丙烷加入至多官能醇之后的转化后的(甲基)丙烯酸酯化合物作为可聚合化合物。
其中，作为可聚合化合物，优选的是：二季戊四醇三丙烯酸酯(KAYARAD D-330，为可商购产品；由Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造)、二季戊四醇四丙烯酸酯(KAYARAD D-320，为可商购产品；由Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造)、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(KAYARAD D-310，为可商购产品；由Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(KAYARAD DPHA，为可商购产品；由Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造)以及其中这些(甲基)丙烯酰基通过乙二醇或丙二醇残基连接的结构。可以使用这些的低聚物类型。在下文中，给出可聚合化合物的优选方面。
聚合化合物可以具有酸性基团如羧基、磺酸酯基或磷酸酯基作为多官能单体。如果烯型化合物具有未反应的羧基，如在如上的混合物的情况下， 这可以按原状使用，然而，按需要，可以将酸性基团通过非芳族羧酸酐与上面描述的烯型化合物的羟基反应引入。在这种情况下，作为所使用的非芳族羧酸酐的具体实例，可以包括四氢邻苯二甲酸酐、烷基化的四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、烷基化的六氢邻苯二甲酸酐、琥珀酸酐、马来酸酐等。
在本发明中，具有酸性基团的单体是脂族多羟基化合物与不饱和羧酸的酯，并且优选的是通过使脂族多羟基化合物的未反应的羟基与脂族羧酸酐反应而具有酸性基团的多官能单体。
在该酯中，作为季戊四醇和/或二季戊四醇的脂族多羟基化合物是特别优选的。作为可商购产品，可以包括例如作为由Toagosei Co.，Ltd.制造的多碱改性的丙烯酰基低聚物的M-510和M-520。
作为本发明中的着色辐射敏感组合物，该可聚合化合物可以单独使用，然而，如果在可聚合化合物的制备中获得单一的化合物是困难的，则也可以作为两个以上的组合使用。
此外，如果需要，可以将不具有酸性基团的多官能单体和具有酸性基团的多官能单体一起用作可聚合化合物。
具有酸性基团的多官能单体的酸值优选为0.1至40mg-KOH/g并且特别优选5至30mg-KOH/g。如果多官能单体的酸值过低，则显影溶解特性变差并且如果过高，则制备或处理变得困难，因此光聚合性能变低并且固化性质如像素的表面光滑性变得不足。因此，当一起使用两种以上不同酸基的多官能单体时，或当一起使用不具有酸性基团的多官能单体时，优选的是将作为全部多官能单体的酸值调节至上面描述的范围之内。
作为可聚合化合物，含具有己内酯结构的多官能单体也是优选的方面。
对具有己内酯结构的可聚合化合物没有特别地限定，条件是在分子内包含己内酯结构，然而，可以包括由多价醇如三羟甲基乙烷、三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷、二-三羟甲基丙烷、以及季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、甘油、二甘油、三羟甲基三聚氰胺等与(甲基)丙烯酸和ε-己内酯的酯化获得的ε-己内酯改性的多官能(甲基)丙烯酸酯。其中，具有由下列通式(Z-1)表示的己内酯结构的多官能单体是优选的。
[化学式79]
在通式(Z-1)中，全部六个R是由下列通式(Z-2)表示的基团，或六个R中的1至5个是由下列通式(Z-2)表示的基团并且余下的是由下列通式(Z-3)表示的基团。
[化学式80]
在通式(Z-2)中，R1表示氢原子或甲基，m表示1或2的数，并且“*”表示连接臂。
[化学式81]
在通式(Z-3)中，R1表示氢原子或甲基并且“*”表示连接臂。
作为具有己内酯结构的多官能单体，例如，可以包括DPCA-20(式(1)至(3)中的化合物，其中m=1，由式(2)表示的基团的数目=2，并且R1全部是氢原子)，DPCA-30(其中m=1，由式(2)表示的基团的数目=3，并且R1全部是氢原子的相同的式中的化合物)，DPCA-60(其中m=1，由式(2)表示的基团的数目=6，并且R1全部是氢原子的相同的式中的化合物)，以及DPCA-120(其中m=2，由式(2)表示的基团的数目=6，并且R1全部是氢原子的相同的式中的化合物)，其全部是作为KAYARAD DPCA系列可商购自Nippon Kayaku Co.，Ltd.等的产品。
在本发明中，可以或者单独或者作为两个以上的组合使用具有己内酯结构的多官能单体。
作为本发明中的可聚合化合物，含具有2个碳原子以上的亚烷基氧基(亚乙基氧基、亚丙基氧基、亚丁基氧基等)的可聚合化合物是优选的。
在含具有2个碳原子以上的亚烷基氧基的可聚合化合物中，选自由下列通式(i)或(ii)表示的化合物的组的至少一种类型是特别优选的。
[化学式82]
在通式(i)或(ii)中，E各自独立地表示-((CH2)vCH2O)-或-((CH2)vCH(CH3)O)-，y各自独立地表示0至10的整数，X各自独立地表示丙烯酰基、甲基丙烯酰基、氢原子或羧基。
在通式(i)中，由X表示的丙烯酰基和甲基丙烯酰基的总和是3或4，m各自独立地表示0至10的整数，并且m的总和或每一个是0至40的整数。然而，如果每个m的总和是0，则X的任一个是羧基。
在通式(ii)中，由X表示的丙烯酰基和甲基丙烯酰基的总和是5或6，n各自独立地表示0至10的整数，并且n的总和或每一个是0至60的整数。然而，如果每个m的总和是0，则X中的任一个是羧基。
在通式9i)中，m优选是0至6的整数并且更优选0至4的整数。而且，每个m的总和优选为2至40的整数，更优选2至16的整数，并且特别优选4至8的整数。
在通式9ii)中，n优选是0至6的整数和更优选0至4的整数。而且，每个n的总和优选为3至60的整数，更优选3至24的整数，并且特别优选6至12的整数。
此外，在通式(i)或(ii)中的-((CH2)vCH2O)-或-((CH2)vCH(CH3)O)-中，其中氧原子侧的末端连接至X的形式是优选的。
由通式(i)或(ii)表示的化合物可以或者单独使用或者作为两个以上的组合使用。特别是，在通式(ii)中，优选的是全部6个X是丙烯酰基。
由通式(i)或(ii)表示的化合物可以由全部是常规公知步骤的下列步骤合成：其中通过环氧乙烷或环氧丙烷与季戊四醇或二季戊四醇的开环加成而使开环骨架连接的步骤，以及其中使开环骨架的末端羟基与例如(甲基)丙烯酰氯的反应而引入(甲基)丙烯酰基的步骤。每个步骤是公知的步骤并且本领域技术人员可以容易地合成由通式(i)或(ii)表示的化合物。
在由通式(i)或(ii)表示的化合物中，季戊四醇衍生物和/或二季戊四醇衍生物是更优选的。
具体地，可以包括由下式(a)至(f)表示的化合物(在下文中，也称为“实例化合物(a)至(f)”)，并且其中，优选的是实例化合物(a)、(b)、(e)和(f)。
特别是，作为可聚合化合物，实例化合物(b)是有效的并且可以显著地提高本发明的效果。
[化学式83]
[化学式84]
作为由通式(i)或(ii)表示的可聚合化合物的可商购产品，可以包括由Sartomer Company，Inc.制造的作为具有四个亚乙氧基链的四-官能丙烯酸酯的SR-494，由Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造的作为具有六个亚戊基氧基链的六官能的丙烯酸酯的DPCA-60，以及作为具有三个亚异丁基氧基链的三官能丙烯酸酯的TPA-330等。
作为可聚合化合物，也可以使用Journal of the Adhesion Society of Japan，第20卷，第7期(第300至308页)中作为可光固化单体和低聚物介绍的那些。
相对于组合物的全部固体，着色组合物中可聚合化合物的含量优选为2至50质量％，更优选2至30质量％，并且再更优选2至25质量％。
＜(D)聚合引发剂＞
优选通过经由含有(C)可聚合化合物和(D)聚合引发剂对着色组合物给出辐射固化性质而使得本发明的着色组合物成为着色辐射敏感组合物。
作为聚合引发剂，可以使用作为下面描述的光聚合引发剂已知的那些。
对聚合引发剂没有特别地限定，条件是它具有引发可聚合化合物的聚合的能力，并且可以在公知的光聚合引发剂中适当地选择。例如，具有从紫外区域至可见光的辐射-灵敏度是优选的。此外，可以使用从光激发增感剂的特定作用产生活性自由基的激活剂，也可以依赖于单体的类型使用引发剂如引发阳离子聚合的一类。
还优选的是光聚合引发剂含有这样至少一种类型的化合物，其在大约300nm至800nm的范围内(330nm至500nm是更优选的)具有至少大约50的分子消光系数。
作为聚合引发剂，例如，可以包括卤化烃衍生物(例如，具有三嗪骨架的那些、具有
二唑骨架的那些等)、酰基膦化合物如酰基氧化膦、六芳基联咪唑、肟化合物如肟衍生物、有机过氧化物、硫代化合物、酮化合物、芳族嗡盐、酮肟醚、氨基苯乙酮化合物、羟基苯乙酮等。其中，肟化合物是优选的。
作为具有三嗪骨架的卤代烃衍生物，例如，可以包括Wakabayashi等，Bull.Chem.Soc.日本，42，2924(1969)中公开的化合物，GB1388492B中公开的化合物、JP1978-133428A(JP-S53-133428A)中公开的化合物，DE3337024B中公开的化合物，F.C Schaefer等，J.Org.Chem.；29，1527(1964)中公开的化合物，JP1987-58241A(JP-S62-58241A)中公开的化合物，JP1993-281728A(JP-H05-281728A)中公开的化合物，JP1993-34920A(JP-H05-34920A)中公开的化合物，US4212976A等中公开的化合物。
作为US4212976A中公开的化合物，例如，可以包括具有
二唑骨架的化合物(例如，2-三氯甲基-5-苯基-1，3，4-
二唑、2-三氯甲基-5-(4-氯苯基)-1，3，4-
二唑、2-三氯甲基-5-(1-萘基)-1，3，4-
二唑、2-三氯甲基-5-(2-萘基)-1，3，4-
二唑、2-三溴甲基-5-苯基-1，3，4-二唑、2-三溴甲基-5-(2-萘基)-1，3，4-二唑；2-三氯甲基-5-苯乙烯基-1，3，4-
二唑、2-三氯甲基-5-(4-氯苯乙烯基)-1，3，4-
二唑、2-三氯甲基-5-(4-甲氧基苯乙烯 基)-1，3，4-
二唑、2-三氯-甲基-5-(1-萘基)-1，3，4-
二唑、2-三氯甲基-5-(4-正丁氧基苯乙烯基)-1，3，4-
二唑、2-三溴甲基-5-苯乙烯基-1，3，4-
二唑等)等。
而且，作为除了上面之外的聚合引发剂，可以包括吖啶衍生物(例如，9-苯基吖啶、1，7-双(9，9’-吖啶基)庚烷等)、N-苯基甘氨酸等、多卤素化合物(例如，四溴化碳、苯基三溴甲基砜、苯基三氯甲基酮等)、香豆素(例如，3-(2-苯并呋喃酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-苯并呋喃酰基)-7-(1-吡咯烷基)香豆素、3-苯甲酰基-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-甲氧基苯甲酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二甲基氨基苯甲酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3，3’-羰基双(5，7-二-正丙氧基香豆素)、3，3’-羰基双(7-二乙基氨基香豆素)、3-苯甲酰基-7-甲氧基香豆素、3-(2-呋喃甲酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二乙基氨基肉桂酰基)-7-二乙基氨基香豆素、7-甲氧基-3-(3-吡啶基羰基)香豆素、3-苯甲酰基-5，7-二丙氧基香豆素、7-苯并三唑-2-基香豆素，而且，JP1993-19475A(JP-H05-19475A)、JP1995-271028A(JP-H07-271028A)、JP2002-363206A、JP2002-363207A、JP2002-363208A、JP2002-363209A等中公开的香豆素化合物等)、酰基氧化膦(例如，双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦、双(2，6-二甲氧基苯甲酰基)-2,4,4-三甲基戊基苯基氧化膦、Lucirin TPO等)、金属茂(例如，双(η5-2,4-环戊二烯-1-基)-双(2，6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)钛、η5-环戊二烯基-η6-异丙苯基-铁(1+)-六氟磷酸酯(1-)等)或JP1978-133428A(JP-S53-133428A)、JP1982-1819A(JP-S57-1819A)、JP1982-6096A(JP-S57-6096A)或US3615455A中公开的化合物。
