CN103454790A

CN103454790A - 一种检测装置、液晶滴注系统及液晶滴注控制方法

Info

Publication number: CN103454790A
Application number: CN2013103683439A
Authority: CN
Inventors: 井杨坤
Original assignee: BOE Technology Group Co Ltd; Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Current assignee: BOE Technology Group Co Ltd; Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date: 2013-08-22
Filing date: 2013-08-22
Publication date: 2013-12-18
Anticipated expiration: 2033-08-22
Also published as: WO2015024340A1; CN103454790B

Abstract

本发明实施例提供一种检测装置、液晶滴注系统及液晶滴注控制方法，涉及显示技术领域。可以实现对液晶量的实时检测与滴注控制，从而提高产品质量及生产效率，降低生产成本。该液晶滴注系统包括滴注机以及滴注检测设备，滴注机向对盒成型的阵列基板和彩膜基板之间滴注液晶；滴注检测设备检测阵列基板和彩膜基板之间已注入液晶的量，以便根据已注入液晶的量调节下一批对盒成型的阵列基板和彩膜基板之间的液晶滴注。

Description

一种检测装置、液晶滴注系统及液晶滴注控制方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种检测装置、液晶滴注系统及液晶滴注控制方法。

背景技术

TFT-LCD〔Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管-液晶显示器〕由阵列基板和彩膜基板构成。在阵列基板和彩膜基板中采用ODF〔One Drop Filling，液晶滴注法)来实现液晶填充，然后通过控制液晶的偏转，从而实现对光线强弱的控制，再通过彩膜基板，实现图像显示。

在现有的液晶显示器的制造工艺中，阵列基板和彩膜基板之间的液晶量需要根据设计要求以及实际工艺过程中的细微调整来确定。在加工过程中，液晶的填充量存在上限和下限，该上限和下限的中心值为标准填充值。当液晶量趋近于或低于填充量的下限时，基板之间的液晶量较少，液晶对基板的支撑作用减小，从而使得阵列基板与彩膜基板之间用于起支撑作用的PS〔Photo Spacer，柱状隔垫物〕所承受的支撑力增加，压缩量变大，在这种情况下，如果面板受外力拍打或敲击，会引起PS发生位置偏移，由于PS受力较大，PS回复时的阻力同时增大，从而导致PS无法迅速有效的回复到原始位置，最终产生漏光，出现白光不良现象。另一方面，当液晶量趋近于或略高于填充量上限时，液晶对基板的支撑作用相对较大，从而使PS所承受的支撑力减小，压缩量变小，PS所承受回复阻力减小。然而，当液晶面板放置一段时间后，由于液晶自身的重力因素和液晶的流动，使得部分区域出现液晶过多的状态，从而产生重力Mura〔斑痕〕的不良现象。无论是漏光现象还是重力Mura现象都会严重影响显示器件的显示效果。因此，在液晶填充量可允许的范围内，需要对液晶量进行检测并对液晶填充量进行微控，从而能够避免各种不良现象的产生。

现有的对液晶填充量的控制方法为手动调节法或者采用对液晶量进行LC〔1iquid crystal，液晶〕滴注实验，然后将实验结果应用到生产加工中。这样一来就会耗费大量的人力物力，从而降低生产线的稼动率，提高生产成本，降低生产效率。

发明内容

本发明的实施例提供一种检测装置、液晶滴注系统及液晶滴注控制方法，可以实现对液晶量的实时检测与滴注控制，从而提高产品质量及生产效率，降低生产成本。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例的一方面，提供了一种检测装置，用于对液晶面板的液晶量进行检测，包括：

采集单元，用于采集入射光透过所述液晶面板形成的寻常光与非常光，以得到所述寻常光与所述非常光出光点之间的距离，所述入射光与所述液晶面板中的液晶分子的光轴具有预设夹角；

