CN103482960B - 光激发高活性多维结构纳米陶瓷片及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种光激发高活性多维结构纳米陶瓷片，其特征在于：原料配方：按质量的百分比取原料：工业废料30～80%、矿物原材料5～30%、高岭土10～50%，其化学成分的百分比为：二氧化硅60～80%、三氧化二铝8～20%、氧化钙0.5～3%、氧化镁1～3%；制备光激发高活性多维结构纳米陶瓷片，采用：混料制浆→骨架成型→定型烘干→高温烧成→催化液喷刷→定温烘干→产品检验→包装出厂的工艺步骤。本发明可有效分解TVOC、VOC几乎全部气体污染物，能将污染物迅速分解成无毒害的清洁气体，并能有效避免使用过滤耗材二次污染问题，对污染环境空气净化、VOC达标排放、清除PM2.5污染、杀灭细菌、病毒，具有无可比拟的能力。
Description
技术领域
本发明属于环保、建筑材料技术领域，特别涉及一种光激发高活性多维结构纳米陶瓷片及其制备方法。
背景技术
目前，在现有技术中对气体污染尤其是对TVOC、VOC的气体污染，传统采用更换过滤耗材或采用表面喷涂的方法解决，存在：使用寿命短、易产生二次污染、污染后耗材的环保处理等问题，更重要的是不能从根本上彻底消除污染。
发明内容
本发明克服了上述存在的缺陷，目的是解决了能够有效分解TVOC、VOC气体污染物，能将污染物分解成无毒害的清洁气体，并能避免使用过滤耗材二次污染问题，提供一种光激发高活性多维结构纳米陶瓷片及其制备方法。
本发明光激发高活性多维结构纳米陶瓷片及其制备方法内容简述：
本发明光激发高活性多维结构纳米陶瓷片及其制备方法，其特征在于：光激发高活性多维结构纳米陶瓷片原料配方：按质量的百分比取原料：工业废料30～80%、矿物原材料5～30%、高岭土10～50%，其化学成分的百分比为：二氧化硅60～80%、三氧化二铝8～20%、氧化钙0.5～3%、氧化镁1～3%；
制备光激发高活性多维结构纳米陶瓷片，采用：混料制浆→骨架成型→定型烘干→高温烧成→催化液喷刷→定温烘干→产品检验→包装出厂的工艺步骤实现的；
混料制浆：将上述原料经过球磨20小时、过筛200目，按质量比的23%加水调成泥浆；
骨架成型：采用聚氨酯泡沫塑料为骨架，挂浆、控干；
定型烘干：进入烘干窑在温度摄氏115度、时间25分钟条件下烘干定型；
高温烧成：将烘干定型的产品送至高温窑在温度摄氏950度、时间150分钟条件下烧结成型；
催化液喷刷：在常温下冷却后喷淋光激发纳米催化液，在产品及空隙中要求均匀喷涂光激发纳米催化液，形成光激发纳米催化液喷涂层；
定温烘干：将经过催化液喷刷后的产品送入烘干窑，在温度摄氏135度、经过30分钟定温烘干；
产品检验：采用压缩空气吹去表面浮尘，进行外观检验；
包装出厂：合格产品包装出厂。
是由：骨架和喷涂层组成，骨架是一种纳米级的无规则多孔陶瓷片，其形状为圆形，或椭圆形、方形、长方形、桶形、三角形及多边形，厚度为4～50㎜，孔的形状呈不规则多维结构，在表面及孔隙中均匀喷涂光激发纳米催化液形成喷涂层。
本发明光激发高活性多维结构纳米陶瓷材料可有效分解TVOC、VOC几乎全部气体污染物，能将污染物迅速分解成无毒害的清洁气体，并能有效避免使用过滤耗材二次污染问题，对污染环境空气净化、VOC达标排放、清除PM2.5污染、杀灭细菌、病毒，具有无可比拟的能力，也可配合中央空调、新风系统，均能实现良好的效果，不产生二次污染、无需更换过滤材料、降低成本，定期维护可大大提高空气净化、优化和清新功能。在光激发下材料表面迅速分解细菌内毒素，杀灭细菌病毒、降低甲醛、苯、氨、氡等有害气体；光激发高活性多维结构纳米陶瓷材料为自清洁型材料，具有长期高效处理污染气体的能力。
附图说明
图1是制备光激发高活性多维结构纳米陶瓷片的工艺流程图；
图2是光激发高活性多维结构纳米陶瓷片结构示意图；
图2中：1是骨架、2是喷涂层。
具体实施方式
本发明光激发高活性多维结构纳米陶瓷片及其制备方法是这样实现的，下面结合附图做具体说明。
见图1，本发明采用低温条件下催化剂附着工艺，解决了催化剂稳固的与载体结合，并可半永久性使用，同时在光激发下材料表面迅速更新保持高能状态。
光激发高活性多维结构纳米陶瓷片原料配方：按质量的百分比取原料：工业废料30～80%、矿物原材料5～30%、高岭土10～50%，其化学成分的百分比为：二氧化硅60～80%、三氧化二铝8～20%、氧化钙0.5～3%、氧化镁1～3%；
制备光激发高活性多维结构纳米陶瓷片，采用：混料制浆→骨架成型→定型烘干→高温烧成→催化液喷刷→定温烘干→产品检验→包装出厂的工艺步骤实现的；
混料制浆：将上述原料经过球磨20小时、过筛200目，按质量比的23%加水调成泥浆；
骨架成型：采用聚氨酯泡沫塑料为骨架，挂浆、控干；