作为酮化合物，例如，可以包括二苯甲酮、2-甲基二苯甲酮、3-甲基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、4-甲氧基二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4-氯二苯甲酮、4-溴二苯甲酮、2-羧基二苯甲酮、2-乙氧基羰基二苯甲酮、二苯甲酮四甲酸或其四甲酯，或4,4’-双(二烷基氨基)二苯甲酮(例如，4,4’-双(二甲基氨基)二苯甲酮、4,4’-双二环己基氨基)二苯甲酮、4,4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮、4,4’-双(二羟乙基氨基)二苯甲酮、4-甲氧基-4’-二甲基氨基二苯甲酮、4,4’-二甲氧基二苯甲酮、4-二甲基氨基二苯甲酮、4-二甲基氨基苯乙酮、苄基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-甲基蒽醌、菲醌、咕吨酮、噻吨酮、 2-氯噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、芴酮、2-苄基-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代-1-丙酮、2-羟基-2-甲基-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙醇低聚物、二苯乙醇酮、二苯乙醇酮醚(例如，二苯乙醇酮甲基醚、二苯乙醇酮乙基醚、二苯乙醇酮丙基醚、二苯乙醇酮异丙基醚、二苯乙醇酮苯基醚、苄基二甲基缩酮)、吖啶酮、氯吖啶酮、N-甲基吖啶酮、正丁基吖啶酮、正丁基氯吖啶酮等。
作为聚合引发剂，还可以合适地使用羟基苯乙酮化合物、氨基苯乙酮化合物和酰基膦化合物。更具体地，可以使用JP1998-291969(JP-H10-291969)中公开的氨基苯乙酮系引发剂和JP4225898B中公开的酰基氧化膦系引发剂。
作为羟基苯乙酮系引发剂，可以使用IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959和IRGACURE-127(商品名：全部由BASF Group制造)。作为氨基苯乙酮系引发剂，可以使用IRGACURE-907、IRGACURE-369和IRGACURE-379(商品名：全部由BASF Group制造)，其全部是可商购产品。也可以使用JP2009-191179A中公开的其吸收波长与长波光源如405nm或365nm匹配的化合物。而且，作为酰基膦系引发剂，可以使用IRGACURE-819或DAROCUR-TPO(商品名：全部由BASF Group制造)，其全部是可商购产品。
作为聚合引发剂，更优选可以包括肟化合物。作为肟化合物的具体实例，可以使用JP2001-233842A中公开的化合物、JP2000-80068A中公开的化合物或JP2006-342166A中公开的化合物。
作为肟化合物如在本发明中作为聚合引发剂合适地使用的肟衍生物，例如，可以包括3-苯甲酰氧基亚氨基丁-2-酮、3-乙酰氧基亚氨基丁-2-酮、3-丙酰氧基亚氨基丁-2-酮、2-乙酰氧基亚氨基戊-3-酮、2-乙酰氧基亚氨基-1-苯基丙-1-酮、2-苯甲酰氧基亚氨基-1-苯基丙-1-酮、3-(4-甲苯磺酰氧基)亚氨基丁-2-酮、2-乙氧基羰基氧基亚氨基-1-苯基丙-1-酮等。
作为肟化合物，可以包括J.C.S.Perkin II(1979)第1653至1660页，J.C.S.Perkin II91979)第156至162页，Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)第202至232页，或JP2000-66385A公开的化合物， JP2000-80068A、JP2004-534797A和JP2006-342166A的每个中公开的化合物等。
在可商购产品中，也合适地使用IRGACURE OXE-01(由BASF Group制造)或IRGACURE OXE-02(由BASF Group基团)。
此外，作为除了以上之外的肟化合物，可以包括JP2009-519904A中公开的其中肟连接至咔唑(carbozole)的N位的化合物、US7626957B中公开的其中将杂取代基引入至二苯甲酮部分的化合物、JP2010-15025A和US2009/292039A中公开的其中将硝基引入至染料部分的化合物、WO2009/131189A中公开的酮肟系化合物、US7556910B中公开的其中在同一分子内包含三嗪骨架和肟骨架的化合物、JP2009-221114A中公开的在405nm具有最大吸收并具有令人满意的对于g射线光源的灵敏度的化合物等。
还优选地，可以合适地使用JP2007-231000A和JP2007-322744A中公开的环状肟化合物。在环状肟化合物中，特别是，从归因于高吸光度的高灵敏度的角度，JP2010-32985A和JP2010-185072A中公开的与咔唑染料缩合的环状肟化合物是优选的。
此外，JP2009-242469A中公开的在肟化合物的具体位点具有不饱和键的化合物可以通过从聚合惰性自由基产生活性自由基而获得高灵敏度并且也可以合适地使用。
最优选地，可以包括JP2007-269779A中公开的具有具体的取代基的肟化合物或JP2009-191061A中公开的具有硫代芳基的肟化合物。
具体地，作为肟化合物，由下列通式(OX-1)表示的化合物是优选的。此外，肟化合物的N-O键可以是肟化合物的(E)同分异构体，肟化合物的(Z)同分异构体，或者(E)同分异构体和(Z)同分异构体的混合物。
[化学式85]
在通式(OX-1)中，R和B各自独立地表示单价取代基，A表示二价有机基团并且Ar表示芳基。
在通式(OX-1)中，作为由R表示的单价取代基，单价非金属原子团是优选的。
作为单价非金属原子团，可以包括烷基、芳基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂环基、烷基硫代羰基、芳基硫代羰基等。这些基团还可以具有一个或多个取代基。上面描述的取代基还可以被其他取代基取代。
作为取代基，可以包括卤素原子、芳氧基、烷氧基羰基或芳氧基羰基、酰氧基、酰基、烷基、芳基等。
作为可以具有取代基的烷基，具有1至30个碳原子的烷基是优选的并且具体地，可以示例的是：甲基、乙基、丙基、丁基、己基、辛基、癸基、十二烷基、十八烷基、异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、1-乙基戊基、环戊基、环己基、三氟甲基、2-乙基己基、苯甲酰基、1-萘甲酰基甲基、2-萘甲酰基甲基、4-甲基硫烷基苯甲酰甲基、4-苯基硫烷基苯甲酰甲基、4-二甲基氨基苯甲酰甲基、4-氰基苯甲酰甲基、4-甲基苯甲酰甲基、2-甲基苯甲酰甲基、3-氟苯甲酰甲基、3-三氟甲基苯甲酰甲基和3-硝基苯甲酰甲基。
作为可以具有取代基的芳基，具有6至30个碳原子的芳基是优选的，并且具体地，苯基、联苯基、1-萘基、2-萘基、9-蒽基、9-菲基、1-芘基、5-并四苯基、1-茚基、2-薁基、9-芴基、三联苯基、四联苯基、邻-甲苯基、间-甲苯基、对-甲苯基、二甲苯基、邻-异丙苯基、间-异丙苯基和对-异丙苯基、莱基、并环戊二烯基、联萘基、三联萘基、四联萘基、庚搭烯基、联苯烯基、茚达
基(indacenyl group)、萤蒽基、二氢苊基、醋蒽烯基、非那烯基(phenalenyl group)、芴基、蒽基、联蒽基、三联蒽基、四联蒽基、蒽醌基、菲基、三亚苯基、芘基、
基、并四苯基、七曜烯基、苉基、苝基、戊芬基、并五苯基、四苝基、六苯基、并六苯基、卢比省基(rubycenyl group)、蒄基、三萘基、七苯基、并七苯基、皮蒽基、卵苯基可以是示例。
作为可以具有取代基的酰基，具有2至20个碳原子的酰基是优选的并且具体地，乙酰基、丙酰基、丁酰基、三氟乙酰基、戊酰基、苯甲酰基、1-萘甲酰基、2-萘甲酰基、4-甲基硫烷基苯甲酰基、4-苯基硫烷基苯甲酰 基、4-二甲基氨基苯甲酰基、4-二乙基氨基苯甲酰基、2-氯苯甲酰基、2-甲基苯甲酰基、2-甲氧基苯甲酰基、2-丁氧基苯甲酰基、3-氯苯甲酰基、3-三氟甲基苯甲酰基、3-氰基苯甲酰基、3-硝基苯甲酰基、4-氟苯甲酰基、4-氰基苯甲酰基和4-甲氧基苯甲酰基可以是示例。
作为可以具有取代基的烷氧基羰基，具有2至20个碳原子的烷氧基羰基是优选的，并且具体地，甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、丁氧基羰基、己氧基羰基、辛氧基羰基、癸氧基羰基、十八烷氧基羰基和三氟甲氧基羰基可以是示例。
作为可以具有取代基的芳氧基羰基，具体地，苯氧基羰基、1-萘基氧基羰基、2-萘基氧基羰基、4-甲基硫烷基苯基氧基羰基、4-苯基硫烷基苯基氧基羰基、4-二甲基氨基苯基氧基羰基、4-二乙基氨基苯基氧基羰基、2-氯苯基氧基羰基、2-甲基苯基氧基羰基、2-甲氧基苯基氧基羰基、2-丁氧基苯基氧基羰基、3-氯苯基氧基羰基、3-三氟甲基苯基氧基羰基、3-氰基苯基氧基羰基、3-硝基苯基氧基羰基、4-氟苯基氧基羰基、4-氰基苯基氧基羰基和4-甲氧基苯基氧基羰基可以是示例。
作为可以具有取代基的杂环基，包含氮原子、氧原子、硫原子或磷原子的芳族或脂族杂环是优选的。
具体地，噻吩基、苯并[b]噻吩基、萘并[2，3-b]噻吩基、噻蒽基、呋喃基、吡喃基、异苯并呋喃基、苯并二氢吡喃基、氧杂蒽基、吩
嗪基、2H-吡咯基、吡咯基、咪唑基、吡唑基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、吲嗪基、异吲哚基、3H-吲哚基、吲哚基、1H-吲唑基、嘌呤基、4H-喹嗪基、异喹啉基、喹啉基、酞嗪基、萘啶基、喹
啉基、喹唑啉基、肉啉基、蝶啶基、4aH-咔唑基、咔唑基、β-咔啉基、菲啶基、吖啶基、萘嵌二氮杂苯基、菲咯啉基、吩嗪基、吩砒嗪基、异噻唑基、吩噻嗪基、异
唑基、呋咱基、吩
嗪基、异色满基、色满基、吡咯烷基、吡咯啉基、咪唑啉基、咪唑烷基、吡唑烷基、吡唑啉基、哌啶基、哌嗪基、二氢吲哚基、异二氢吲哚基、奎宁环基、吗啉基和噻吨酮基可以是示例。
作为可以具有取代基的烷基硫代羰基，具体地，甲基硫代羰基、丙基硫代羰基、丁基硫代羰基、己基硫代羰基、辛基硫代羰基、癸基硫代羰基、十八烷基硫代羰基和三氟甲基硫代羰基可以是示例。
作为可以具有取代基的芳基硫代羰基，具体地，可以包括1-萘基硫代羰基、2-萘基硫代羰基、4-甲基硫烷基苯基硫代羰基、4-苯基硫烷基苯基硫代羰基、4-二甲基氨基苯基硫代羰基、4-二乙基氨基苯基硫代羰基、2-氯苯基硫代羰基、2-甲基苯基硫代羰基、2-甲氧基苯基硫代羰基、2-丁氧基苯基硫代羰基、3-氯苯基硫代羰基、3-三氟甲基苯基硫代羰基、3-氰基苯基硫代羰基、3-硝基苯基硫代羰基、4-氟苯基硫代羰基、4-氰基苯基硫代羰基和4-甲氧基苯基硫代羰基。
在通式(OX-1)中，作为由B表示的单价基，可以表示芳基、杂环基、芳基羰基、或杂环羰基。这些单价取代基还可以具有一个或多个取代基。作为取代基，上面描述的取代基可以是示例。上面描述的取代基还可以被其他取代基取代。
其中，如下所示的结构是特别优选的。
在后面的结构中，Y、X和n分别与后面描述的通式(OX-2)中的Y、X和n相同，并且优选的实例也是相同的。
[化学式861
在通式(OX-1)中，作为由A表示的二价有机基团，可以包括具有1至12个碳原子的亚烷基、亚环烷基或亚炔基。这些基团还可以具有一个或多个取代基。作为取代基，上面描述的取代基可以是示例。上面描述的取代基还可以被其他取代基取代。
其中，作为式(OX-1)中的A，从增加灵敏度抑制归因于超时加热的着色的角度，未取代的亚烷基，被烷基(例如，甲基、乙基、叔丁基或十二烷基)取代的亚烷基、被烯基(例如，乙烯基或烯丙基)取代的亚烷基以及被芳基(例如，苯基、对-甲苯基、二甲苯基、异丙苯基、萘基、蒽基、菲基或苯乙烯基)取代的亚烷基是优选的。
在通式(OX-1)中，作为由Ar表示的芳基，具有6至30个碳原子的芳 基是优选的，而且，芳基可以具有取代基。作为取代基，与上面在可以具有取代基的芳基的具体实例中描述的引入至取代的芳基的相同的取代基可以是示例。
其中，从增加灵敏度抑制归因于超时加热着色的角度，取代的或未取代的苯基是优选的。
从灵敏度的角度，在通式(OX-1)中，由通式(OX-1)中的Ar与和其相邻的S形成的“SAr”结构优选为如下所示的结构。而且，Me表示甲基并且Et表示乙基。
[化学式87]
肟化合物优选为由下列通式(OX-2)表示的化合物。
[化学式88]
(在通式(OX-2)中，R和X各自独立地表示单价取代基，A和Y各自独立地表示二价有机基团，Ar表示芳基，并且n是0至5的整数。)
通式(OX-2)中的R、A和Ar分别与通式(OX-1)中的R、A和Ar相同，并且优选的实例也是相同的。
在通式(OX-2)中，作为由X表示的单价基，可以包括烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、酰氧基、酰基、烷氧基羰基、氨基、杂环基或卤素原子。此外，这些单价可以具有一个或多个取代基。作为取代基，上面描述的取代基可以是示例。上面描述的取代基还可以被其他取代基取代。
其中，作为通式(OX-2)中的X，从溶剂溶解性和长波长区域中吸收效率提高的角度，烷基是优选的。