处理单元，用于根据所述出光点之间的距离以及所述预设夹角得到所述液晶面板中液晶的厚度，并将所述厚度与预设定的液晶级差数据进行比对得到所述液晶面板中液晶的量。

本发明实施例的另一方面，提供了一种液晶滴注系统，包括：滴注机以及滴注检测设备；

所述滴注机，用于向对盒成型的阵列基板和彩膜基板之间滴注液晶，所述阵列基板和所述彩膜基板之间具有隔垫物；

所述滴注检测设备，用于检测所述阵列基板和所述彩膜基板之间已注入液晶的量，以便根据所述已注入液晶的量调节液晶滴注；

其中，所述滴注检测设备包括上述的检测装置。

本发明实施例的又一方面，提供了一种液晶滴注控制方法，包括：

滴注机向对盒成型的阵列基板和彩膜基板之间滴注液晶，所述阵列基板和所述彩膜基板之间具有隔垫物；

滴注检测设备检测所述阵列基板和所述彩膜基板之间已注入液晶的量，以便根据所述已注入液晶的量调节液晶滴注；

本发明实施例提供一种检测装置、液晶滴注系统及液晶滴注控制方法，该液晶滴注系统包括滴注机以及滴注检测设备，滴注机向对盒成型的阵列基板和彩膜基板之间滴注液晶；滴注检测设备检测阵列基板和彩膜基板之间已注入液晶的量，以便根据已注入液晶的量调节下一批对盒成型的阵列基板和彩膜基板之间的液晶滴注。这样一来，可以实现对液晶量的实时检测与滴注控制，从而提高产品质量及生产效率，降低生产成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种检测装置示意图；

图2为本发明实施例提供的一种检测装置的详细结构示意图；

图3为本发明实施例提供的液晶双折射原理图；

图4为本发明实施例提供的一种加压装置的加压原理示意图；

图5为本发明实施例提供的一种液晶滴注系统结构示意图；

图6为本发明实施例提供的一种液晶面板结构示意图；

图7为本发明实施例提供的一种液晶滴注系统的详细结构示意图；

图8为本发明实施例提供的一种柱高计算原理图；

图9为本发明实施例提供一种液晶滴注控制方法流程示意图；

图10为本发明实施例提供一种检测装置的检测过程示意图；

图11为本发明实施例提供的一种液晶滴注系统滴注流程示意图；

图12为本发明实施例提供的一种滴注机滴注流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种检测装置10，用于对液晶面板的液晶量进行检测，如图1所示，可以包括：

采集单元101，如图2和图3所示，用于采集入射光L透过液晶面板20形成的寻常光O与非常光E，以得到寻常光O与非常光E的出光点之间的距离d，入射光L与液晶面板20中的液晶分子的光轴X具有预设夹角θ。

处理单元102，用于根据出光点之间的距离d以及预设夹角θ得到液晶面板20中液晶的厚度T，并将T厚度与预设定的液晶级差数据进行比对得到液晶面板中液晶201的量。

需要说明的是，该检测装置10是利用液晶的双折射原理对液晶面板20中已注入的液晶的厚度进行测量。具体的，如图3所示，双折射原理是指，当入射光L与液晶分子的光轴X成一定的角度θ，由于液晶分子为各向异性，可以使得入射光L分解为一束遵循折射定量的寻常光O和一束不遵循折射定律的非常光E，这两束光线通过液晶面板20中的液晶201会产生出光点之间的距离d。处理单元102，可以通过如下公式将该出光点之间的距离d换算为液晶201的厚度T：

T = d \frac{n_{o}^{2} {tg}^{2} θ + n_{e}^{2}}{(n_{o}^{2} - n_{e}^{2}) tgθ}

其中，寻常光O在液晶201内的折射率设为n_o；非常光E在液晶201内的折射率设为n_e，。

需要说明的是，采集单元101如图2所示，包括偏光片1021、扩散板1022、LED背光灯组1023，用于对液晶面板20提供光源。除此之外，该采集单元101还包括用于实现采集功能的CCD(ChargeCoupled Device，电荷耦合装置)相机或红外摄像管(图中未示出)。

具体的，CCD相机可以将被检测的目标转换成图像信号，再传送至处理单元，该处理单元根据像素分布和亮度、颜色等信息，转变成数字化信号，并对这些信号进行各种运算来抽取目标的特征，再根据预设数据实现自动识别功能，并且CCD相机需要背光源。

然而，红外摄像管可以根据液晶面板内液晶运动具有的不同温差对液晶面板进行图像采集，由于任何物体在绝对零度(一273℃)以上都有红外光发射，因此红外摄像管在进行图像采集时可以不需要背光源，其根据液晶面板内不同部位红外热辐射强度的不同来形成据目标与背景或目标各部分之间的温差或热辐射差，从而发现目标并采集，然后生成热图像。所以，红外摄像管不需要背光源。

