CN103651564A - 一种氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料及其制备和应用 - Google Patents

一种氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料及其制备和应用 Download PDF

Info

Publication number
CN103651564A
CN103651564A CN201210323199.2A CN201210323199A CN103651564A CN 103651564 A CN103651564 A CN 103651564A CN 201210323199 A CN201210323199 A CN 201210323199A CN 103651564 A CN103651564 A CN 103651564A
Authority
CN
China
Prior art keywords
graphene oxide
hydrotalcite
solution
film material
composite antibacterial
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201210323199.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103651564B (zh
Inventor
王毅
张盾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Institute of Oceanology of CAS
Original Assignee
Institute of Oceanology of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Institute of Oceanology of CAS filed Critical Institute of Oceanology of CAS
Priority to CN201210323199.2A priority Critical patent/CN103651564B/zh
Publication of CN103651564A publication Critical patent/CN103651564A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103651564B publication Critical patent/CN103651564B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Abstract

本发明涉及抗菌技术,具体的说是一种氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料及其制备和应用。以质量比为1~4∶1的氧化石墨烯溶液和青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液的混合溶液为原料,经溶液浇铸即得氧化石墨烯/水滑石抗菌纳米复合薄膜材料。本发明所得以氧化石墨烯和水滑石为基础的功能纳米复合薄膜材料具有有序的结构、缓释性质和抗菌功能。

