CN103347934A - 用于层压过程的改进的硅酮隔膜 - Google Patents

Abstract

一种隔膜，包括硅酮聚合物和不大于25wt%的弹性体组分的一种共混物。该隔膜的厚度为至少1毫米并且展现至少35%的拉伸保留指数。

Description

用于层压过程的改进的硅酮隔膜

技术领域

本公开总体上涉及用于层压装置的隔膜和使用这种隔膜的方法。

背景技术

考虑到能源政策和环境，工业正转向替代能源，比如风能和太阳能。尤其，工业正转向太阳能技术，比如光电技术。然而，传统的光电系统受到长的回收周期的影响。这种光电器件的早期损坏或故障，可能使得这种太阳能技术在经济上不可行。

已经做出努力，通过将这样的光电器件涂覆或封装在聚合物膜层中，以降低环境因素对光电器件寿命的影响。这种聚合物膜层也可提供耐冲击性和其他机械性能，这些性能改进传统光电器件的可用寿命。

为了施用这种聚合物膜层和封装材料至光电组件，将膜层压至光电组件。层压机可包括一个隔膜，该隔膜在加热膜或封装材料之后接触有待层压至或封装至光电组件的层。

然而，当暴露于用作光电组件封装剂的具体膜时，这种传统的层压机迅速劣化。随着时间的推移，层压的质量和恒定性变差。鉴于此，期望改进的光电膜。

附图简要说明

通过参考附图可以更好地理解本披露，并且使它的众多特征和优点对本领域的普通技术人员而言变得清楚。

图1包括一种示例性层压装置的图示。

图2包括一个示例性的多层膜的图示。

在不同的绘图中使用相同的参考符号指示相似或相同的物件。

详细说明

在一种实施例中，一种层压机包括一个热源和一个布置为接触被层压制品的隔膜。已发现特别腐蚀性的副产物的排气和挥发可导致层压机内隔膜性能的降低。这种隔膜性能的降低可导致封装材料低质量地层压至光电组件。在另一个实例中，已发现隔膜性能的降低会导致隔膜更高频率的更替，因此，造成层压设备更高的费用。考虑到在开放的能源市场中光电组件的价格压力，这种增加的成本导致光电技术经济可行性的降低。

在一个实例中，一种层压机100包括一个热源102和一个隔膜104。层压机100也可包括一个真空源106。隔膜104固定至一个机架，比如上机架108，并且与密封件114和一个第二支架，比如下机架120相互配合形成一个体积112。尽管隔膜104图解为连接至上机架108，但是可设想其他的构造。在图解的层压机100中，在上机架108与隔膜104之间形成一个体积110。

在一个实例中，热源102可以是加热的压盘或垫，其放置在下机架120上，比如所图解的体积112中。在另一个实施例中，热源102可在腔室的外面，比如在下机架120的下方。

实际上，光电组件116位于体积112中，并且将被层压在光电组件116上的膜118放置为与光电组件116接触。尽管膜118图解为在光电组件116上，但是一个或多个膜可以根据希望放置在光电组件116上方或下方。

当采用热源102加热光电组件116和膜118时，在体积112和体积110中都抽真空。一旦膜变得足够软，就解除体积110中的真空，增大体积110中的压力，并且促使隔膜104紧靠膜118和光电组件116。结果，膜118层压至光电组件116。层压之后，解除体积112中的真空，并且层压的光电器件从层压机100中移出。

尽管在横截面中图解了机架108和120，但是其他加固元件，例如横梁和I型梁可设置在机架上以提供另外的结构完整性。可以设想包括不同形状的体积，或提供促使隔膜与光电器件组件接触的方法的替代型层压机。

隔膜104可由一种硅酮聚合物、硅酮/弹性体共混物，或其任何组合形成。尤其，硅酮配制品包括交联的硅酮聚合物。例如，这种硅酮聚合物可以包括聚烷基硅氧烷类，如由一种前体形成的硅酮聚合物，该前体是如二甲基硅氧烷、二乙基硅氧烷、二丙基硅氧烷、甲基乙基硅氧烷、甲基丙基硅氧烷、或它们的组合。在一个实例中，聚烷基硅氧烷包括聚二烷基硅氧烷，比如聚二甲基硅氧烷（PDMS）。在一个具体的实例中，该聚烷基硅氧烷是一种含硅烷的聚二甲基硅氧烷。在另一个实施例中，该聚烷基硅氧烷是一种含乙烯基的聚二甲基硅氧烷。