本发明实施例中的采集单元101以CCD相机为例对采集单元102以及处理单元102的工作原理进行的说明，CCD相机对入射光L照射后发生双折射现象的液晶面板20进行采集并转换为图像信号，再将该图像信号传送至处理单元102，其中，入射光L透过液晶面板20形成寻常光O与非常光E，入射光L与液晶面板20中的液晶分子的光轴X具有预设夹角θ，通过采集单元101以得到寻常光O与非常光E的出光点之间的距离d。由于寻常光O与非常光E会影响所采集图像的像素分布、亮度以及颜色等参数，而处理单元102会根据上述参数将采集的图像信号转换成数字信号，并进行各种运算，根据寻常光O与非常光E的出光点之间的距离d，得到液晶面板20中液晶的厚度T，再将T厚度与预设定的液晶级差数据进行比对得出液晶面板中液晶201的量。需要说明的是，本发明实施例中的采集单元101还可以是红外摄像管，以及其他具有采集功能的设备例如超声成像设备等，在此不再一一举例，但都应当属于本发明的保护范围。

通过利用摄像机以及红外线的物理性质对寻常光O与非常光E进行采集，从而得出这两束光线之间的出光点之间的距离。

需要说明的是，处理单元102还可以具有报警功能，当检测装置01无法对液晶面板20进行检测时，自动进行报警。这样一来，可以对检测故障进行提示，以便工作人员能够第一时间进行维修和检查处理。

本发明实施例提供一种检测装置、该检测装置属于液晶滴注系统，该液晶滴注系统包括滴注机以及滴注检测设备，滴注机向对盒成型的阵列基板和彩膜基板之间滴注液晶；滴注检测设备检测阵列基板和彩膜基板之间已注入液晶的量，以便根据已注入液晶的量调节下一批对盒成型的阵列基板和彩膜基板之间的液晶滴注。这样一来，可以实现对液晶量的实时检测与滴注控制，从而提高产品质量及生产效率，降低生产成本。

进一步地，如图2所示，检测装置10还可以包括：检测腔103，如图2所示，用于放置被检测的液晶面板20。其中检测腔103的表面设置有检测窗口110，可以通过该检测窗口110观测到液晶面板20。具体的该检测窗口可以为低辐射保护玻璃罩。

以及加压单元104，用于对检测腔103中的液晶面板20进行加压处理。

需要说明的是，对液晶面板20加压处理的目的在于，使得液晶面板中的已注入的液晶对该液晶面板起到支撑的作用，这样一来，液晶盒中的液晶处于压缩状态，减少了液晶分子间的间隙，可以更加精确的对液晶厚度进行测量，从而使得对已注入液晶量的计算更加准确。

进一步地，加压单元104可以包括压缩干燥空气喷射部件1041。具体加压原理如4所示，在检测腔103的下部设置气孔1010，该CDA(Compressed Dry Air，压缩干燥空气)喷射部件1041可以喷射出螺旋气体形成气垫将液晶面板20托起，这样一来，可以使得液晶面板的各个位置受压均匀，从而避免了液晶面板由于受压不均而产生的不良现象。

在本发明实施例中，加压单元是以CDA喷射部件1041为例进行的说明。其它能够对液晶面板进行加压处理的装置再次不再一一赘述，但都应当属于本发明的保护范围。

进一步地，如图2所示，检测装置10还可以包括温控单元105，用于控制检测腔103中的检测温度。通过该温控单元105可以对检测腔中的温度进行调节，从而在不同的温度要求下，都能够对液晶面板的液晶量进行测试。本发明实施例中，温控单元将检测腔中的温度控制在65℃，因为液晶面板的背光源的工作温度约为65℃。这样一来可以使得测试中的液晶面板的所处环境与实际工作中的液晶面板所述的环境相接近，从而确保测试结果更加的准确。当然，为了更好的模拟液晶面板的实际工作环境，可以根据不同的地域环境温度对检测腔的温度进行调节。例如，非洲地区的年平均温度要高于亚洲地区，因此可以相应地提高对预出口到非洲的液晶面板的测试温度。

通过采用这样一种检测装置，可以对对盒后的阵列基板和彩膜基板之间已注入液晶的量进行检测，从而根据该已注入液晶的量对下一批对盒成型的阵列基板和彩膜基板之间需要滴注的液晶量进行反馈调节。这样一来，可以实现对液晶量的实时检测，从而优化生产线，提高产品质量。