Description

一种氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料及其制备和应用
技术领域
本发明涉及抗菌技术,具体的说是一种氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料及其制备和应用。
背景技术
人类生活环境中存在大量肉眼看不到的微生物,其在材料表面覆盖,称之为微生物污损。这种覆盖层被称之为生物膜。微生物污损会导致物品腐败、变质、发霉,伤口感染化脓等现象,给人类带来致命疾病,对社会造成很大危害。
纳米复合材料由于其优良的综合性能,特别是其功能可设计性而被广泛应用于医疗、国防、交通等诸多领域。其在抗菌涂层领域,也有广泛应用。采用适当制备方法可在物体表面涂覆具有良好抗菌性能的纳米复合薄膜,其可在一定时间内抵御微生物污损,控制细菌增殖。
2004年,英国科学家利用胶带微机械剥离高定向热解石墨,发现了一种由碳原子以sp2杂化连接的单原子层构成的新型二维原子晶体,即石墨烯(graphene)。其基本结构单元为有机材料中最稳定的碳六元环,是目前最理想的二维纳米材料。目前,石墨烯在纳米电子器件、催化剂载体、能量储存及复合材料等领域有广泛的应用前景。但是,由于石墨层间有很强的范德瓦尔作用力,导致片层分离带来很大难度。为了解决这一问题,人们用化学手段将石墨氧化成氧化石墨,其上修饰的大量含氧官能团降低了层间吸引力,并引入亲水性质,因此能够促使石墨在水溶液中完全分离成单层的、厚度不足1纳米的氧化石墨片,即氧化石墨烯(graphene oxide)。在文献(ACS Nano,2010,4(7),4317–4323)中报道了氧化石墨烯的抗菌特性,发现氧化石墨烯溶液在与大肠杆菌孵育2小时后,对其抑制率超过90%。进一步实验结果表明,氧化石墨烯的抗菌性源于其对大肠杆菌细胞膜的破坏。更重要的是,氧化石墨烯不仅是一种新型的优良抗菌材料,而且对哺乳动物细胞产生的细胞毒性很小。此外,通过抽滤法能够将氧化石墨烯制备成纸片样的宏观石墨烯膜,也能有效地抑制大肠杆菌的生长。
水滑石(layered double hydroxides,LDHs)是一种典型的层状阴离子型粘土,由于其具有良好的层间离子可交换性,具有分子容器的特征,近年来引起了人们的广泛关注。文献(中国发明专利,201110290535.3)报道了青霉素阴离子插层水滑石通过环境中的阴离子与层间青霉素阴离子的交换达到释放青霉素阴离子抗菌剂,达到抗菌目的,并可显著提高青霉素分子光热稳定性,有望作为抗菌涂层的填料达到抑制微生物污损的功能。但是,作为一种纳米无机粉体材料,其成膜性较差,很难制备成抗菌涂层。
发明内容
本发明的目的是提供一种氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料及其制备和应用。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案为:
一种氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料,以质量比为1~4:1的氧化石墨烯溶液和青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液的混合溶液为原料,经溶液浇铸即得氧化石墨烯/水滑石抗菌纳米复合薄膜材料。
所述氧化石墨烯溶液浓度为2.0 mg/mL;青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液浓度为2.0 mg/mL。所述青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液中镁与铝摩尔比为2。
氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料的制备方法,以质量比为1~4:1的氧化石墨烯溶液和青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液的混合溶液为原料,经溶液浇铸即得氧化石墨烯/水滑石抗菌纳米复合薄膜材料;所述青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液中镁与铝摩尔比为2。
氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料的应用,所述薄膜材料可用作抗菌材料。所述薄膜材料可作为抗菌涂层。
本发明所具有的有益效果:本发明所得以氧化石墨烯和水滑石为基础的功能纳米复合薄膜材料具有有序的结构、缓释性质和抗菌功能。
附图说明
图1为本发明实施例提供的氧化石墨烯和水滑石质量比为1:1的氧化石墨烯/水滑石纳米复合薄膜的表面SEM照片。
图2为本发明实施例提供的氧化石墨烯和水滑石质量比为1:1的氧化石墨烯/水滑石纳米复合薄膜的切面SEM照片。
图3为本发明实施例所提供的氧化石墨烯和水滑石质量比为1:1的氧化石墨烯/水滑石纳米复合薄膜在3.5%NaCl溶液中累积释放率与释放时间关系曲线(其中横坐标-释放时间,单位s(秒);纵坐标-累积释放率,单位%(百分比))。
图4为本发明实施例所提供的氧化石墨烯和水滑石质量比为1:1的氧化石墨烯/水滑石纳米复合薄膜在溶壁微球菌菌液中浸泡24小时后表面SEM照片。
具体实施方式
所述氧化石墨烯/水滑石纳米复合薄膜材料的制备方法,以氧化石墨烯溶液和青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液的混合溶液为原料,用溶液浇铸法制备得到氧化石墨烯/水滑石抗菌纳米复合薄膜材料,氧化石墨烯和水滑石的混合溶液中氧化石墨烯与水滑石的质量比为1~4:1。
氧化石墨烯溶液的制备:将1g天然石墨、1g NaNO3和50 mL浓硫酸混合放入250mL烧杯,在0℃冰浴条件下磁力搅拌4h,再慢加6g KMnO4后移除冰浴,在自然条件下约35°C搅拌2h,慢加90mL水并在98°C水浴下搅拌15min,再加200mL温水和20mL H2O2,将液体转移到离心管再用HCl和水离心洗涤,在50°C干燥48 h即得氧化石墨。
称取氧化石墨0.2 g分散在放有100mL水的烧杯中,超声剥离氧化石墨,制备浓度为2mg/mL的氧化石墨烯溶液。此溶液即可作为原始的氧化石墨烯溶液用于之后的实验。