此外，通式(OX-2)中的n表示0至5的整数，并且0至2的整数是优选的。
在通式(OX-2)中，作为由Y表示的二价有机基团，可以包括如下所示的结构。而且，在如下所示的基团中，“*”表示，在通式(OX-2)中，与Y相邻的碳原子的结合位点。
[化学式89]
其中，从高灵敏度的角度，聚合引发剂优选具有如下所示的结构。[化学式90]
而且，肟化合物优选是由下列通式(OX-3)表示的化合物。
[化学式91]
(在通式(OX-3)中，R和X各自独立地表示单价取代基，A表示二价有机基团，Ar表示芳基，并且n是0至5的整数。)
通式(OX-3)中的R、X、A、Ar和n分别与通式(OX-2)中的R、X、A、Ar和n相同，并且优选的实例也是相同的。
适宜地使用的肟化合物的具体实例如下所示，然而，本发明不限于这些。
[化学式92]
[化学式93]
肟化合物在350nm至500nm的波长范围内具有最大吸收波长，在360nm至480nm的波长范围内具有最大吸收波长的化合物是优选的，并且在365nm和455nm具有高吸光度的化合物是特别优选的。
从灵敏度的角度，肟化合物在365nm和405nm的摩尔消光系数优选为1,000至300,000，更优选2,000至300,000，并且特别优选5,000至200,000。
该化合物的摩尔消光系数可以通过公知的方法测量，然而，具体地，使用例如紫外-可见分光光度计(Cary-5分光光度计，由Varian Medical Systems，Inc.制造)使用乙酸乙酯溶剂在0.01g/L的浓度测量是优选的。
本发明中的聚合引发剂可以按需要作为两种以上的组合使用。
作为聚合引发剂，从曝光灵敏度的角度，选自由以下各项组成的组的化合物是优选的：三卤甲基三嗪化合物、苄基二甲基缩酮化合物、α-羟基酮化合物、α-氨基酮化合物、酰基膦化合物、氧化膦化合物、金属茂化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚体、
化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物及其衍生物、环戊二烯-苯-铁配合物及其盐、卤甲基
二唑化合物、3-芳基取代的香豆素化合物。
三卤甲基三嗪化合物、α-氨基酮化合物、酰基膦化合物、氧化膦化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚体、
化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物是更优选的，并且选自由以下各项组成的组的至少一种类型化合物是最优选的：三卤甲基三嗪化合物、α-氨基酮化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚体、二苯甲酮化合物。
尤其是，在本发明的彩色滤光片的制造中，在未曝光区中没有残渣的情况下显影以及固化性质是重要的，因为细微图案需要以尖锐形状形成。 从这点考虑，使用肟化合物作为聚合引发剂是特别优选的。特别是，当在固态成像器件中形成细微图案时，使用通过步进机曝光装置曝光用于固化曝光，然而，该曝光装置有时由卤素损坏，并且需要将聚合引发剂的加入量抑制为低，因此，考虑到这一点，当形成细微图案如固态成像器件时，使用肟化合物是最优选的。
关于着色组合物的全部固体，着色组合物中含有的(D)聚合引发剂的含量优选大于或等于0.1质量％并且小于或等于50质量％，更优选大于或等于0.5质量％和小于或等于20质量％，并且再更优选大于或等于1质量％和小于或等于15质量％。在该范围内，可以获得令人满意的灵敏度和图案形成性质。
此外，在本发明的着色组合物中，可以按需要使用其他组分如增感剂、链转移剂、碱溶性树脂、聚合抑制剂、用于基板的粘合剂、表面活性剂等。
＜增感剂＞
本发明的着色组合物可以具有用于提高聚合引发剂的起始物种的出现效率或使得感光波长更长的目的的增感剂。作为增感剂，可以包括在300至450nm的波长区域内具有吸收波长的增感剂。
作为增感剂，可以包括多核芳族化合物如菲、蒽、芘、苝、三亚苯或9，10-二烷氧基蒽、咕吨如荧光素、曙红、赤藓红、若丹明B或玫瑰红、噻吨酮、花青、部花青、酞菁、噻嗪如硫堇、亚甲基蓝或甲苯胺蓝、吖啶、蒽醌、方酸、香豆素、吩噻嗪、噻吩、苯乙烯基苯、偶氮化合物、二苯基甲烷、三苯基甲烷、二苯乙烯基苯、咔唑、卟啉、螺环化合物、喹吖啶酮、靛青、苯乙烯基、吡喃
化合物、吡咯甲川化合物、吡唑并三唑化合物、苯并噻唑化合物、巴比妥酸衍生物、硫代巴比妥酸衍生物、芳族酮化合物如苯乙酮、二苯甲酮或米歇酮、杂环化合物如N-芳基
唑烷酮，等。
＜链转移剂＞
在本发明的着色组合物中，优选的是依赖于所使用的光聚合引发剂加入链转移剂。作为链转移剂，可以包括N，N-二烷基氨基苯甲酸烷基酯或硫醇系化合物，并且作为硫醇系化合物，可以或者单独或者作为两种以上 的组合使用2-巯基苯并噻唑、2-巯基-1-苯基苯并咪唑、3-巯基丙酸。
＜碱溶性树脂＞
本发明的着色组合物优选还含有碱溶性树脂。通过含有碱溶性树脂可显影性图案形成性质提高。
碱溶性树脂可以是直链的有机高分子量聚合物也可以适当地选自在分子中具有至少一个促进碱溶性的基团的碱溶性树脂(优选地，具有丙烯酸类系共聚物或苯乙烯系共聚物作为主链的分子)。
描述碱溶性树脂。
作为碱溶性树脂，从耐热性的角度，聚羟基苯乙烯系树脂、聚硅氧烷系树脂、丙烯酸类树脂、丙烯酰胺系树脂或丙烯酸类/丙烯酰胺共聚物树脂是优选的，并且从可显影性控制的角度，丙烯酸类树脂、丙烯酰胺系树脂或丙烯酸类/丙烯酰胺共聚物树脂是优选的。
作为促进碱溶性性质的基团(在下文中，也称为酸基)，例如，可以包括羧基、磷酸酯基、磺酸酯基、酚羟基，可以通过弱碱水溶液显影的在有机溶剂中可溶的那些是优选的，并且可以包含(甲基)丙烯酸作为特别优选的基团。这些酸基可以是仅一种类型，或者是两种以上类型。
作为在聚合之后能够赋予酸基的单体，例如，可以包括具有羟基的单体如2-羟乙基(甲基)丙烯酸酯、具有环氧基的单体如(甲基)丙烯酸缩水甘油酯，具有异氰酸酯基的单体如2-异氰酸根合乙基(甲基)丙烯酸酯等。用于引入这些酸基的单体可以仅是一种类型，或者是两种以上类型。为了将酸基引入至碱溶性粘合剂中，例如，可以将具有酸基的单体和/或在聚合之后能够赋予酸基的单体(在下文中，有时称为用于引入酸基的单体)作为单体组分聚合。此外，当使用在聚合之后能够赋予酸基的单体作为单体组分并且引入酸基时，如后面描述的在聚合之后赋予酸基的方法是需要的。
关于碱溶性树脂的制备，可以应用通过例如公知的自由基聚合方法的方法。聚合条件如温度、压力、自由基引发剂的类型及其量，或当通过自由基聚合方法制备碱溶性树脂时溶剂的类型可以由本领域技术人员容易地设定并且条件可以实验设定。
作为碱溶性树脂，在侧链中具有羧酸的聚合物是优选的，并且可以包 括其中将酸酐加入下列各项的那些：甲基丙烯酸共聚物，丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、马来酸共聚物、部分酯化的马来酸共聚物、碱溶性酚树脂如酚醛清漆类型树脂等，以及在侧链中具有羧酸的酸化纤维素衍生物，具有羟基的聚合物。特别是，(甲基)丙烯酸和可与(甲基)丙烯酸共聚的其他单体的共聚物作为碱溶性树脂是合适的。作为可与(甲基)丙烯酸共聚的其他单体，可以包括(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、乙烯基化合物等。作为(甲基)丙烯酸烷基酯和(甲基)丙烯酸芳基酯，可以包括(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲苯酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸环己酯等，作为乙烯基化合物，可以包括苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯烷酮、四氢糠基甲基丙烯酸酯、聚苯乙烯大单体、聚甲基丙烯酸甲酯大单体等，以及作为JP1998-300922A(JP-H10-300922A)中公开的N-取代的马来酰亚胺单体，可以包括N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺等。而且，这种可与(甲基)丙烯酸共聚的其他单体可以是仅一种类型，或者两种以上类型。
当着色辐射敏感组合物是正片型组合物时，可以合适地使用碱溶性酚树脂。作为碱溶性酚树脂，例如，可以使用酚醛清漆树脂、乙烯基聚合物等。
作为酚醛清漆树脂，例如，可以包括由酚与醛在酸催化剂的存在下缩合获得的那些。作为酚，例如，可以包括苯酚、甲酚、乙基苯酚、丁基苯酚、二甲苯酚、苯基苯酚、邻苯二酚、间苯二酚、邻苯三酚、萘酚、双酚A等。
作为醛，例如，可以包括甲醛、多聚甲醛、乙醛、或丙醛、苯甲醛等。
酚和醛可以或者单独或者作为两种以上的组合使用。
作为酚醛清漆树脂的具体实例，例如，可以包括间甲酚、对甲酚或该混合物和福尔马林的缩合产物。
酚醛清漆树脂的分子量分布可以使用如分馏的方式调节。此外，可以将具有酚羟基的低分子量组分如双酚C、双酚A等与酚醛清漆树脂混合。
为了提高本发明的着色组合物的交联效率，也可以使用具有可聚合基团的碱溶性树脂。作为具有可聚合基团的碱溶性树脂，可以使用在侧链等中包含烯丙基、(甲基)丙烯酸类基团、烯丙基氧基烷基等的碱溶性树脂。作为包含上面描述的可聚合基团的聚合物的实例，可以包括Dianal NR系列(由Mitsubishi Rayon Co.，Ltd.制造)、Photomer6173(含有COOH的聚氨酯丙烯酸类低聚物，由Diamond Shamrock Co.，Ltd.制造)、Viscoat R-264、KS抗蚀剂106(全部由Osaka Organic Chemical Industry Ltd.制造)、Cyclomer P系列、Placcel CF200系列(全部由Daicel Chemical Ind.，Ltd.制造)、Ebecryl3800(由Daicel-UCB Co.，Ltd.制造)等。
作为具有这些可聚合基团的碱溶性树脂，优选的是：氨基甲酸酯改性的含有可聚合双键的丙烯酸类树脂，其通过使异氰酸酯基团预先与OH基团反应，留下一个未反应的异氰酸酯基团，并且再使包含(甲基)丙烯酰基的化合物与包含羧基的丙烯酸类树脂反应而获得；含有不饱和基团的丙烯酸类树脂，其通过使包含羧基的丙烯酸类树脂与在分子内具有环氧基和可聚合双键两者的化合物反应而获得；酸悬垂型环氧丙烯酸酯树脂；其中使包含OH基团的丙烯酸类树脂和具有可聚合双键的二元酸酐反应的含有可聚合双键的丙烯酸类树脂；其中使包含OH基团的丙烯酸类树脂、异氰酸酯和具有可聚合双键的化合物反应的树脂；通过将JP2002-229207A和JP2003-335814A中公开的在侧链中的α位或β位具有分离基团如卤素原子或磺酸酯基的具有酯基的树脂碱处理而获得的树脂等。
作为碱溶性树脂，特别地，适宜的是(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸共聚物或由(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/其他单体构成的多组分共聚物是合适的。此外，可以包括JP1995-140654A(JP-H07-140654A)中公开的其中将甲基丙烯酸2-羟乙基酯共聚的共聚物，或(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯/聚苯乙烯大单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羟基-3-苯氧基丙基丙烯酸酯/聚甲基丙烯酸甲酯大单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物，甲基丙烯酸2-羟乙酯/聚苯乙烯大单体/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物，甲基丙烯酸2-羟乙酯/聚苯乙烯大单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物等。
所述碱溶性树脂优选含有通过聚合单体组分形成的聚合物(a)，所述 单体组分需要具有由下列通式(ED)表示的化合物(在下文中，也适当地称为“醚二聚体”)。
通过使用聚合物(a)，在本发明的着色组合物中，可以形成不仅在耐热性而且在透明性方面都极其优异的的固化涂布膜。
[化学式94]
在通式(ED)中，R1和R2各自独立地表示氢原子或可以具有取代基的具有1至25个碳原子的烃基。
在通式(ED)中，对由R1和R2表示的可以具有取代基的具有1至25个碳原子的烃基没有特别地限定，然而，例如，可以包括直链或支链烷基如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、叔戊基、硬脂基、月桂基或2-乙基己基；芳基如苯基；脂环基团如环己基、叔丁基环己基、二环戊二烯基、三环癸基、异冰片基、金刚烷基或2-甲基-2-金刚烷基；被烷氧基取代的烷基如1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基；被芳基取代的烷基如苄基；等。其中，从耐热性的角度，难以由酸或热所致而离解的伯或仲碳的取代基如甲基、乙基、环己基或苄基是优选的。