本发明实施例提供一种液晶滴注系统，如图5所示，包括：滴注机01以及滴注检测设备02。

具体的，滴注机01，如图6所示，用于向对盒成型的阵列基板40和彩膜基板41之间滴注液晶，阵列基板40和彩膜基板41之间具有隔垫物42。

滴注检测设备02，用于检测阵列基板40和彩膜基板41之间已注入液晶的量，以便根据已注入液晶的量调节液晶滴注。

其中，滴注检测设备02包括如上所述的检测装置10。

本发明实施例提供一种液晶滴注系统，该液晶滴注系统包括滴注机以及滴注检测设备，滴注机向对盒成型的阵列基板和彩膜基板之间滴注液晶；滴注检测设备检测阵列基板和彩膜基板之间已注入液晶的量，以便根据已注入液晶的量调节下一批对盒成型的阵列基板和彩膜基板之间的液晶滴注。这样一来，可以实现对液晶量的实时检测与滴注控制，从而提高产品质量及生产效率，降低生产成本。

进一步地，如图7所示，滴注检测设备02还可以包括：

重力斑痕(Mura)检测机11，用于根据阵列基板40和彩膜基板41之间已注入液晶的量对重力Mura的不良现象进行检测。

需要说明的是，重力Mura产生的原因为：液晶显示器的液晶面板在使用过程中处于竖立的状态，这样一来，液晶会由于自身的重力因素，从而使得液晶面板的底部相对于其他区域的液晶量较多。此外，由于液晶面板背光源的工作温度约为65℃，因此，液晶面板中的液晶会受到温度的影响而产生膨胀的现象，使得液晶面板的底部造成盒厚发生较严重的变化，从而使得液晶面板底部出现色不均匀现象，这种现象称为重力Mura现象。这样一种不良现象会降低显示器件的显示效果，以及产品的质量。

这样一来，通过采用重力斑痕检测机11可以根据阵列基板40和彩膜基板41之间已注入液晶的量对重力Mura现象进行检测，从而避免由于重力Mura现象的产生而造成对显示器件显示效果的不良影响。

和/或，

盒厚(Cell Gap)检测机12，用于根据阵列基板40和彩膜基板41之间已注入液晶的量对盒厚参数进行检测。这样一来，可以通过盒厚参数对已注入液晶的量做进一步的检测，从而提高液晶滴注系统的精度。

进一步地，滴注检测设备02还可以包括：

初始检测机，用于对阵列基板40和彩膜基板41之间预注入液晶的量进行检测。

其中，初始检测机包括：PS(Photo Space，柱高)检测机13，用于根据隔垫物42的高度对阵列基板40和彩膜基板41之间预注入液晶的量进行检测。这样一来，可以在显示面板的制作过程中增加了在阵列基板40和彩膜基板41对盒之前的检测，筛选出具有不符合已规定阈值范围内的隔垫物42的阵列基板，从而减小次品率。进一步地，还可以通过对具有符合阈值范围内的隔垫物42的高度变化进行检测，从而确定出预注入液晶盒中的液晶量。

具体的，如图8所示，为隔垫物42的高度的计算示意图，具体的计算公式为：

H＝CG+Dcf-Dtft；

其中，H为隔垫物的高度即柱高；

CG为阵列基板40和彩膜基板41对盒后的液晶面板的盒厚度；

Dcf为彩膜基板41上的彩色滤光结构410与黑矩阵411之间的高度段差；

Dtft为阵列基板40的段差。

以下对液晶滴注系统对液晶量的补偿原理进行详细的说明：

采用ODF(One Drop Fill，液晶滴注法)制造液晶面板的过程中，影响Cell Gap变化的主要因素为液晶总量及柱高。假设液晶总量为P；Cell(液晶面板)面内实际体积为Pv。