青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液的制备:实验用水为刚刚煮沸过的二次去离子水除尽CO2,反应在N2气氛下进行。将Mg(NO3)2·6H2O和Al(NO3)3·9H2O配成0.75mol/L的混合盐溶液,其中Mg2+/Al3+=2。NaOH配成6mol/L的碱溶液。将盐溶液和碱溶液同时加入到四口烧瓶中剧烈搅拌30min后,过滤,洗涤后将所得浆液转入反应釜中140°C水热晶化10h。整个过程通氮气保护。产物冷却、洗涤、离心分离;
称取上述离心所得沉淀7.5g加入到含有1.86g青霉素钾盐的100mL水中室温氮气保护剧烈搅拌离子交换24小时。洗涤、离心分离得到青霉素阴离子插层Mg-Al LDHs。
XRD测试表明产物具有良好的晶型,属六方晶系,LDH的层状结构特征明显。FT-IR测试表明青霉素阴离子为层间主要的客体阴离子。
将所制备水滑石在水中超声分散30分钟制备浓度为2 mg/mL的胶体溶液。
将上述氧化石墨烯溶液和青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液以一定的相对质量比混合,搅拌均匀后作为复合材料制备的母液使用。
采用溶液浇铸法制备复合薄膜。抽取一定体积母液滴涂到处理过的载玻片表面,置于容器中令溶剂缓慢挥发。随着溶剂挥发,氧化石墨烯与水滑石组装成有序的多层复合结构。
在氧化石墨烯/水滑石多层复合结构中,氧化石墨烯起到搭载骨架和结构支撑的作用;氧化石墨烯表面活性基团与水滑石之间的静电吸附作用,使水滑石分布于相邻两层氧化石墨烯片层之间,形成稳定的复合相。
利用扫描电子显微镜(SEM)分析薄膜结构,利用紫外-可见分光光度计分析氧化石墨烯/水滑石复合薄膜材料在3.5%NaCl中的缓释性质。通过调节复合材料中氧化石墨烯与水滑石的质量比例,可以有效控制复合薄膜在3.5%NaCl中释放动力学,这一性质是由于复合薄膜的复合结构导致的,可以再缓释杀菌方面有实际应用价值。
所述氧化石墨烯/水滑石抗菌纳米复合薄膜材料作为抗菌材料的应用。所述菌优选为溶壁微球菌。利用溶壁微球菌测试氧化石墨烯/水滑石复合薄膜材料的抗菌效果。在氧化石墨烯/水滑石复合薄膜材料表面,细菌很难吸附和成活,这意味着该复合薄膜可以铺展的固体表面,起抗菌保护作用。
实施例1
1.氧化石墨烯/水滑石抗菌纳米复合薄膜材料的制备
1.1氧化石墨烯溶液的合成
将1g天然石墨、1g NaNO3和50 mL浓硫酸混合放入250mL烧杯,在0℃冰浴条件下磁力搅拌4h,再慢加6g KMnO4后移除冰浴,在自然条件下约35°C搅拌2h,慢加90mL水并在98°C水浴下搅拌15min,再加200mL温水和20mL H2O2,将液体转移到离心管先用HCl和水离心洗涤,在50°C干燥48h即得氧化石墨。称取氧化石墨0.2g分散在放有100mL水烧杯中,超声剥离氧化石墨,制备浓度为2mg/mL的氧化石墨烯溶液。此溶液即可作为原始的氧化石墨烯溶液用于之后的实验。
1.2青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液的合成
实验用水为刚刚煮沸过的二次去离子水除尽CO2,反应在N2气氛下进行。Mg(NO3)2·6H2O和Al(NO3)3·9H2O配成0.75mol/L的混合盐溶液(Mg2+/Al3+=2)。NaOH配成6mol/L的碱溶液。将盐溶液和碱溶液同时加入到四口烧瓶中剧烈搅拌30min后,过滤,洗涤后将所得浆液转入反应釜中140°C水热晶化10h。整个过程通氮气保护。产物冷却、洗涤、离心分离,取7.5g新鲜制备滤饼加入到含有1.86g青霉素钾盐的100mL水中室温氮气保护剧烈搅拌离子交换24小时。洗涤、离心分离得到青霉素阴离子插层Mg-Al LDHs。XRD测试表明产物具有良好的晶型,属六方晶系,LDH的层状结构特征明显。FT-IR测试表明青霉素阴离子为层间主要的客体阴离子。将所制备水滑石在水中超声分散30分钟制备浓度为2mg/mL的胶体溶液。此溶液可用于之后的实验。
1.3载玻片基底的清洗
将载玻片分别以丙酮、酒精和超纯水超声清洗10分钟,氮气吹干备用。
1.4复合薄膜的制备
1.4.1母液的准备
根据氧化石墨烯溶液和青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液质量比的不同制备母液,选用的母液中样品浓度范围(以氧化石墨烯溶液和青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液的质量相对浓度表示)及所量取的氧化石墨烯溶液和青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液的体积分别为:
(1)氧化石墨烯:水滑石=1:1,氧化石墨烯(2mg/mL)溶液5.0mL,水滑石(2mg/mL)溶液5.0 mL。
(2)氧化石墨烯:水滑石=2:1,氧化石墨烯(2mg/mL)溶液6.6 mL,水滑石(2mg/mL)溶液3.3 mL。
(3)氧化石墨烯:水滑石=3:1,氧化石墨烯(2mg/mL)溶液7.5 mL,水滑石(2mg/mL)溶液2.5 mL。
(4)氧化石墨烯:水滑石=4:1,氧化石墨烯(2mg/mL)溶液8.0mL,水滑石(2mg/mL)溶液2.0 mL。
1.4.2复合薄膜材料的制备
复合薄膜材料采用传统的溶液浇铸法制备。用微量进样器量取2mL母液,滴到清洗过的载玻片上,溶液将在载玻片表面完全铺开,覆盖住整个表面。将其置于室温环境下24小时以上令溶剂完全挥发,氧化石墨烯与水滑石组装成多层结构,即可获得载玻片表面的纳米复合薄膜材料。
2.氧化石墨烯/水滑石纳米复合薄膜的表征
薄膜表面形貌用德国蔡司扫描电子显微镜观测,将薄膜用刀片切开,即可观察截面形貌。图1和图2是纳米复合薄膜样品的表面及截面形貌的SEM照片,从表面照片看,样品表面有一定的褶皱,不是十分平整,从切面看,薄膜具有规整的层状结构,氧化石墨烯在复合结构中起到机械支撑作用。
将制备的纳米复合薄膜切成1*1cm2大小的片,置于10mL 3.5%NaCl溶液中,用日本日立紫外-可见分光光度计跟踪溶液中青霉素阴离子浓度变化。图3中给出氧化石墨烯/水滑石质量比为1:1的纳米复合薄膜的累积释放量和释放时间关系曲线。从中可见,组装在水滑石层间的青霉素阴离子随着释放时间延长,累积释放率增加直至达到平衡。释放初期释放速率相对较快,随后释放速率变慢,达到平衡的时间为15h。
3.抗菌性能检测
将新制备的纳米复合薄膜暴露在新培养的溶壁微球菌溶液中,在37℃下培养24小时,之后超纯水清洗,戊二醛交联固定,酒精脱水,超临界干燥,喷金后用扫描电子显微镜观察。图4是氧化石墨烯/水滑石质量比为1:1的纳米复合薄膜在菌液中浸泡24小时后的SEM照片,从中可以看到表面几乎没有细菌附着,只有少量的细菌代谢产物,受污损比例很小,表明复合薄膜具有良好的抗菌性能。

