CN103352391A - 一种干毯 - Google Patents

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秦建荣
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Abstract

本发明公开了一种干毯,其特征在于:包括合成纤维层和基布层,所述基布层由经线和纬线编制而成,所述合成纤维层包括上合成纤维层和下合成纤维层,所述上合成纤维层包括上中间纤维层和上表层纤维层,所述上中间纤维层设于基布层上表面,并通过针刺方法相结合,所述上表层纤维层设于上中间纤维层上表面,并通过针刺方法相结合,所述下合成纤维层包括下中间纤维层和下表层纤维层,所述下中间纤维层设于基布层下表面,并通过针刺方法相结合,所述下表层纤维层设于下中间纤维层下表面,并通过针刺方法相结合。本发明的优点是:密度小,透气性好,强力大,不易掉毛,耐磨损,使用寿命长,使用方便,满足造纸毛毯不断进步的要求。

Description

一种干毯
技术领域
本发明涉及造纸毛毯领域,尤其涉及一种干毯。
背景技术
在现代造纸过程中,人们通常把纸机分为三个部分,就是由最初的纸浆悬浮液形成湿纸页的部分称为成形部,随后的通过机械压榨以进一步脱去湿纸页中水分的部份称为压榨部,最后由加热的烘缸来排去湿纸页中剩余水分直到所含水量达到需要水平的部分称为干燥部。现在干燥部主要使用编织干网、螺旋干网和化纤针刺干毯等,在特种纸特别是卡纸和高档薄页纸纸机的干燥部主要还是使用化纤针刺干毯。现有技术中这种干毯密度过大、厚度过大、尺寸变形过大、透气度极低、易老化等缺点。
因此,急需一种改进的技术来解决现有技术中所存在的这一问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种干毯。
本发明采用的技术方案是:
一种干毯,包括合成纤维层和基布层,所述基布层由经线和纬线编制而成,所述合成纤维层包括上合成纤维层和下合成纤维层,所述上合成纤维层包括上中间纤维层和上表层纤维层,所述上中间纤维层设于基布层上表面,并通过针刺方法相结合,所述上表层纤维层设于上中间纤维层上表面,并通过针刺方法相结合,所述下合成纤维层包括下中间纤维层和下表层纤维层,所述下中间纤维层设于基布层下表面,并通过针刺方法相结合,所述下表层纤维层设于下中间纤维层下表面,并通过针刺方法相结合。
所述经线和纬线的层与层之间间隔设置。
所述经线是由多根捻合而成的长丝,纤度范围为2000-7000dtex。
所述纬线是单丝,直径范围为0.5-1.0mm。
本发明的优点是:密度小,透气性好,强力大,不易掉毛,耐磨损,使用寿命长,使用方便,满足造纸毛毯不断进步的要求。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
图1为本发明的结构示意图。
其中:1、基布层,2、经线,3、纬线,4、上中间纤维层,5、上表层纤维层,6、下中间纤维层,7、下表层纤维层。
具体实施方式
    如图1所示,本发明的一种干毯,包括合成纤维层和基布层1,所述基布层1由经线2和纬线3编制而成,所述经线2和纬线3的层与层之间间隔设置,所述经线2是由多根捻合而成的长丝,纤度范围为2000-7000dtex,所述纬线3是单丝,直径范围为0.5-1.0mm,所述合成纤维层包括上合成纤维层和下合成纤维层,所述上合成纤维层包括上中间纤维层4和上表层纤维层5,所述上中间纤维层4设于基布层1上表面,并通过针刺方法相结合,所述上表层纤维层5设于上中间纤维层4上表面,并通过针刺方法相结合,所述下合成纤维层包括下中间纤维层6和下表层纤维层7,所述下中间纤维层6设于基布层1下表面,并通过针刺方法相结合,所述下表层纤维层7设于下中间纤维层6下表面,并通过针刺方法相结合,密度小,透气性好,强力大,不易掉毛,耐磨损,使用寿命长,使用方便,满足造纸毛毯不断进步的要求。

Claims (4)

1.一种干毯,其特征在于:包括合成纤维层和基布层,所述基布层由经线和纬线编制而成,所述合成纤维层包括上合成纤维层和下合成纤维层,所述上合成纤维层包括上中间纤维层和上表层纤维层,所述上中间纤维层设于基布层上表面,并通过针刺方法相结合,所述上表层纤维层设于上中间纤维层上表面,并通过针刺方法相结合,所述下合成纤维层包括下中间纤维层和下表层纤维层,所述下中间纤维层设于基布层下表面,并通过针刺方法相结合,所述下表层纤维层设于下中间纤维层下表面,并通过针刺方法相结合。
2.根据权利要求1所述的一种干毯,其特征在于:所述经线和纬线的层与层之间间隔设置。
3.根据权利要求1或2所述的一种干毯,其特征在于:所述经线是由多根捻合而成的长丝,纤度范围为2000-7000dtex。
4.根据权利要求1或2所述的一种干毯,其特征在于:所述纬线是单丝,直径范围为0.5-1.0mm。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20131016