通过数组实验测试，将测试Sample(取样)的数据做线性分析，实际的滴注量在某一特定范围内可使液晶总量为一线性方程式。

因此，Cell面内实际体积即为：

Pv＝A*P+B；其中，A与B分别为一常数。

根据上述数组实验测试数据集线性分析，Cell面内理想体积V具有如下公式：

C*V+D，其中，C与D分别为一常数；

理论上Cell面内实际体积应当与Cell面内理想体积相等。

因此，A*P+B＝C*V+D；

则，P＝(C*V+D-B)/A。

假设目前所滴注的液晶总量是通过先滴注一个固定的液晶量，之后再依补正数据来滴注微调的液晶量。因此目标变量即为欲补正的微调液晶量，此时可得以下方程：

P＝X+Y；其中，X为固定的液晶滴注量，Y为微调的补正量

Y＝P-X＝(C*V+D-B)/A-X。

此时，只需要得出Cell面内理想体积“V”后，即可完成液晶量的补正公式。

因此，V＝CG*E；其中，CG为Cell Gap值，E为Main Seal(主要封框胶区域)封闭区域面积。

由上述柱高检测机检测柱高的原理可知隔垫物42的柱高为：

H＝CG+Dcf-Dtft；

因此，CG＝H-Dcf+Dtft；

则液晶补正公式为：

Y＝(C*CG*E+D-B)/A-X＝(C*(H-Dcf+Dtft)*E+D-B)/A-X。

这样一来，由Cell面内理想体积，即能得出每一片液晶面板的液晶补正值，从而可以控制Cell Gap的变异程度，避免重力或擦拭Mura的产生。

本发明实施例提供一种液晶滴注控制方法，如图9所示，包括：

S101、如图6所示，滴注机01向对盒成型的阵列基板40和彩膜基板41之间滴注液晶，其中，阵列基板40和彩膜基板41之间具有隔垫物42。

S102、滴注检测设备02检测阵列基板40和彩膜基板41之间已注入液晶的量，以便根据已注入液晶的量调节液晶滴注。

其中，滴注检测设备02包括如上所述的检测装置01。

具体的，以下结合图3，以图2为例，对检测装置01的检测过程进行详细的说明，如图10所示：

S201、将被检测的液晶面板20载入检测腔103。

S202、点亮LED背光灯组1023，并适度调节LED背光灯组1023以达到最佳的亮度状态。

S203、加压单元104的CDA喷射部件1041对检测腔103中的液晶面板20进行加压处理，使得该液晶面板中的已注入的液晶对该液晶面板起到支撑的作用的状态。

S204、温控单元105将检测腔103中的温度控制在65℃。

S205、采集单元101对入射光L照射后发生双折射现象的液晶面板20进行采集并转换为图像信号，再将该图像信号传送至处理单元102。其中，入射光L透过液晶面板20形成寻常光O与非常光E，入射光L与液晶面板20中的液晶分子的光轴X具有预设夹角θ，通过采集单元101以得到寻常光O与非常光E的出光点之间的距离d。

S206、由于寻常光O与非常光E会影响所采集图像的像素分布、亮度以及颜色等参数，处理单元102会根据上述参数将采集的图像信号转换成数字信号，并进行各种运算，根据出光点之间的距离d得到液晶面板20中液晶的厚度T，并将T厚度与预设定的液晶级差数据进行比对得到液晶面板中液晶201的量。

需要说明的是，上述采集单元101是以CCD相机为例进行的说明。本发明实施例中的采集单元101还可以是红外摄像管，以及其他具有采集功能的设备例如超声成像设备等，在此不再一一举例，但都应当属于本发明的保护范围。

本发明实施例提供一种液晶滴注控制方法，该方法通过液晶滴注系统来实现对对盒成型的阵列基板和彩膜基板之间的液晶量进行实时监测和滴注控制，其中，该液晶滴注系统包括滴注机以及滴注检测设备，该滴注机向对盒成型的阵列基板和彩膜基板之间滴注液晶；其次滴注检测设备检测上述滴注的液晶量，以便根据检测结果调节下一批对盒成型的阵列基板和彩膜基板之间的液晶滴注。这样一来，就实现对液晶量的实时检测与滴注控制，从而提高产品质量及生产效率，降低生产成本。

进一步地，滴注检测设备02的检测方法包括：

重力斑痕(Mura)检测机11，根据阵列基板40和彩膜基板41之间已注入液晶的量对重力Mura的不良现象进行检测。这样一来，通过采用重力斑痕检测机11可以根据阵列基板40和彩膜基板41之间已注入液晶的量对重力Mura现象进行检测，从而避免由于重力Mura现象的产生而造成对显示器件显示效果的不良影响。

和/或，

盒厚(Cell Gap)检测机，根据阵列基板40和彩膜基板41之间已注入液晶的量对盒厚参数进行检测。这样一来，可以通过盒厚参数对已注入液晶的量做进一步的检测，从而提高液晶滴注系统的精度。

进一步地，滴注检测设备02的检测方法还可以包括：

初始检测机13，对阵列基板40和彩膜基板41之间预注入液晶的量进行检测。

其中，初始检测机13包括：PS(Photo Space，柱高)检测机，用于根据隔垫物42的高度对阵列基板40和彩膜基板41之间预注入液晶的量进行检测。这样一来，可以在显示面板的制作过程中增加了在阵列基板40和彩膜基板41对盒之前的检测，筛选出具有不符合已规定阈值范围内的隔垫物42的阵列基板，从而减小次品率。进一步地，还可以通过对具有符合阈值范围内的隔垫物42的高度变化进行检测，从而确定出预注入液晶盒中的液晶量。