Claims (6)

1.一种氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料,其特征在于:以质量比为1~4∶1的氧化石墨烯溶液和青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液的混合溶液为原料,经溶液浇铸即得氧化石墨烯/水滑石抗菌纳米复合薄膜材料。
2.按权利要求1所述的氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料,其特征在于:所述氧化石墨烯溶液浓度为2.0mg/mL;青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液浓度为2.0mg/mL。
3.按权利要求1所述的氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料,其特征在于:所述青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液中镁与铝摩尔比为2。
4.一种权利要求1所述的氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料的制备方法,其特征在于:以质量比为1~4∶1的氧化石墨烯溶液和青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液的混合溶液为原料,经溶液浇铸即得氧化石墨烯/水滑石抗菌纳米复合薄膜材料;所述青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液中镁与铝摩尔比为2。
5.一种权利要求1所述的氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料的应用,其特征在于:所述薄膜材料可用作抗菌材料。
6.权利要求5所述的氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料的应用,其特征在于:所述薄膜材料可作为抗菌涂层。
CN201210323199.2A 2012-09-04 2012-09-04 一种氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料及其制备和应用 Expired - Fee Related CN103651564B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210323199.2A CN103651564B (zh) 2012-09-04 2012-09-04 一种氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料及其制备和应用

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210323199.2A CN103651564B (zh) 2012-09-04 2012-09-04 一种氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料及其制备和应用

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103651564A true CN103651564A (zh) 2014-03-26
CN103651564B CN103651564B (zh) 2015-11-18

Family

ID=50291281

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201210323199.2A Expired - Fee Related CN103651564B (zh) 2012-09-04 2012-09-04 一种氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料及其制备和应用

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN103651564B (zh)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106995643A (zh) * 2017-05-23 2017-08-01 上海工程技术大学 一种含石墨烯/锌铝类水滑石纳米复合物的水性涂料及其制备方法
CN108772083A (zh) * 2018-08-17 2018-11-09 佛山朝鸿新材料科技有限公司 一种氧化石墨烯-类水滑石复合薄膜的制备方法
CN109395083A (zh) * 2018-12-29 2019-03-01 吉林大学 一种具有抗菌活性的载药膜及其制备方法
CN109964955A (zh) * 2019-03-29 2019-07-05 四川大学 一种抗菌化改性氧化石墨烯及其制备方法
JP2019532064A (ja) * 2016-10-03 2019-11-07 日東電工株式会社 酸化グラフェン抗微生物要素
CN113214680A (zh) * 2021-06-18 2021-08-06 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 基于氧化石墨烯的纳米协同增强片层材料及其制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102224819A (zh) * 2011-04-02 2011-10-26 中国科学院海洋研究所 一种担载纳米银氧化石墨烯复合杀菌剂及其制备和应用
CN102499249A (zh) * 2011-09-23 2012-06-20 中国科学院海洋研究所 一种缓释型青霉素阴离子插层水滑石材料及其制备和应用