定型烘干：进入烘干窑在温度摄氏115度、时间25分钟条件下烘干定型；
高温烧成：将烘干定型的产品送至高温窑在温度摄氏950度、时间150分钟条件下烧结成型；
催化液喷刷：在常温下冷却后喷淋光激发纳米催化液，在产品及空隙中要求均匀喷涂光激发纳米催化液，形成光激发纳米催化液喷涂层；
定温烘干：将经过催化液喷刷后的产品送入烘干窑，在温度摄氏135度、经过30分钟定温烘干；
产品检验：采用压缩空气吹去表面浮尘，进行外观检验；
包装出厂：合格产品包装出厂。
光激发纳米催化液是进口日本株式会社光触媒研究所生产的产品。
见图2，光激发高活性多维结构纳米陶瓷片，是由：骨架1和喷涂层2组成，骨架1是一种纳米级的无规则多孔陶瓷片，其形状为圆形，或椭圆形、方形、长方形、桶形、三角形及多边形，厚度为4～50㎜，孔的形状呈不规则多维结构，在表面及孔隙中均匀喷涂光激发纳米催化液形成喷涂层2。
本发明光激发高活性多维结构纳米陶瓷片可有效分解TVOC、VOC几乎全部气体污染物，能将污染物迅速分解成无毒害的清洁气体，并能有效避免使用过滤耗材二次污染问题，经过试验及检测证明光激发高活性多维结构纳米陶瓷材料可有效地应用于所有TVOC污染环境行业中的治理。
实施例
本发明采用光激发高活性多维结构纳米陶瓷片，在光激发下价带电子被激发到导带形成电子和空穴，与吸附于表面的O2和H2O作用，生成超氧化物阴离子自由基，O2-羟基自由基-OH，其自由基具有很强的氧化分解能力，能破坏有机物中的C-C键、C-H键、O-H键、N-H键，分解有机物为二氧化碳与水；同时破坏细菌的细胞膜固化病毒的蛋白质，改变细菌、病毒的生存环境从而杀死细菌、病毒。由于该材料是将光能转化为化学能，材料本身不参与反应所以没有消耗。
本发明光激发高活性多维结构纳米陶瓷片，对污染环境空气净化、VOC达标排放、清除PM2.5污染、杀灭细菌、病毒，具有无可比拟的能力，也可配合中央空调、新风系统，均能实现良好的效果，不产生二次污染、无需更换过滤材料、降低成本，定期维护可大大提高空气净化、优化和清新功能。在光激发下材料表面迅速分解细菌内毒素，杀灭细菌病毒、降低甲醛、苯、氨、氡等有害气体；光激发高活性多维结构纳米陶瓷材料为自清洁型材料，具有长期高效处理污染气体的能力。
Claims (3)
1.一种光激发高活性多维结构纳米陶瓷片，其特征在于：光激发高活性多维结构纳米陶瓷片原料配方：按质量的百分比取原料：工业废料30～80%、矿物原材料5～30%、高岭土10～50%，其化学成分的百分比为：二氧化硅60～80%、三氧化二铝8～20%、氧化钙0.5～3%、氧化镁1～3%，上述化学成分的总和是100%；采用：混料制浆→骨架成型→定型烘干→高温烧成→催化剂喷刷→定温烘干→产品检验→包装出厂的工艺步骤实现；
混料制浆：将上述原料经过球磨20小时、过筛200目，按质量比的23%加水调成泥浆；
骨架成型：采用聚氨酯泡沫塑料为骨架，挂浆、控干；
定型烘干：进入烘干窑在温度摄氏115度、时间25分钟条件下烘干定型；
高温烧成：将烘干定型的产品送至高温窑在温度摄氏950度、时间150分钟条件下烧结成型；
催化液喷刷：在常温下冷却后喷淋光激发纳米催化液，在产品及空隙中要求均匀喷涂光激发纳米催化液，形成光激发纳米催化液喷涂层；
定温烘干：将经过催化剂喷刷后的产品送入烘干窑，在温度摄氏135度、经过30分钟定温烘干；
产品检验：采用压缩空气吹去表面浮尘，进行外观检验；
包装出厂，合格产品包装出厂。
2.一种制备如权利要求1所述的光激发高活性多维结构纳米陶瓷片的方法，其特征在于：采用：混料制浆→骨架成型→定型烘干→高温烧成→催化剂喷刷→定温烘干→产品检验→包装出厂的工艺步骤实现；
混料制浆：将上述原料经过球磨20小时、过筛200目，按质量比的23%加水调成泥浆；
骨架成型：采用聚氨酯泡沫塑料为骨架，挂浆、控干；
定型烘干：进入烘干窑在温度摄氏115度、时间25分钟条件下烘干定型；
高温烧成：将烘干定型的产品送至高温窑在温度摄氏950度、时间150分钟条件下烧结成型；
催化液喷刷：在常温下冷却后喷淋光激发纳米催化液，在产品及空隙中要求均匀喷涂光激发纳米催化液，形成光激发纳米催化液喷涂层；
定温烘干：将经过催化剂喷刷后的产品送入烘干窑，在温度摄氏135度、经过30分钟定温烘干；
产品检验：采用压缩空气吹去表面浮尘，进行外观检验；
包装出厂，合格产品包装出厂。
3.根据权利要求1所述的光激发高活性多维结构纳米陶瓷片，其特征在于：是由：骨架（1）和喷涂层（2）组成，骨架（1）是一种纳米级的无规则多孔陶瓷片，其形状为圆形，或椭圆形、方形、桶形、三角形及多边形，厚度为4~50mm，孔的形状呈不规则多维结构，在表面及孔隙中均匀喷涂光激发纳米催化液形成喷涂层（2）。
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