H＝CG+Dcf-Dtft；

其中，H为隔垫物的高度即柱高；

CG为阵列基板40和彩膜基板41对盒后的液晶面板的盒厚度；

Dtft为阵列基板40的段差。

以下通过图11对PS检测机与滴注机01的联动过程进行详细的说明。

S301、PS检测机对阵列基板40上PS进行测量，判断PS是否在已规定的阈值(SPEC)内。

S302、如果上述判断结果为是，则对滴注液晶量的设计值与补偿后的PS数据进行数据处理并按照补偿过的液晶量进行液晶滴注，从而完成滴注过程的确认。

S303、如果步骤S301的判断结果为否，则对阵列基板进行不合格处理。从而完成阵列基板40与彩膜基板41对盒之前对阵列基板产品信息的确认。

S304、进行液晶滴注检测，检测预滴注液晶量是否正确。

S305、如果上述判断结果为是，则进将阵列基板40与彩膜基板41之间进行对盒。

S306、如果步骤S304的判断结果为否，检测该预滴注液晶量是否通过补偿处理。

S307、如果上述判断结果为否，对未补偿预滴注液晶量进行补偿。

S308、如果步骤S306的判断结果为是，对滴注过量的预滴注液晶量进行不合格处理。

以下通过图12对滴注机01的工作过程进行详细的说明。

S401、滴注机主控单元的D/A(Digital to Analog，数-模转换)模块输出控制信号到相应的伺服阀。

S402、连接该伺服阀的轴杆机构驱动滴注针管。

S403、对液晶的滴注量进行调节。

S404、通过位移传感器反馈活塞当前的位置，并判断是否达到调节位置。

S405、如果上述判断结果为是，则上传新的液晶量滴注中心值数据。

S406、初始化滴注机的滴注部件进行液晶滴注。

S407、如果步骤S404判断结果为否则重新进行步骤S401。

本领域普通技术人员可以理解：实现上述方法实施例的全部或部分步骤可以通过程序指令相关的硬件来完成，前述的程序可以存储于一计算机可读取存储介质中，该程序在执行时，执行包括上述方法实施例的步骤；而前述的存储介质包括：ROM、RAM、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims

1.一种检测装置，用于对液晶面板的液晶量进行检测，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，还包括：

检测腔，用于放置被检测的液晶面板；和，

加压单元，用于对所述检测腔中的所述液晶面板进行加压处理。

3.根据权利要求2所述的检测装置，其特征在于，所述加压单元包括压缩干燥空气喷射部件。

4.根据权利要求2所述的检测装置，其特征在于，还包括：温控单元，用于控制所述检测腔中的检测温度。

5.一种液晶滴注系统，其特征在于，包括：滴注机以及滴注检测设备；

其中，所述滴注检测设备包括如权利要求1-4任一所述的检测装置。

6.根据权利要求5所述的液晶滴注系统，其特征在于，所述滴注检测设备还包括：

重力斑痕检测机，用于根据所述阵列基板和所述彩膜基板之间已注入液晶的量对重力斑痕的不良现象进行检测；和/或，

盒厚检测机，用于根据所述阵列基板和所述彩膜基板之间已注入液晶的量对盒厚参数进行检测。

7.根据权利要求5所述的液晶滴注系统，其特征在于，所述滴注检测设备还包括：

初始检测机，用于对所述阵列基板和所述彩膜基板之间预注入液晶的量进行检测；

所述初始检测机包括：柱高检测机，用于根据所述隔垫物的高度对所述阵列基板和所述彩膜基板之间预注入液晶的量进行检测。

8.一种液晶滴注控制方法，其特征在于，包括：

滴注检测设备检测所述阵列基板和所述彩膜基板之间已注入液晶的量，以便根据所述已注入液晶的量调节液晶滴注。

9.根据权利要求8所述的控制方法，其特征在于，还包括：

重力斑痕检测机根据所述阵列基板和所述彩膜基板之间已注入液晶的量对重力斑痕的不良现象进行检测；和/或，

盒厚检测机根据所述阵列基板和所述彩膜基板之间已注入液晶的量对盒厚参数进行检测。

10.根据权利要求8所述的控制方法，其特征在于，还包括：

初始检测机对所述阵列基板和所述彩膜基板之间预注入液晶的量进行检测；