醚二聚体的具体实例，例如，可以包括二甲基-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二乙基-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二(正丙基)-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二(异丙基)-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二(正丁基)-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二(异丁基)-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二(叔丁基)-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二(叔戊基)-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二(硬脂基)-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二(月桂基)-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二(2-乙基己基)-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二(1-甲氧基乙基)-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二(1-乙氧基乙基)-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二苄基-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二苯基-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二环己基 -2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二(t-环己基)-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二(二环戊二烯基)-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二(三环癸基)-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二(异冰片基)-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、联金刚烷基-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二(2-甲基-2-金刚烷基)-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯等。其中，二甲基-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二乙基-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯、二环己基-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯或二苄基-2，2’-[氧基双(亚甲基)]双-2-丙烯酸酯是优选的。这些醚二聚体可以是仅一种类型，或是两种以上类型。
对用于获得聚合物(a)的单体中醚二聚体的比例没有特别地限定，然而，从由着色组合物形成的涂布膜的透明性和耐热性的角度，为优选全部单体组分中的2至60质量％，更优选5至55质量％，并且再更优选5至50质量％。
聚合物(a)可以是其中将其他单体与醚二聚体一起共聚的共聚物。
作为可与醚二聚体共聚的其他二聚体，例如，可以包括为引入酸基的单体、为引入可自由基聚合双键的单体、为引入环氧基的单体，以及除了这些之外能够共聚的其他单体。像这样的单体可以或者仅作为一种类型使用，或者作为两种以上类型使用。
作为为引入酸基的单体，例如，可以包括具有羧基的单体如(甲基)丙烯酸或衣康酸、具有酚羟基的单体如N-羟基苯基马来酰亚胺、具有羧酸酐的单体如马来酸酐或衣康酸酐等。其中，(甲基)丙烯酸是特别优选的。
为引入酸基的单体也可以是在聚合之后能够赋予酸基的单体，例如，可以包括具有羟基的单体如(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、具有环氧基的单体如(甲基)丙烯酸缩水甘油酯，具有异氰酸酯基团的单体如(甲基)丙烯酸2-异氰酸基乙酯等。当使用为引入酸基的单体时，在聚合之后需要进行其中赋予酸基的方法。其中赋予酸基的方法依赖于单体的类型是不同的，并且例如可以包括以下方法。如果使用具有羟基的单体，例如，可以包括其中加入酸酐如琥珀酸酐、四氢邻苯二甲酸酐或马来酸酐的方法。如果使用具有环氧基的单体，可以包括例如其中加入具有氨基如N-甲基氨基苯甲酸或N-甲基氨基苯酚和酸基的化合物的方法，或者例如其中将酸酐如琥珀酸 酐，四氢邻苯二甲酸酐或马来酸酐加入至在加入酸如(甲基)丙烯酸之后形成的羟基的方法。如果使用具有异氰酸酯基的单体，例如，可以包括其中加入具有羟基的化合物如2-羟基丁酸和酸基的化合物的方法。
当用于获得聚合物(a)的单体包含为引入酸基的单体时，对含量比没有特别地限定，然而，优选全部单体组分中的5至70质量％并且更优选10至60质量％。
作为用于引入可自由基聚合双键的单体，例如，可以包括具有羧基的单体如(甲基)丙烯酸或衣康酸；具有羧酸酐的单体如马来酸酐或衣康酸酐；具有环氧基的单体如(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯、或邻-(或间-，或对-)乙烯基苄基缩水甘油醚；等。当使用用于引入可自由基聚合双键的单体时，其中赋予可自由基聚合双键的方法需要在聚合之后进行。其中赋予可自由基聚合双键的方法依赖于单体的类型是不同的，并且例如可以包括以下方法。如果使用具有羧基的单体如(甲基)丙烯酸或衣康酸，可以包括其中加入具有环氧基以及可自由基聚合双键的化合物如(甲基)丙烯酸缩水甘油酯，(甲基)丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯，或邻-(或间-，或对-)乙烯基苄基缩水甘油醚的方法。如果使用具有羧酸酐的单体如马来酸酐或衣康酸酐，可以包括其中加入具有羟基以及可自由基聚合双键的化合物如(甲基)丙烯酸2-羟乙酯的方法。如果使用具有环氧基的单体如(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯、或邻-(或间-，或对-)乙烯基苄基缩水甘油醚，可以包括其中加入具有酸基以及可自由基聚合双键的化合物如(甲基)丙烯酸的方法。
当用于获得聚合物(a)的单体包含用于引入可自由基聚合双键的单体时，对含量比没有特别地限定，然而，优选为全部单体组分中的5至70质量％并且更优选10至60质量％。
作为为引入环氧基的单体，例如，可以包括(甲基)丙烯酸缩水甘油酯，(甲基)丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯、邻-(或间-，或对-)乙烯基苄基缩水甘油醚等。
当用于获得聚合物(a)的单体包含用于引入环氧基的单体时，对含量比没有特别地限定，然而，优选为全部单体组分中的5至70质量％并且更优选10至60质量％。
作为能够共聚的其他单体，例如，可以包括(甲基)丙烯酸酯如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己基甲酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸苄酯或(甲基)丙烯酸2-羟乙酯；芳族乙烯基化合物如苯乙烯、乙烯基甲苯或α-甲基苯乙烯；N-取代的马来酰亚胺如N-苯基马来酰亚胺或N-环己基马来酰亚胺；丁二烯或取代的丁二烯化合物如丁二烯或异戊二烯；乙烯或乙烯取代的化合物如乙烯、丙烯、氯乙烯或丙烯腈；乙烯基酯如乙酸乙烯酯；等。其中，从透明性令人满意、耐热性难以损坏的角度，(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸苄酯或苯乙烯是优选的。
当用于获得聚合物(a)的单体包含能够共聚的其他单体时，对含量比没有特别地限定，然而，优选为95质量％以下并且更优选85质量％以下。
对聚合物(a)的重均分子量没有特别地限定，然而，从着色组合物的粘度和由组合物形成的涂布膜的耐热性的角度，为优选2,000至200,000，更优选5,000至100,000，并且再更优选5,000至20,000。
而且，当聚合物(a)具有酸基时，酸值为优选30至500mgKOH/g并且更优选50至400mgKOH/g。
聚合物(a)至少可以通过将需要具有醚二聚体的单体聚合而容易地获得。此时，四氢呋喃环结构通过醚二聚体与聚合同时的环化反应形成。
对应用至聚合物(a)的合成的聚合方法没有特别地限定，并且可以采用多种公知的聚合方法，然而，特别是，溶液聚合方法是优选的。详细地，例如，根据JP2004-300204A中公开的聚合物(a)的合成方法可以合成聚合物(a)。
聚合物(a)的示例化合物如下所示，然而，本发明不限于这些。如下所示的示例化合物的组成比是摩尔％。
[化学式95]
[化学式96]
作为碱溶性树脂，特别是，(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸共聚物或由(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/其他单体构成的多组分共聚物是合适的。此外，可以包括其中将甲基丙烯酸2-羟乙酯共聚的共聚物，或JP1995-140654A(JP-H07-140654A)中公开的(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯/聚苯乙烯大单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羟基-3-苯氧基丙基丙烯酸酯/聚甲基丙烯酸甲酯大单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羟乙酯/聚苯乙烯大单体/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羟乙酯/聚苯乙烯大单体/甲基丙烯苄酸/甲基丙烯酸共聚物。
为了提高本发明的着色组合物的交联效率，也可以使用具有可聚合基团的碱溶性树脂。
作为具有可聚合基团的碱溶性树脂，在侧链等中包含烯丙基、(甲基)丙烯酸基、烯丙基氧基烷基等的碱溶性树脂是可用的。作为具有这些可聚合基团的碱溶性树脂，优选的是：氨基甲酸酯改性的含有可聚合双键的丙烯酸类树脂，其通过使异氰酸酯基团预先与OH基团反应，留下一个未反应的异氰酸酯基团，并且再使包含(甲基)丙烯酰基的化合物与包含羧基的丙烯酸类树脂反应而获得；含有不饱和基团的丙烯酸类树脂，其通过使包含羧基的丙烯酸类树脂与在分子内具有环氧基和可聚合双键两者的化合物反应而获得；酸悬垂型环氧丙烯酸酯树脂；其中使包含OH基团的丙烯酸类树脂和具有可聚合双键的二元酸酐反应的含有可聚合双键的丙烯酸类树脂；其中使包含OH基团的丙烯酸类树脂、异氰酸酯和具有可聚合双键的化合物反应的树脂；通过将JP2002-229207A和JP2003-335814A中公开的在侧链中的α位或β位具有分离基团如卤素原子或磺酸酯基的具有酯基的树脂碱处理而获得的树脂等。
碱溶性树脂的酸值为优选30至200mgKOH/g，更优选50至150mgKOH/g，并且最优选70至120mgKOH/g。
而且，碱溶性树脂的重均分子量(Mw)为优选2,000至50,000，更优选5,000至30,000，并且最优选7,000至20,000。
作为着色组合物中碱溶性树脂的含量，关于组合物的全部固体1至15质量％是优选的，2至12质量％是更优选的，并且3至10质量％是再更优选的。
＜聚合抑制剂＞
在本发明的着色组合物中，优选的是加入小量的聚合抑制剂，以便在制备或储存着色组合物的同时防止可聚合化合物的不需要的热聚合。
作为在本发明中可以使用的聚合抑制剂，可以包括氢醌、对甲氧基苯酚、二叔丁基对甲酚、邻苯三酚、叔丁基邻苯二酚、苯醌、4,4’-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、N-亚硝基苯胲的铈(I)盐等。其中，对甲氧基苯酚是优选的。
聚合抑制剂的加入量为关于着色组合物的质量优选大约0.01质量％至大约5质量％。
＜用于基板的粘合剂＞
在本发明中，可以加入可以提高对基板的粘附性的用于基板的粘合剂。
作为用于基板的粘合剂，使用硅烷系偶联剂、钛酸盐系偶联剂或铝系偶联剂是优选的。作为硅烷系偶联剂，例如，可以使用γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷等。其中，γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷作为用于基板的粘合剂是优选的。
