CN103641329B - 阳光控制镀膜玻璃的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种阳光控制镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：以厚度为20-30mm的绿色玻璃为玻璃基片；在拉引速度为100-120m/h的浮法玻璃生产线的锡槽窄段内，通入硅烷、乙烯和氮气，所述硅烷与乙烯的流量比为2-3:1，锡槽窄段的温度控制在700-720℃，锡槽内的压强控制在35-40Pa，采用化学气相沉积方法在玻璃基片上沉积厚度为5-10mm的硅系纳米膜层，得到所述阳光控制镀膜玻璃；所述硅系纳米膜层的沉积过程采用光学在线检测系统进行监测。本发明提供的阳光控制镀膜玻璃的制备方法，其制备的阳光控制镀膜玻璃，玻璃基片表面的膜层为单层纳米结构，具有极高的抗酸耐碱性和耐磨性，具有较长的使用寿命。
Description
技术领域
本发明涉及阳光控制镀膜玻璃的制备方法。
背景技术
目前，在线阳光控制镀膜工艺难以控制、生产效率低下，且镀制的薄膜层组成一般都为金属氧化物膜层，无保护层，膜层受潮容易氧化、耐酸碱及耐磨性能较差，使用寿命短，颜色单一，满足不了对建筑楼宇的装饰美观要求。
发明内容
本发明的目的在于提供一种阳光控制镀膜玻璃的制备方法，其制备的阳光控制镀膜玻璃，玻璃基片表面的膜层为单层纳米结构，具有极高的抗酸耐碱性和耐磨性，具有较长的使用寿命。
为实现上述目的，本发明的技术方案是设计一种阳光控制镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：
以厚度为20-30mm的绿色玻璃为玻璃基片；
在拉引速度为100-120m/h的浮法玻璃生产线的锡槽窄段内，通入硅烷、乙烯和氮气，所述硅烷与乙烯的流量比为2-3:1，锡槽窄段的温度控制在700-720℃，锡槽内的压强控制在35-40Pa，采用化学气相沉积方法在玻璃基片上沉积厚度为5-10mm的硅系纳米膜层，得到所述阳光控制镀膜玻璃；
所述硅系纳米膜层的沉积过程采用光学在线检测系统进行监测。
本发明的优点和有益效果在于：提供一种阳光控制镀膜玻璃的制备方法，其制备的阳光控制镀膜玻璃，玻璃基片表面的膜层为单层纳米结构，具有极高的抗酸耐碱性和耐磨性，具有较长的使用寿命。
具体实施方式
下面结合实施例，对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案，而不能以此来限制本发明的保护范围。
本发明具体实施的技术方案是：
实施例1
一种阳光控制镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：
以厚度为20mm的绿色玻璃为玻璃基片；
在拉引速度为100m/h的浮法玻璃生产线的锡槽窄段内，通入硅烷、乙烯和氮气，所述硅烷与乙烯的流量比为2:1，锡槽窄段的温度控制在700℃，锡槽内的压强控制在35Pa，采用化学气相沉积方法在玻璃基片上沉积厚度为5mm的硅系纳米膜层，得到所述阳光控制镀膜玻璃；
所述硅系纳米膜层的沉积过程采用光学在线检测系统进行监测。
实施例1
一种阳光控制镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：
以厚度为30mm的绿色玻璃为玻璃基片；
在拉引速度为120m/h的浮法玻璃生产线的锡槽窄段内，通入硅烷、乙烯和氮气，所述硅烷与乙烯的流量比为3:1，锡槽窄段的温度控制在720℃，锡槽内的压强控制在40Pa，采用化学气相沉积方法在玻璃基片上沉积厚度为10mm的硅系纳米膜层，得到所述阳光控制镀膜玻璃；
所述硅系纳米膜层的沉积过程采用光学在线检测系统进行监测。
实施例1
一种阳光控制镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：
以厚度为25mm的绿色玻璃为玻璃基片；
在拉引速度为110m/h的浮法玻璃生产线的锡槽窄段内，通入硅烷、乙烯和氮气，所述硅烷与乙烯的流量比为2.5:1，锡槽窄段的温度控制在710℃，锡槽内的压强控制在38Pa，采用化学气相沉积方法在玻璃基片上沉积厚度为7mm的硅系纳米膜层，得到所述阳光控制镀膜玻璃；
所述硅系纳米膜层的沉积过程采用光学在线检测系统进行监测。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (1)
1.阳光控制镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
以厚度为20-30mm的绿色玻璃为玻璃基片；
在拉引速度为100-120m/h的浮法玻璃生产线的锡槽窄段内，通入硅烷、乙烯和氮气，所述硅烷与乙烯的流量比为2-3:1，锡槽窄段的温度控制在700-720℃，锡槽内的压强控制在35-40Pa，采用化学气相沉积方法在玻璃基片上沉积厚度为5-10mm的硅系纳米膜层，得到所述阳光控制镀膜玻璃；
所述硅系纳米膜层的沉积过程采用光学在线检测系统进行监测。
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