在又一个实例中，该硅氧烷聚合物是一种含氢化物的聚二甲基硅氧烷和一种含乙烯基的聚二甲基硅氧烷的组合。在一个实例中，该硅酮聚合物是非极性的并且是没有卤化物（如氯和氟的）官能团的，而且没有苯基官能团。可替代地，该硅酮聚合物可以包括卤化物官能团或者苯基官能团。例如，该硅酮聚合物可以包括氟硅酮或苯基硅酮。如在本领域中描述的适合的硅酮聚合物包括在该聚合物链上仅具有甲基基团的MQ硅氧烷聚合物；在该聚合物链上具有甲基和乙烯基的基团的VMQ硅氧烷聚合物；在该聚合物链上具有甲基和苯基的基团的PMQ硅氧烷聚合物；在该聚合物链上具有甲基、苯基、以及乙烯基的基团的PVMQ硅氧烷聚合物；以及在该聚合物链上具有甲基、乙烯基、以及氟的基团的FVMQ硅氧烷聚合物。这些弹性体的具体实施例包括来自Dow Coming的

硅酮弹性体等。

该硅酮配制品可以进一步包括一种催化剂以及其他任选的添加剂类。示例性的添加剂类可以单独地或组合地包括：填充剂类、抑制剂类、着色剂类、以及颜料类。在一个实施例中，该硅酮配制品是一种铂催化的硅酮配制品。可替代地，该硅酮配制品可以是一种过氧化物固化的硅酮配制品。在另一个实例中，该硅酮配制品可以是一种铂催化的且过氧化物固化的硅氧烷配制品的一个组合。该硅酮配制品可以是一种室温固化的（RTV）配制品或一种凝胶。在一个实例中，该硅酮配制品可以是一种液体硅橡胶（LSR）或一种高稠度树胶（HCR）。在一个具体的实例中，该硅氧烷配制品是一种铂催化的LSR。在另外一个实例中，该硅氧烷配制品是由一个二部分式反应系统形成的一种LSR。可替代地，该硅酮配制品是HCR硅酮。

该硅酮配制品可以是一种常规的、商业制备的硅酮聚合物。这种商业制备的硅酮聚合物典型地包括非极性的硅酮聚合物、催化剂、填充剂、以及任选的添加剂类。如在此使用的“常规的”指的是一种商业制备的无任何自粘的部分（moiety）或添加剂的硅酮聚合物。常规的、商业制备的LSR的具体实施例包括美国密歇根州艾德里安市的瓦克硅氧烷公司（Wacker Silicone）的Wacker

LR3003/50以及美国加利福尼亚州凡吐拉市的罗地亚硅酮公司（Rhodia Silicones）的罗地亚

LSR4340。在另一个实例中，该硅氧烷聚合物是一种HCR，如从Wacker Silicone可得的WackerElastosilQ3R4000/50、或者从Dow Corning可得的HS-50High Strength HCR。

在一个实例中，一种常规的、商业制备的硅氧烷聚合物是作为一个两部分式的反应系统可获得的。部分1典型地包括一种含乙烯基的聚二烷基硅氧烷、填充剂、以及催化剂，并且部分2典型地包括一种含氢化物的聚二烷基硅氧烷，以及任选地一种含乙烯基的聚二烷基硅氧烷以及其他添加剂类。在部分1或部分2中可以包括一种反应抑制剂。通过任何适当的混合方法将部分1与部分2混合来生产该硅酮配制品。在一个示例性实施例中，将该两部分式系统在一个混合装置中进行混合。在一个实例中，该混合装置是一个注塑模制机中的混合器。在另一个实例中，该混合装置是一个混合器，如一个和面机、罗斯（Ross）混合器、双辊塑炼机、或布拉本德（Brabender）混合器。

硅酮可与弹性体组分掺混。例如，弹性体组分可包括丁基弹性体、二烯烃弹性体、腈弹性体、氟化的弹性体、氟硅酮弹性体、弹性体嵌段共聚物，或其任何组合。腈弹性体可包括腈橡胶（NBR）、氢化的腈橡胶（HNBR）、或其任何组合。丁基弹性体包括丁基橡胶。氟硅酮橡胶包括氟取代的硅酮橡胶，比如上述硅酮橡胶的氟化衍生物。

有用的弹性体中是弹性体嵌段共聚物，比如苯乙烯-丁二烯（SB）、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯（SBS）、苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯（SIS）、苯乙烯-异戊二烯（SI）、苯乙烯-乙烯丁烯-苯乙烯（SEBS）、苯乙烯-乙烯-丁烯（SEB）苯乙烯-乙烯-丙烯-苯乙烯（SEPS）、异戊二烯-异丁烯橡胶（UR）、苯乙烯-乙烯-丙烯（SEP）、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯（ABS）、或其任何组合。