从当将着色组合物曝光并显影时在未曝光区中不留下残渣的角度，相对于着色组合物的全部固体，用于基板的粘合剂的含量优选大于或等于0.1质量％并且小于或等于30质量％，更优选大于或等于0.5质量％并且小于或等于20质量％，并且再更优选大于或等于1质量％并且小于或等于10质量％。
＜表面活性剂＞
从进一步提高涂布性能的角度，可以将多种表面活性剂加入至着色组合物中。作为表面活性剂，可以使用多种表面活性剂如氟系表面活性剂、非离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、阴离子表面活性剂或硅氧烷系表面活性剂。
特别是，在着色组合物中，通过含有氟系表面活性剂，涂层厚度的均匀性或液体节约性质可以进一步提高，因为当作为涂布液制备时液体的性质(尤其是液体性)进一步提高。
换言之，当使用其中应用含有氟系表面活性剂的着色组合物的涂布液形成膜时，对涂布表面的湿润性质提高，因为涂布表面与涂布液之间的界面张力降低，从而对涂布表面的涂布性质提高。作为结果，在适宜地形成具有小厚度变化的均匀厚度的膜上是有效的，即使当使用小量的液体量形成数个μm的薄膜时。
作为氟系表面活性剂中的氟含量，3质量％至40质量％是合适的，5质量％至30质量％是更优选的，并且7质量％至25质量％是特别优选的。 具有该范围内的氟含量的氟系表面活性剂在涂布膜的厚度均匀性或液体节约性的方面上是有效的，并且在着色组合物中的溶解性也是令人满意的。
作为氟系表面活性剂，例如，可以包括Megafac F171、Megafac F172、Megafac F173、Megafac F176、Megafac F177、Megafac F141、Megafac F142、Megafac F143、Megafac F144、Megafac R30、Megafac F437、Megafac F475、Megafac F479、Megafac F482、Megafac F554、Megafac F780或Megafac F781(以上，由DIC Corporation制造)、Fluorad FC430、Fluorad FC431或Fluorad FC171(以上，由Sumitomo3M Limited制造)、Surflon S-382、Surflon SC-101、Surflon SC-103、Surflon SC-104、Surflon SC-105、Surflon SC1068、Surflon SC-381、Surflon SC-383、Surflon S393或Surflon KH-40f以上，由Asahi Glass，Co.，Ltd.制造)等。
作为非离子表面活性剂，具体地，可以包括甘油、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷、以及它们的乙氧基化物和丙氧基化物(例如，甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油烯基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯或脱水山梨醇脂肪酸酯(BASF Group制造的Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、Tetronic304、701、704、901、904、150R1)、Solsperse20000(由Lubrizol Japan Limited制造)等。
作为阳离子表面活性剂，具体地，可以包括酞菁衍生物(商品名：EFKA-745，由Morishita Co.，Ltd.制造)、有机硅氧烷聚合物KP341(由Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.制造)、(甲基)丙烯酸系(全)共聚物Polyflow.No.75，No.90或No.95(由Kyoeisha Chemical Co.，Ltd.制造)、W001(由Yusho Co.Ltd.制造)等。
作为阴离子表面活性剂，具体地，可以包括W004、W005或W017(由Yusho Co.Ltd.，制造)等。
作为硅氧烷系表面活性剂，例如，可以包括Toray Silicone DC3PA、Toray Silicone SH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray Silicone SH21PA、Toray Silicone SH28PA、Toray Silicone SH29PA、Toray Silicone SH30PA或Toray Silicone SH8400(以上，由Dow Coming Toray Co.，Ltd.制造)， TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460或TSF-4452(以上，由Momentive Performance Materials，Inc.制造)、KP341、KF6001或KF6002(以上，由Shin-Etsu Silicone Co.，Ltd.制造)、BYK307、BYK323或BYK330((以上，由BYK-Chemie GmbH制造)等。
表面活性剂可以或者单独使用或者作为两种以上的组合使用。
关于着色组合物的总质量，表面活性剂的加入量为优选0.001质量％至2.0质量％，更优选0.005质量％至1.0质量％。
＜其他＞
本发明的着色组合物可以含有多种添加剂：如链转移剂如N,N-二烷基氨基烷基苯甲酸酯或2-巯基苯并噻唑；热聚合引发剂如偶氮系化合物或过氧化物系化合物；促进热聚合组分、膜强度或灵敏度的目的的多官能硫醇或环氧化合物；紫外线吸收剂如烷氧基二苯甲酮；增塑剂如邻苯二甲酸二辛酯；可显影性提高剂如低分子量有机羧酸；其他填充剂；除了碱溶性树脂之外的聚合物化合物；抗氧化剂；或聚集抑制剂。
还可以加入热固化剂以便通过在显影之后加热而增加膜的固化度。作为热固化剂，可以包括热聚合引发剂如偶氮系化合物或过氧化物系化合物、酚醛清漆树脂、可熔酚醛树脂、环氧化合物和苯乙烯化合物。
将本发明的着色组合物与每个组分如染料聚合物、有机溶剂、可聚合化合物、聚合引发剂，以及按需要的碱溶性树脂和表面活性剂一起搅拌混合，并且按需要如下进行过滤，并且可以制备红色、绿色和蓝色的着色组合物。
优选将本发明的着色组合物用于移除杂质或减少缺陷的目的而使用过滤器进行过滤。可以不带有特别限制地使用已经用于过滤的任何方法。例如，可以包括由氟树脂如PTFE(聚四氟乙烯)、聚酰胺系树脂如尼龙-6或尼龙6,6、聚烯烃树脂如聚乙烯或聚丙烯(包括高密度或超高分子量)等形成的过滤器。在这些材料中，聚丙烯(包括高密度聚丙烯)是优选的。
作为过滤器孔的直径，大约0.01至7.0μm是合适的，大约0.01至2.5μm是优选的，并且大约0.01至2.0μm是更优选的。通过将直径保持在该范围内，可以容易地移除在后面的过程中抑制均匀和光滑的着色组合 物的制备的细小杂质。
当使用时，过滤器可以与其他过滤器组合。在这种情况下，第一过滤器中的过滤可以仅进行一次，或两次以上。
具有不同的孔径的第一过滤器也可以在上面描述的范围内组合。这里，孔径可以是指过滤器制造商的标称值。可商购的过滤器可以在由，例如，Pall Corporation，Advantec Toyo Kaisha，Ltd.，Nihon Entegris K.K.(之前的Mykrolis Corporation)，Kitz Microfilter Corporation等提供的多种过滤器中选择。
作为第二过滤器，可以使用用与上面描述的第一过滤器相同的材料形成的过滤器。
例如，第一过滤器中的过滤可以仅对分散液进行，并且第二过滤可以在将其他组分混合之后进行。
[由着色辐射敏感组合物制造彩色滤光片]
接下来，将描述使用本发明的着色辐射敏感组合物的本发明的彩色滤光片及其制备方法。
本发明的彩色滤光片包含通过使用上面描述的着色辐射敏感组合物在基板上形成的着色区域(着色图案)。
在下文中，将通过其制备方法(本发明的彩色滤光片的制备方法)详细描述本发明的彩色滤光片。
本发明的彩色滤光片的制备方法包括：其中将着色辐射敏感组合物涂布至基板上并且之后形成着色辐射敏感组合物层(着色层)的步骤(着色层形成步骤)；其中将着色辐射敏感组合物层以图案形状曝光的步骤(曝光步骤)；以及其中将曝光之后的着色辐射敏感组合物层显影并且形成着色图案的步骤(显影步骤)。
本发明的图案形成方法还包括：其中将着色辐射敏感组合物涂布至基板上并且之后形成着色辐射敏感组合物层(着色层)的步骤(着色层形成步骤)；其中将着色辐射敏感组合物层以图案形状曝光的步骤(曝光步骤)；以及其中将曝光之后的着色辐射敏感组合物层显影并且形成着色图案的步骤(显影步骤)。
＜着色层形成步骤＞
在着色层形成步骤中，通过将着色辐射敏感组合物涂布在基板上形成由着色辐射敏感组合物构成的着色组合物层(着色辐射敏感层)。
作为该步骤中可以使用的基板，例如，可以包括在固态成像器件中使用的CCD、CMOS和有机CMOS中的光电转换元件基板、硅基板等，或者在液晶显示器中使用的无碱玻璃、钠玻璃、Pyres(注册商标)、石英玻璃，以及其中将透明导电膜附着至以上各项的那些等。在一些情况下，在这些基板上可以形成将每个像素分离的黑色矩阵。
此外，在这些基板上，按需要，可以制备下涂层以便提高与上层的粘合，以防止物质扩散，或平坦化基板表面。
作为用于将本发明的着色辐射敏感组合物涂布在基板上的方法，可以应用多种涂布方法如狭缝涂布、喷墨法、旋涂、流延涂布、辊涂、丝网印刷法等。
涂布在基板上的着色层(着色辐射敏感组合物层)的干燥(后烘烤)可以使用热板、烘箱等在50℃至140℃进行10秒至300秒。
从确保色浓度的观点，从倾斜方向上的光不达到受光部的观点，且从减少聚光率的差在元件的角落和中心变得显著的观点，后烘烤之后的着色层的膜厚度优选大于或等于0.05μm并且少于1.0μm，更优选大于或等于0.1μm并且小于或等于0.9μm，并且特别优选大于或等于0.2μm并且小于或等于0.9μm。
＜曝光步骤＞
在曝光步骤中，将在着色层形成步骤中形成的着色层(着色辐射敏感组合物层)以图案形状曝光。
该步骤的曝光中着色层的曝光优选通过经由预定掩模图案曝光并且之后将涂布膜按照光照射过的相同大面积固化进行。作为在曝光中可以使用的辐射，特别是，优选使用辐射如g线、h线或i线，并且i线是特别优选的。照射量为优选30mJ/cm2至1,500mJ/cm2，更优选50mJ/cm2至1,000mJ/cm2，最优选80mJ/cm2至500mJ/cm2。
＜显影步骤＞
在曝光步骤之后，通过进行使用碱的显影过程(显影步骤)，将曝光之后的未固化区域洗脱至显影液并且使得光固化区域保留下来。通过该显影步骤，可以形成由每个颜色的像素构成的图案形状膜。
显影方法可以是任意DIP法、喷淋法、喷雾法、粘闭法等，并且可以将摇摆法、旋转法、超声法等与这些组合。
在接触显影液之前，将显影表面预先用水等润湿，并且可以防止非均匀显影。
作为显影液，不导致下层电路的损坏的有机碱显影液等是优选的。显影温度通常是20℃至30℃，并且显影时间是20至90秒。
作为显影液中包含的碱试剂，例如，可以包括有机碱化合物如氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氢氧化四甲铵、氢氧化四乙铵、胆碱、吡咯、哌啶或1，8-二氮杂双环-[5，4,0]-7-十一碳烯，无机碱化合物如氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸氢钠或碳酸氢钾等。
作为显影液，将碱性水溶液用纯水稀释以使得碱试剂的浓度为0.001质量％至10质量％并且优选为0.01质量％至1质量％。而且，当使用由这些碱性水溶液制成的显影液时，在显影之后，通常，将过量的显影液通过用纯水洗涤(中洗)的清洗移除并且进行干燥。
本发明的制备方法还可以包括固化步骤，其中将所形成的着色图案在进行上面描述的着色层形成步骤、曝光步骤和显影步骤之后通过后加热(后烘烤)或后曝光进行固化。后烘烤是在显影之后加热以便完成固化的方法，并且通常进行100℃至270℃的热固化过程。
在其中使用光的情况下，可以使用g线、h线、i线、准分子激光如KrF或ArF、电子束、X射线等，然而，在大约20至50℃的低温使用现有的高压汞灯进行是优选的，并且照射时间是10秒至180秒，优选30秒至60秒。当组合使用后曝光和后加热时，首先进行后曝光是优选的。
如上所述，通过根据目标颜色的数目重复着色层形成步骤、曝光步骤和显影步骤(而且，按需要的固化步骤)而制造由目标颜色构成的彩色滤光片。
在本发明的彩色滤光片中，曝光区域中的固化组合物对基板具有优异的粘附性，并且可显影性耐受性、着色图案与基板的粘附性高，并且，给出所需截面形状的图案具有细小的着色像素。
本发明的着色辐射敏感组合物可以通过使用公知的清洗液清洗容易地移除，即使当组合物附着至例如涂布装置的排出单元的喷嘴，涂布装置的管线单元，涂布装置内部等时。在这种情况下，为了通过清洗进行更有效的移除，优选使用上面作为着色组合物中包含的有机溶剂所描述的有机溶剂作为清洗液。