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102224819A (zh) * 2011-04-02 2011-10-26 中国科学院海洋研究所 一种担载纳米银氧化石墨烯复合杀菌剂及其制备和应用
CN102499249A (zh) * 2011-09-23 2012-06-20 中国科学院海洋研究所 一种缓释型青霉素阴离子插层水滑石材料及其制备和应用

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CHEN D等: "Electrically conductive poly(vinyl alcohol) hybrid films containing graphene and layered double hydroxide fabricated via layer-by-layer self-assembly", 《APPLIED MATERIALS & INTERFACES》 *

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019532064A (ja) * 2016-10-03 2019-11-07 日東電工株式会社 酸化グラフェン抗微生物要素
CN106995643A (zh) * 2017-05-23 2017-08-01 上海工程技术大学 一种含石墨烯/锌铝类水滑石纳米复合物的水性涂料及其制备方法
CN106995643B (zh) * 2017-05-23 2019-05-21 上海工程技术大学 一种含石墨烯/锌铝类水滑石纳米复合物的水性涂料及其制备方法
CN108772083A (zh) * 2018-08-17 2018-11-09 佛山朝鸿新材料科技有限公司 一种氧化石墨烯-类水滑石复合薄膜的制备方法
CN108772083B (zh) * 2018-08-17 2021-01-15 苏州烯时代材料科技有限公司 一种氧化石墨烯-类水滑石复合薄膜的制备方法
CN109395083A (zh) * 2018-12-29 2019-03-01 吉林大学 一种具有抗菌活性的载药膜及其制备方法
CN109964955A (zh) * 2019-03-29 2019-07-05 四川大学 一种抗菌化改性氧化石墨烯及其制备方法
CN113214680A (zh) * 2021-06-18 2021-08-06 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 基于氧化石墨烯的纳米协同增强片层材料及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN103651564B (zh) 2015-11-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103651564B (zh) 一种氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料及其制备和应用
Stassen et al. Solvent-free synthesis of supported ZIF-8 films and patterns through transformation of deposited zinc oxide precursors
Malini et al. A versatile chitosan/ZnO nanocomposite with enhanced antimicrobial properties
Mirtalebi et al. Physical, morphological, antimicrobial and release properties of novel MgO-bacterial cellulose nanohybrids prepared by in-situ and ex-situ methods
Liu et al. In situ synthesis of MOF membranes on ZnAl-CO3 LDH buffer layer-modified substrates
CN107951902B (zh) 一种石墨烯抗菌组合物及使用该组合物的卫生材料
WO2015109916A1 (zh) 一种制备石墨烯的方法
JP5766191B2 (ja) 金属酸化物含有層の製造方法
CN109880470B (zh) 一种水性丙烯酸酯延时抗菌涂料的制备方法
Liu Application of graphene oxide in water treatment
CN102350279A (zh) 一种制备碳纳米管/层状双金属氢氧化物复合物的方法
CN102660160A (zh) 一种二氧化硅包覆银核的复合颗粒及其制备方法和应用
CN105498689A (zh) 石墨烯负载纳米ZnO/Ag复合材料及其制备方法
Khan et al. Novel and sensitive ethanol chemi-sensor based on nanohybrid materials
CN101113012A (zh) 高粘附超疏水双功能插层结构类水滑石薄膜及其制备方法
Wang et al. Novel candy-like Cu4O3 microstructure: facile wet chemical synthesis, formation mechanism, and good long-term antibacterial activities
CN102181855A (zh) 一种形貌可控尖晶石薄膜及其制备方法
TWI428411B (zh) 透明抗菌塗層
CN115354491B (zh) 一种纳米纤维素复合材料及其制备方法与应用
CN111661876A (zh) 一种花瓣状二维硫化钼纳米材料的制备方法及其应用
Wang et al. Mg–Al mixed metal oxide film derived from layered double hydroxide precursor film: fabrication and antibacterial properties
US9981242B2 (en) Method of preparing adsorbent for phosphorus adsorption and adsorbent prepared by the same
CN103907600B (zh) 一种氧化石墨烯复合龙脑的抗菌材料
WO2023092809A1 (zh) 改性Nb2CTx纳米片膜及其制备方法
WO2019036767A1 (en) PERCRYSTALLIZATION METHOD AND POROUS MATERIAL FOR USE THEREIN

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20151118

Termination date: 20200904