CN103624504A - 内齿圈的加工方法 - Google Patents
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Abstract
内齿圈的加工方法,包括以下步骤:选材:冷轧,墩粗、锻造和正火处理,得到毛坯料。进行粗车外圆,在内全加工出齿形,齿形的节圆要达到工艺要求,齿厚留出加工余量,对内齿部分进行调质处理,然后进行喷砂打磨。校准基准面,使用内齿磨齿机对齿形精加工,精加工达到设备加工的要求,公差保持在1-2微米。然后使用1,3-丁二醇二乙酸酯和1,6-己二醇二乙酸酯的混合溶液进行浸泡,1,3-丁二醇二乙酸酯和1,6-己二醇二乙酸酯的质量比为1:3.3。清洗后干燥。本方法制作的内齿圈质量好,步骤少,简化了工艺。齿圈传递更加平稳,设备更加稳定。
Description
技术领域
本发明属于机械制造领域,特别涉及内齿圈的加工方法。
背景技术
由于齿圈零件的形状特殊,通常需要热处理后精加工齿形,但由于以前内齿圈渗碳、淬火后,加工内齿使很难达到加工的要求,所以会出现质量不好,寿命短,需要经常更换的问题。
发明内容
本发明的目的是提供内齿圈的加工方法,本方法制作的内齿圈质量好,步骤少,简化了工艺。
采用的技术方案是:
内齿圈的加工方法,包括以下步骤:
选材:冷轧,墩粗、锻造和正火处理,得到毛坯料。
进行粗车外圆,在内全加工出齿形,齿形的节圆要达到工艺要求,齿厚留出加工余量,对内齿部分进行调质处理,然后进行喷砂打磨。
校准基准面,使用内齿磨齿机对齿形精加工,精加工达到设备加工的要求,公差保持在1-2微米。
然后使用;1,3- 丁二醇二乙酸酯和1,6- 己二醇二乙酸酯的混合溶液进行浸泡,1,3- 丁二醇二乙酸酯和1,6- 己二醇二乙酸酯的质量比为1:3.3。清洗后干燥。
其优点在于:
本方法制作的内齿圈质量好,步骤少,简化了工艺。齿圈传递更加平稳,设备更加稳定。
具体实施方式
内齿圈的加工方法,包括以下步骤:
选材:冷轧,墩粗、锻造和正火处理,得到毛坯料。
进行粗车外圆,在内全加工出齿形,齿形的节圆要达到工艺要求,齿厚留出加工余量,对内齿部分进行调质处理,然后进行喷砂打磨。
校准基准面,使用内齿磨齿机对齿形精加工,精加工达到设备加工的要求,公差保持在1-2微米。
然后使用;1,3- 丁二醇二乙酸酯和1,6- 己二醇二乙酸酯的混合溶液进行浸泡,1,3- 丁二醇二乙酸酯和1,6- 己二醇二乙酸酯的质量比为1:3.3。清洗后干燥。
Claims (1)
1.内齿圈的加工方法,其特征在于包括以下步骤:
选材:冷轧,墩粗、锻造和正火处理,得到毛坯料;
进行粗车外圆,在内全加工出齿形,齿形的节圆要达到工艺要求,齿厚留出加工余量,对内齿部分进行调质处理,然后进行喷砂打磨;
校准基准面,使用内齿磨齿机对齿形精加工,精加工达到设备加工的要求,公差保持在1-2微米;
然后使用;1,3- 丁二醇二乙酸酯和1,6- 己二醇二乙酸酯的混合溶液进行浸泡,1,3- 丁二醇二乙酸酯和1,6- 己二醇二乙酸酯的质量比为1:3.3;清洗后干燥。
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CN201310612391.8A CN103624504A (zh) | 2013-11-28 | 2013-11-28 | 内齿圈的加工方法 |
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Publications (1)
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CN103624504A true CN103624504A (zh) | 2014-03-12 |
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CN201310612391.8A Pending CN103624504A (zh) | 2013-11-28 | 2013-11-28 | 内齿圈的加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN103624504A (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104057250A (zh) * | 2014-06-04 | 2014-09-24 | 安徽省宁国顺昌机械有限公司 | 一种确保回转支撑内外圈装配互换性的加工工艺 |
CN104959794A (zh) * | 2015-07-08 | 2015-10-07 | 重庆齿轮箱有限责任公司 | 一种风电齿轮箱大型内齿圈加工方法 |
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2013
- 2013-11-28 CN CN201310612391.8A patent/CN103624504A/zh active Pending
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CN104959794A (zh) * | 2015-07-08 | 2015-10-07 | 重庆齿轮箱有限责任公司 | 一种风电齿轮箱大型内齿圈加工方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140312 |