此外，还可以适当地使用JP1995-128867A(JP-H07-128867A)、JP1995-146562A(JP-H07-146562A)、JP1996-278637A(JP-H08-278637A)、JP2000-273370A、JP2006-85140A、JP2006-291191A、JP2007-2101A、JP2007-2102A或JP2007-281523A中公开的清洗液作为用于通过清洗移除本发明的着色辐射敏感组合物的清洗液。
作为清洗液，使用烷撑二醇单烷基醚羧酸酯或烷撑二醇单烷基醚是优选的。
可以作为清洗液使用的这些有机溶剂可以或者单独使用，或者作为两种以上的组合使用。
当将两种以上有机溶剂混合时，通过混合具有羟基的有机溶剂和不具有羟基的有机溶剂制成的混合溶剂是优选的。具有羟基的有机溶剂和不具有羟基的有机溶剂的质量比为1/99至99/1，优选10/90至90/10，并且更优选20/80至80/20。作为混合溶剂，具有60/40的比例的丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)和丙二醇单甲醚(PGME)的混合溶剂是特别优选的。
也可以将上面作为着色辐射敏感组合物中含有的表面活性剂描述的表面活性剂加入至清洗液中，以便提高清洗液至着色辐射敏感组合物的穿透性。
通过本发明的彩色滤光片的制备方法制备的本发明的彩色滤光片也可以合适地用于固态成像器件如CCD传感器、CMOS传感器、有机CMOS传感器等，并且还合适地用于图像显示装置如电子纸或有机EL、液晶器件等。特别是，本发明的彩色滤光片适合用于具有大于一百万像素的高分辨CCD传感器、CMOS传感器或有机CMOS传感器的固态成像器件。本 发明的彩色滤光片可以，例如，用作设置在构成CCD元件的每个像素的光接收单元与用于光会聚的微透镜之间的彩色滤光片。
[固体成像器件]
本发明的固体成像器件包括本发明的彩色滤光片。本发明的固体成像器件的构造是配备有用于本发明的固体成像器件的彩色滤光片的构造，并且没有特别地限定，条件是该构造起到固体成像器件的功能，然而，例如，可以包括如下构造。
在固体成像器件中，由构成固态成像器件(CCD传感器、CMOS传感器、有机CMOS传感器等)的光接收区的多个光电二极管和多晶硅等制成的传递电极位于基板上，其中仅开放光电二极管的光接收单元的由钨等制成的遮光膜位于光电二极管和传递电极上，形成由氮化硅等制成的器件保护膜以便覆盖遮光膜的整个表面并且光电二极管的光接收单元位于遮光膜上，并且用于本发明的固态成像器件的彩色滤光片位于器件保护膜上。
此外，还可以包括器件保护层上的彩色滤光片下方(接近于基板一侧)的具有光会聚装置(例如，微透镜等，在下文中相同)的构造，或彩色滤光片上的具有光会聚装置的构造。
有机CMOS传感器还构造为包括全色感光性有机光电转换膜的薄膜作为光电转换层以及CMOS信号读出基板，其为双重构造的混合结构，其中有机材料发挥捕获光并将其转化为电信号的作用，而无机材料发挥将电信号提取至外部的作用，并且原则上，可以使得关于入射光的孔径比成为100％。有机光电转换膜是无结构的连续膜并且可以放在CMOS信号读出基板上，因此，不需要高价微制造方法，并且其适合于像素小型化。
[实施例]
在下文中，使用实施例详细描述本发明。然而，只要不脱离本发明的精神，本发明不限定于这些实例。此外，除非另作说明，“份”和“％”以质量计。
(1)聚合物(I)的合成
参考Liebigs Annalen der Chemie，1990，第8期第741至744页合成化合物A(以下结构)。
将化合物A(30.6g)、甲基丙烯酸缩水甘油酯(14.2g)、对甲氧基苯酚(1.24g)和四丁基溴化铵(3.22g)加入至200g的N-甲基吡咯烷酮(在下文中，称为NMP)，并将混合物在100℃加热并搅拌5小时。接下来，加入1L的乙酸乙酯和1L的1N盐酸水溶液，并且在搅拌之后，将有机层分离，并且在那之后，在浓缩之后获得35g的中间产物B(以下结构)。
[化学式97]
通过将10g的中间产物B、1.53g的甲基丙烯酸、2.00g的1-十二烷硫醇和0.92g的2,2-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲基(“V-601”，由Wako Pure Chemical Industries，Ltd.制造)溶解在20.55g的丙二醇甲基醚乙酸酯(在下文中，称为PGMEA)获得的溶液在3小时内在氮氛下逐滴加入至85℃的10g的PGMEA中。在那之后，在85℃继续搅拌另外2小时。在那之后，将反应溶液在搅拌下逐滴加入至升温至表1中给出的再沉淀温度的200ml的甲醇和10ml的水的混合溶液中。在那之后，将混合物在室温搅拌2小时。将沉淀的粉末过滤，将所获得的粉末在减压下干燥，并且以70％的产率获得作为偶氮系染料聚合物的聚合物I(以下结构：Mw：4000，并且甲基丙烯酸组分的组成比为13质量％)。
[化学式98]
＜作为染料聚合物的聚合物II的合成＞
将10.0g的M-53(以下结构)、0.74g的甲基丙烯酸和0.36g的1-十二烷硫醇溶解在19.95g(35质量％)的环己酮中。将溶液分为两份，将一半放置在烧瓶中并加热至80℃。将通过加入0.82g的2，2’-偶氮双(2-甲基丙酸甲酯)并溶解在另-半的溶液中获得的溶液在氮氛下滴加至加热至80℃的一半的溶液。从滴加完成之后将混合物搅拌3小时。将其中将2.75g的异丙醇加入至反应溶液获得的反应溶液逐滴加入至在表1中给出的再沉淀温度搅拌的716ml的乙腈中。将混合物搅拌1小时，并且之后搅拌在室温进行2小时。将沉淀的晶体过滤，将所获得的晶体在减压下干燥，并且 以80％的产率获得作为染料聚合物的聚合物II(以下结构：Mw：6000，并且甲基丙烯酸组分的组成比为7质量％)。
[化学式99]
＜作为染料聚合物的聚合物III的合成＞
将5.0g的所获得的聚合物II、0.58g的甲基丙烯酸缩水甘油酯、5.6mg的对甲氧基苯酚和0.10g的四丁基溴化铵溶解在31.6g的PGMEA中的溶液在105℃加热并搅拌10小时。接下来，将该反应溶液在2小时内逐滴加入至350ml的乙腈中，同时将乙腈在30℃加热和搅拌。将沉淀的晶体过滤，将所获得的晶体在减压下干燥并获得5.0g的作为染料聚合物的聚合物III(以下结构)。所使用的聚合物II的源自甲基丙烯酸的组分的含量为13.3质量％。
[化学式100]
＜作为染料聚合物的聚合物IV的合成＞
将10.0g的单体IV(以下结构)、1.48g的甲基丙烯酸和0.36g的1-十二烷硫醇溶解在21.3g(35重量％)的环己酮中。将溶液分为两份，将一半放置在烧瓶中并加热至80℃。将通过加入0.82g的2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸甲酯)并溶解在另一半的溶液中获得的溶液在氮氛下滴加至加热至80℃的一半的溶液。从滴加完成之后将混合物搅拌3小时。将其中将2.75g的异丙醇加入至反应溶液获得的反应溶液逐滴加入至在表1中给出的再沉淀温度搅拌的650ml的甲醇和20ml的水的混合溶液中。将混合物搅拌1小时，并且之后在室温进行搅拌2小时。将沉淀的晶体过滤，将所获得的晶体在减压下干燥，并且以70％的产率获得作为染料聚合物的聚合物IV(以下结构：Mw：4600，并且甲基丙烯酸组分的组成比为13质量％)。
＜作为染料聚合物的聚合物V的合成＞
将10.0g的单体V(以下结构)、1.48g的甲基丙烯酸和0.36g的1-十二烷硫醇溶解在21.3g(35重量％)的环己酮中。将溶液分为两份，将一半放置在烧瓶中并加热至80℃。将通过加入0.82g的2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸甲酯)并溶解在另一半的溶液中获得的溶液在氮氛下滴加至加热至80℃的一半的溶液。从滴加完成之后将混合物搅拌3小时。将其中将2.75g的异丙醇加入至反应溶液获得的反应溶液逐滴加入至在表1中给出的再沉淀温度加热的650ml的甲醇和20ml的水的混合溶液。将混合物搅拌1小时，并且之后在室温进行搅拌2小时。将沉淀的晶体过滤，将所获得的晶体在减压下干燥，并且以73％的产率获得作为染料聚合物的聚合物V(以下结构：Mw：5200，并且甲基丙烯酸组分的组成比为13质量％)。
＜作为染料聚合物的聚合物VI的合成＞
将10.0g的单体VI(以下结构)、1.48g的甲基丙烯酸和0.36g的1-十二烷硫醇溶解在21.3g(35重量％)的环己酮中。将溶液分为两份，将一半放置在烧瓶中并加热至80℃。将通过加入0.82g的2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸甲酯)并溶解在另一半的溶液中获得的溶液在氮氛下滴加至加热至80℃的一半的溶液。从滴加完成之后将混合物搅拌3小时。将其中将2.75g的异丙醇加入至反应溶液获得的反应溶液逐滴加入至在表1中给出的再沉淀温度搅拌的650ml的甲醇和20ml的水的混合溶液。将混合物搅拌1小时，并且之后搅拌在室温进行2小时。将沉淀的晶体过滤，将所获得的晶体在减压下干燥，并且以75％的产率获得作为染料聚合物的聚合物VI(以下结构：Mw：5000，并且甲基丙烯酸组分的组成比为13质量％)。
＜作为染料聚合物的聚合物VII的合成＞
将10.0g的单体VII(以下结构)、1.48g的甲基丙烯酸和0.36g的1-十二烷硫醇溶解在21.3g(35重量％)的环己酮中。将溶液分为两份，将一半放置在烧瓶中并加热至80℃。将通过加入0.82g的2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸甲酯)并溶解在另一半的溶液中获得的溶液在氮氛下滴加至加热至80℃的一半的溶液。从滴加完成之后将混合物搅拌3小时。将其中将2.75g的异丙醇加入至反应溶液获得的反应溶液逐滴加入至在表1中给出的再 沉淀温度搅拌的650ml的甲醇和20ml的水的混合溶液。将混合物搅拌1小时，并且之后搅拌在室温进行2小时。将沉淀的晶体过滤，将所获得的晶体在减压下干燥，并且以80％的产率获得作为染料聚合物的聚合物VII(以下结构：Mw：6200，并且甲基丙烯酸组分的组成比为13质量％)。
＜作为染料聚合物的聚合物VIII的合成＞
将10.0g的单体VIII(以下结构)、1.48g的甲基丙烯酸和0.36g的1-十二烷硫醇溶解在21.3g(35重量％)的环己酮中。将溶液分为两份，将一半放置在烧瓶中并加热至80℃。将通过加入0.82g的2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸甲酯)并溶解在另一半的溶液中获得的溶液在氮氛下滴加至加热至80℃的一半的溶液。从滴加完成之后将混合物搅拌3小时。将其中将2.75g的异丙醇加入至反应溶液获得的反应溶液逐滴加入至在表1中给出的再沉淀温度搅拌的650ml的甲醇和20ml的水的混合溶液。将混合物搅拌1小时，并且之后搅拌在室温进行2小时。将沉淀的晶体过滤，将所获得的晶体在减压下干燥，并且以82％的产率获得作为染料聚合物的聚合物VIII(以下结构：Mw：7000，并且甲基丙烯酸组分的组成比为13质量％)。
每个聚合物的聚合浓度、聚合物聚合溶液的滴加时间、再沉淀的温度条件以及所获得的聚合物中余下的单体组分的含量在表1中给出。
此外，聚合物IV至VIII的结构和单体组分的结构如下所示。此外，在聚合物和单体结构中，Me分别表示甲基，Et表示乙基并且OAc表示乙酰基。
[化学式101]
[化学式102]
(4)着色辐射敏感组合物的制备
首先，用实施例描述用于形成彩色滤光片的着色辐射敏感组合物的制备。
[实施例1]
用以下配方制备着色辐射敏感组合物1。
(A)染料聚合物：作为染料聚合物(I)的聚合物 100份
(B)有机溶剂：环己酮 300份
(C)可聚合化合物：二季戊四醇五/六-丙烯酸酯 100份
(D)聚合引发剂：1-苯基-1,2-丙烷二酮-2-(O-乙氧基羰基)肟 35份
用于下涂层的抗蚀剂液体通过混合和溶解以下组成的组分制备。
＜用于下涂层的抗蚀剂液体的组成＞
.有机溶剂：PGMEA 19.20份
.有机溶剂：乳酸乙酯 36.67份
.树脂：甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸/2-羟乙基甲基丙烯酸酯共聚物，30％PGMEA溶液，具有(摩尔比=70/22/8)30.51份
.可聚合化合物：二季戊四醇六丙烯酸酯 12.20份
.聚合抑制剂：对甲氧基苯酚 0.0061份
.氟系表面活性剂(F-475，由DIC Corporation制造) 1.0份
.聚合引发剂(三卤甲基三嗪系聚合引发剂)(TAZ-107，由Midori Kagaku Co.，Ltd.制造) 0.586份
[具有附着的下涂层的硅基板的制备]
将6英寸硅晶片在烘箱中在200℃热处理30分钟。之后，将用于下涂层的抗蚀剂液体涂布在硅晶片上以便使得干燥膜厚度成为1.5μm，通过在烘箱中在220℃再加热干燥1小时形成涂层，并且获得附着有下涂层的硅晶片基板。
-用于固态成像器件的着色图案的形成-
在具有如上获得的下涂层的硅晶片基板的下涂层上，在以下条件下使用由Tokyo Electron Ltd制造的具有旋涂功能的Act-8涂布机/显影机涂布着色辐射敏感组合物1以便使得着色层的干燥膜厚度成为0.7μm。
之后，在将设置有该涂层的涂布基板使用热板在100℃热处理(预烘烤)120秒之后，使用FPA-3000i5+，i线步进机曝光装置(由Canon，Inc.制造)，将涂布基板用500mJ/cm2的曝光量通过1.5μm2的岛状图案掩模在365nm的波长进行曝光。在那之后，将在曝光之后其上形成着色层的硅晶片安装在旋转喷雾显影机(DW-30型，由Chemitronics Co.，Ltd.制造)的 水平旋转桌上，并且在23℃使用CD-200(由FUJIFILM Electronics Materials Co.，Ltd.制造)进行粘闭显影60秒之后，将硅晶片通过真空夹吸法固定至水平旋转桌，并且同时使用旋转装置将硅晶片用50r.p.m的回转数旋转。通过由喷嘴以从旋转中心上方喷淋的形式提供纯水进行冲洗过程，并且在喷雾干燥之后获得具有着色像素的晶片基板。
(5)辐射敏感组合物的评价
(5-1)基板上的残渣的评价(可显影性)
通过SEM观察在上面描述的曝光步骤中未照射曝光的区域(未曝光区)中残渣的存在，并且评价基板上的残渣。评价等级如下。
-评价等级-
A：在未曝光区中没有观察到残渣。
B：在未曝光区中观察到微弱程度的残渣，然而，它在使得在实际使用中没有问题的水平。
C：在未曝光区中观察到显著程度的残渣。
(5-2)绿色像素上残渣的评价(可显影性)
以相同方式使用用于绿G的辐射敏感组合物在基板上形成绿色着色图案，并且在那之后，在上面涂布着色辐射敏感组合物1并显影，通过SEM观察绿色像素上归因于着色辐射敏感组合物1的残渣的存在，并且进行评价。评价级别如下。
-评价等级-
A：在绿色像素上未观察到残渣。
B：在绿色像素上观察到微弱程度的残渣，然而，它在使得在实际使用中没有问题的水平。
C：在绿色像素上观察到显著程度的残渣。
如下制备用于绿色G的辐射敏感组合物。
将由作为颜料的32份颜料绿36以及8份颜料黄150，作为分散剂的50份Disperbyk-161(30％溶液，由BYK-Chemie GmbH制造)，以及作为溶剂的110份丙二醇单甲醚制成的混合溶液通过珠磨机混合并分散15小时，并且制备颜料分散体。
通过使用颜料分散液搅拌混合以下组成比而制备用于绿色G的辐射敏感组合物。
.着色剂(颜料分散体) 350份
.聚合引发剂(肟系光聚合引发剂，CGI-124，由BASF Group制造) 35份
.TO-1382(由Toagosei Co.，Ltd.制造 20份
(可聚合化合物，含有羧基的五官能丙烯酸酯，由Toagosei Chemical Industry Co.，Ltd.制造)
.二季戊四醇六丙烯酸酯 30份
(KAYARAD DPHA：由Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造)
.溶剂(PGMEA) 200份
.用于基板的粘合剂(3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷) 1份
(5-3)耐热性
在将其中将着色辐射敏感组合物1涂布在玻璃基板上的基板通过热板加热以后，使用色度计(商品名：MCPD-1000，Otsuka Electronics Co.，Ltd.)测量作为耐热性测试之前和之后的颜色差的△E*ab值，并且根据以下级别进行评价。较小的△E*ab值显示令人满意的耐热性。
在230℃进行耐热性测试3分钟。
＜评价等级＞
A：△E*ab值＜5
B：5＜△E*ab值≤10
C：10＜△E*ab值
＜用于量化残留单体的方法＞
首先，以高效液相色谱法(HPLC型，由Waters Corporation制造：WATERS2695)建立单体组分相对于内标物质(苯甲酸丙酯)的校准曲线。
在那之后，将0.3g的样品和0.025g的内标物(苯甲酸丙酯)称取至50ml的量瓶中并且用四氢呋喃稀释。将稀释的溶液用高效液相色谱法分析并且评价单体组分的含量。
[表1]
＜彩色滤光片的制造＞
将由40份以下颜料、作为分散剂的50份Disperbyk-161(30％溶液，由BYK-Chemie GmbH制造)，以及作为溶剂的110份丙二醇单甲醚制成的混合溶液通过珠磨机混合并分散15小时，并制备颜料分散体(P-2)。
用作P-2的颜料：颜料红254∶颜料红177=8∶2(质量比)
通过使用颜料分散体(P-2)搅拌和混合以下组成的组分制备用于红色R的辐射敏感组合物。
.着色剂(颜料分散体(P-2)) 350份
.聚合引发剂(肟系光聚合引发剂，CGI-124，由BASF Group制造) 35份
.TO-1382(由Toagosei Co.，Ltd.制造)20份
(可聚合化合物，由Toagosei Chemical Industry Co.，Ltd.制造的含有羧基的五官能丙烯酸酯)
.二季戊四醇六丙烯酸酯 30份
(KAYARAD DPHA：由Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造)
.溶剂(PGMEA) 200份
.用于基板的粘合剂(3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷) 1份
在晶片上，使用用于红色(R)的辐射敏感组合物R形成1.6x1.6μm的红色(R)着色图案。同样以相同的方式，相继地，使用用于绿色(G)的辐射敏感组合物G形成1.6x1.6μm的绿色(G)，并且使用实施例1中获得的着色辐射敏感组合物1形成蓝色(B)彩色着色图案，并且制造用于固态成像器件的彩色滤光片。
在着色辐射敏感组合物1的制备中，除了将聚合物的类型改变为表1中给出的聚合物I至VIII之外，以与实施例1的着色辐射敏感组合物1的制备相同的方式获得实施例7至13的每个辐射敏感组合物。
而且，通过将聚合浓度、聚合溶液的滴加时间和聚合物I的合成中再沉淀的温度改变至表1中给出的那些，获得其中控制每个聚合物中余下的单体组分的具有聚合物I作为基本骨架的每个聚合物，并且除了使用所获得的每个聚合物代替实施例1的聚合物I之外，以与实施例1的着色辐射敏感组合物1的制备相同的方式获得实施例2至6和比较例1至4的每个 辐射敏感组合物。
以与实施例1中相同的方式使用所获得的每个辐射敏感组合物进行评价。评价结果在表2中给出。
[表2]
| 基板上的残渣 | 绿色像素上的残渣 | 耐热性 | |
| 实施例1 | B | B | A |
| 实施例2 | A | B | A |
| 实施例3 | A | B | A |
| 实施例4 | A | A | A |
| 实施例5 | A | A | A |
| 实施例6 | A | B | A |
| 实施例7 | A | A | A |
| 实施例8 | A | A | A |
| 实施例9 | A | B | A |
| 实施例10 | A | B | A |
| 实施例11 | A | B | A |
| 实施例12 | A | B | A |
| 实施例13 | A | A | A |
| 比较例1 | C | C | C |
| 比较例2 | C | C | C |
| 比较例3 | B | C | B |
| 比较例4 | B | C | B |
从表2显示的是，本发明的着色组合物具有高可显影性、令人满意的耐热性，并且在基板上不存在残渣。还发现本发明的着色组合物在其他颜色的像素上没有残渣，并且可以提供能够提供具有高色纯度的彩色滤光片的着色辐射敏感组合物。
还证实的是，当将全色的实施例1至13中获得的彩色滤光片安装至固态成像器件时，每个固态成像器件具有高分辨率并且在颜色分离上优异。
Claims (10)
1.一种彩色滤光片用着色组合物，所述彩色滤光片用着色组合物包含：
(A)具有染料骨架的聚合物和(B)有机溶剂，
其中相对于所述(A)具有染料骨架的聚合物，能够形成所述(A)具有染料骨架的聚合物的具有染料骨架的未反应单体组分的含量小于或等于1质量％。
2.根据权利要求1所述的彩色滤光片用着色组合物，
其中所述(A)具有染料骨架的聚合物是通过在聚合之后进行加热再沉淀制备的。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的彩色滤光片用着色组合物，
其中所述(A)具有染料骨架的聚合物是通过将聚合中的聚合浓度调节至大于或等于30质量％制备的。
4.一种彩色滤光片用着色辐射敏感组合物，所述彩色滤光片用着色辐射敏感组合物包含：
根据权利要求1至权利要求3中的任一项所述的着色组合物；(C)可聚合化合物；和(D)聚合引发剂。
5.一种聚合物的制备方法，
其中通过在聚合之后进行加热再沉淀而制备根据权利要求1至权利要求3中的任一项所述的(A)具有染料骨架的聚合物。
6.一种聚合物的制备方法，
其中通过将聚合中的聚合浓度调节至大于或等于30质量％而制备根据权利要求1至权利要求3中的任一项所述的(A)具有染料骨架的聚合物。
7.一种图案形成方法，所述图案形成方法包括：
其中将根据权利要求4所述的着色辐射敏感组合物涂布到基板上并且形成着色辐射敏感组合物层的步骤；
其中将所述着色辐射敏感组合物层以图案形状曝光的步骤；和
其中将曝光之后的所述着色辐射敏感组合物层显影的步骤。
8.一种彩色滤光片，所述彩色滤光片包括：
使用根据权利要求4所述的着色辐射敏感组合物形成的着色膜。
9.一种彩色滤光片的制备方法，所述制备方法包括：
其中将根据权利要求4所述的着色辐射敏感组合物涂布到基板上并且形成着色辐射敏感组合物层的步骤；
其中将所述着色辐射敏感组合物层以图案形状曝光的步骤；和
其中将曝光之后的所述着色辐射敏感组合物层显影并且形成着色图案的步骤。
10.一种固态成像器件，所述固态成像器件包括：
根据权利要求8所述的彩色滤光片。
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105005178A (zh) * | 2014-04-15 | 2015-10-28 | 罗门哈斯电子材料韩国有限公司 | 感光性树脂组合物和使用所述组合物的绝缘膜和电学装置 |
| WO2016070523A1 (zh) * | 2014-11-04 | 2016-05-12 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 光刻胶组合物及其制备方法 |
| CN107922752A (zh) * | 2015-08-13 | 2018-04-17 | 富士胶片株式会社 | 着色组合物、固化膜、滤色器、滤色器的制造方法、固体摄像元件、图像显示装置及聚合物 |
| CN110845868A (zh) * | 2018-08-21 | 2020-02-28 | 北京鼎材科技有限公司 | 高透射大分子绿染料，彩色光敏树脂组合物及彩色滤光片 |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5802385B2 (ja) * | 2010-12-08 | 2015-10-28 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 |
| JP6054824B2 (ja) * | 2013-08-01 | 2016-12-27 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置 |
| WO2015030223A1 (en) * | 2013-08-28 | 2015-03-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Novel compound, pigment dispersing agent, pigment composition, pigment dispersion and toner containing said compound |
| JP6162084B2 (ja) | 2013-09-06 | 2017-07-12 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素 |
| JP6166711B2 (ja) * | 2013-12-25 | 2017-07-19 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、およびこれを用いた硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置 |
| JP6162165B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2017-07-12 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、有機エレクトロルミネッセンス素子、色素および色素の製造方法 |
| JP6369103B2 (ja) * | 2014-04-09 | 2018-08-08 | 三菱ケミカル株式会社 | リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法 |
| KR101662745B1 (ko) * | 2014-06-13 | 2016-10-06 | (주)경인양행 | 염료 화합물 및 이를 포함하는 컬러필터용 수지 조성물 |
| KR101661733B1 (ko) * | 2014-07-10 | 2016-10-04 | (주)경인양행 | 염료 화합물 및 이를 포함하는 컬러필터용 수지 조성물 |
| KR20160025689A (ko) * | 2014-08-27 | 2016-03-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 색필터 조성물 및 이를 포함하는 액정 표시 장치 |
| KR101747077B1 (ko) | 2015-06-23 | 2017-06-15 | (주)경인양행 | 크산텐계 고분자 화합물, 이를 포함하는 컬러필터용 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
| WO2017026473A1 (ja) * | 2015-08-13 | 2017-02-16 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置およびポリマー |
| JP2018087956A (ja) * | 2016-04-26 | 2018-06-07 | Jsr株式会社 | 着色硬化膜の製造方法及びカラーフィルタの画素パターンの形成方法 |
| CN111095103B (zh) * | 2017-09-28 | 2023-06-27 | 富士胶片株式会社 | 感光性着色组合物、固化膜、图案的形成方法、滤色器、固体摄像元件及图像显示装置 |
| KR102453516B1 (ko) | 2018-03-13 | 2022-10-12 | 후지필름 가부시키가이샤 | 경화막의 제조 방법, 고체 촬상 소자의 제조 방법 |
| EP3848627A4 (en) | 2018-09-07 | 2021-10-27 | FUJIFILM Corporation | VEHICLE HEADLIGHT UNIT, HEADLIGHT LIGHT PROTECTION FILM AND PROCESS FOR THE PRODUCTION OF HEADLIGHT LIGHT PROTECTION FILM |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6509125B1 (en) * | 1998-08-28 | 2003-01-21 | Toppan Printing Co., Ltd. | Color filter and liquid crystal display device having the same |
| US20040138338A1 (en) * | 2002-12-27 | 2004-07-15 | Kao Corporation | Water-based ink |
| JP2004286810A (ja) * | 2003-03-19 | 2004-10-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 染料含有硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルターおよびその製造方法 |
| US20070117031A1 (en) * | 2005-11-18 | 2007-05-24 | Fujifilm Corporation | Colored curable composition, color filter and method of producing thereof |
| JP2007147784A (ja) * | 2005-11-24 | 2007-06-14 | Fujifilm Corp | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
| CN101501104A (zh) * | 2005-08-10 | 2009-08-05 | 诚信工业有限公司 | 固有有色聚酯聚合物、纤维或长丝及其制备方法 |
| WO2011040628A1 (en) * | 2009-09-29 | 2011-04-07 | Fujifilm Corporation | Colorant multimer, colored curable composition, color filter and method for producing the same, and solid-state image sensor, image display device, liquid crystal display device and organic el display with the color filter |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63220878A (ja) * | 1987-03-09 | 1988-09-14 | 住友ベークライト株式会社 | 抗凝血性医用成形体の製造方法 |
| US6468589B2 (en) | 2000-02-02 | 2002-10-22 | Jsr Corporation | Composition for film formation and insulating film |
| JP4596099B2 (ja) * | 2000-02-02 | 2010-12-08 | Ｊｓｒ株式会社 | 膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料 |
| JP2003161823A (ja) | 2001-11-28 | 2003-06-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | カラーフィルター用顔料分散レジストおよびカラーフィルター |
| JP4279131B2 (ja) * | 2002-12-27 | 2009-06-17 | 花王株式会社 | 水系インク |
| JP4689553B2 (ja) * | 2006-08-11 | 2011-05-25 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性着色組成物及びそれを用いたカラーフィルタ |
| JP5611520B2 (ja) * | 2007-11-29 | 2014-10-22 | 富士フイルム株式会社 | 加工顔料、それを用いた顔料分散組成物、着色感光性組成物、カラーフィルタ、液晶表示素子、固体撮像素子、及び加工顔料の製造方法 |
| WO2010074289A1 (ja) | 2008-12-26 | 2010-07-01 | 株式会社日本触媒 | α－アリルオキシメチルアクリル酸系共重合体、樹脂組成物及びその用途 |
| JP5702925B2 (ja) * | 2008-12-26 | 2015-04-15 | 株式会社日本触媒 | α−アリルオキシメチルアクリル酸系重合体及びその製造方法 |
| JP2010229264A (ja) * | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Nippon Shokubai Co Ltd | 脱塩重縮合系重合体の製造方法 |
| JP5680359B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2015-03-04 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーレジスト、カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法、並びにカラーフィルタを備えた固体撮像素子及び画像表示デバイス |
| JP5791874B2 (ja) * | 2010-03-31 | 2015-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置 |
-
2011
- 2011-08-15 JP JP2011177711A patent/JP5743801B2/ja active Active
-
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-
2014
- 2014-02-10 US US14/176,787 patent/US9470974B2/en active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6509125B1 (en) * | 1998-08-28 | 2003-01-21 | Toppan Printing Co., Ltd. | Color filter and liquid crystal display device having the same |
| US20040138338A1 (en) * | 2002-12-27 | 2004-07-15 | Kao Corporation | Water-based ink |
| JP2004286810A (ja) * | 2003-03-19 | 2004-10-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 染料含有硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルターおよびその製造方法 |
| CN101501104A (zh) * | 2005-08-10 | 2009-08-05 | 诚信工业有限公司 | 固有有色聚酯聚合物、纤维或长丝及其制备方法 |
| US20070117031A1 (en) * | 2005-11-18 | 2007-05-24 | Fujifilm Corporation | Colored curable composition, color filter and method of producing thereof |
| JP2007147784A (ja) * | 2005-11-24 | 2007-06-14 | Fujifilm Corp | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
| WO2011040628A1 (en) * | 2009-09-29 | 2011-04-07 | Fujifilm Corporation | Colorant multimer, colored curable composition, color filter and method for producing the same, and solid-state image sensor, image display device, liquid crystal display device and organic el display with the color filter |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105005178A (zh) * | 2014-04-15 | 2015-10-28 | 罗门哈斯电子材料韩国有限公司 | 感光性树脂组合物和使用所述组合物的绝缘膜和电学装置 |
| WO2016070523A1 (zh) * | 2014-11-04 | 2016-05-12 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 光刻胶组合物及其制备方法 |
| CN107922752A (zh) * | 2015-08-13 | 2018-04-17 | 富士胶片株式会社 | 着色组合物、固化膜、滤色器、滤色器的制造方法、固体摄像元件、图像显示装置及聚合物 |
| CN107922752B (zh) * | 2015-08-13 | 2020-10-13 | 富士胶片株式会社 | 着色组合物、固化膜、滤色器、滤色器的制造方法、固体摄像元件、图像显示装置及聚合物 |
| US10875950B2 (en) | 2015-08-13 | 2020-12-29 | Fujifilm Corporation | Coloring composition, cured film, color filter, method for manufacturing color filter, solid-state imaging device, image display device, and polymer |
| CN110845868A (zh) * | 2018-08-21 | 2020-02-28 | 北京鼎材科技有限公司 | 高透射大分子绿染料，彩色光敏树脂组合物及彩色滤光片 |
| CN110845868B (zh) * | 2018-08-21 | 2022-11-18 | 北京鼎材科技有限公司 | 高透射大分子绿染料，彩色光敏树脂组合物及彩色滤光片 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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