有用的弹性体中是乙烯丙烯橡胶（EPR）、EPDM橡胶或EPR和EPDM的共混物。示例性的二烯烃弹性体是由至少一种二烯烃单体形成的共聚物。例如，该二烯弹性体可以是乙烯、丙烯和二烯单体的一种共聚物（EPDM）。一个示例性的二烯单体包括一种共轭的二烯，如丁二烯、异戊二烯、氯丁二烯、等等；包括从5至大约25个碳原子的一种非共轭的二烯，如1,4-戊二烯、1,4-己二烯、1,5-己二烯、2,5-二甲基-1,5-己二烯、1,4-辛二烯、等等；一种环二烯，如，环戊二烯、环己二烯、环辛二烯、双环戊二烯等等；一种乙烯基环烯（vinyl cyclic ene），如，1-乙烯基-1-环戊烯、1-乙烯基-1-环己烯等等；一种烷基二环壬二烯，如，3-甲基二环-(4,2,1)-九-3,7-二烯等等；一种茚，如，甲基四氢茚、等等；一种链烯基降冰片烯，如5-亚乙基-2-降冰片烯、5-亚丁基-2-降冰片烯、2-甲代烯丙基-5-降冰片烯、2-异丙烯基-5-降冰片烯、5-(1,5-己二烯基)-2-降冰片烯、5-(3,7-辛二烯基)-2-降冰片烯、等等；一种三环二烯，如3-甲基三环(5,2,1,02,6)-十-3,8-二烯、等等；或它们的任何组合。在一个具体实施例中，该二烯包括一种非共轭的二烯。在另一个实施例中，该二烯弹性体包括链烯基降冰片烯。该二烯弹性体可以包括，例如，基于该二烯弹性体的总重量的从该聚合物的大约63wt%至大约95wt%的乙烯、从大约5wt%至大约37wt%的丙烯、以及从大约0.2wt%至大约15wt%的二烯单体。在一个具体实例中，乙烯含量是从该二烯弹性体的大约70wt%至大约90wt%，丙烯是从大约17wt%至大约31wt%，并且二烯单体是从大约2wt%至大约10wt%。

一种示例性的氟聚合物可以由以下各项形成：由一种单体形成的均聚物、共聚物、三聚物、或聚合物共混物，这种单体是如四氟乙烯、六氟丙烯、氯三氟乙烯、三氟乙烯、偏二氟乙烯、氟乙烯、全氟丙基乙烯基醚、全氟甲基乙烯醚、或它们的任一组合。一种示例性的氟聚合物包括：聚四氟乙烯（PTFE）、氟化乙丙烯的共聚物（FEP）、四氟乙烯和全氟丙基乙烯基醚的共聚物（全氟烷氧基或PFA）、四氟乙烯和全氟甲基乙烯醚的共聚物（MFA）、乙烯和的四氟乙烯共聚物（ETFE）、乙烯和氯三氟乙烯的共聚物（ECTFE）、聚氯三氟乙烯（PCTFE）、聚偏二氟乙烯（PVDF）、包括四氟乙烯、六氟丙烯和偏二氟乙烯的三聚物（THV），或它们的任何共混物或任何掺杂物。在一个实例中，该氟聚合物是一种氟弹性体，如氟化乙丙烯（FEP）、全氟烷氧基（PFA）、聚偏二氟乙烯（PVDF）、或它们的任何组合。在另一个实例中，氟弹性体包括偏二氟乙烯和六氟丙烯的共聚物；THV；偏二氟乙烯、六氟丙烯、四氟乙烯和全氟甲基乙烯基醚的共聚物；丙烯、四氟乙烯和偏二氟乙烯的共聚物；偏二氟乙烯、六氟丙烯、四氟乙烯和全氟甲基乙烯基醚的共聚物；或其任何组合。

在前面段落中所描述的任何弹性体聚合物类型可与催化剂或者熟化剂、填料、颜料、加工助剂、阻燃剂和其他添加剂化合。典型的用于弹性体组合物的催化剂或者熟化剂包括有机过氧化物、铂、钯、铑、钌、有机锡催化剂，或其任何组合。有机过氧化物包括二-叔丁基过氧化物、叔丁基枯基过氧化物、二枯基过氧化物、过氧化苯甲酸叔丁酯、二苯酰基过氧化物、二-(4-甲基苯酰基)过氧化物、二-2,4-二氯苯酰基过氧化物，或其任何组合。合适的有机锡催化剂包括，例如，二丁基锡二十二酸酯、二丁基锡二乙酸酯、二辛基锡马来酸酯、有机钛酸酯等。热塑性的弹性体可以替代地不用催化剂处理。

当存在于共混物中时，包括的弹性体组分的量可以小于50wt%，比如不大于25wt%。例如，包括的弹性体组分的量的范围可以为0.1wt%到25wt%，比如范围为5wt%到25wt%，或甚至范围为10wt%到20wt%。共混物中可以包括的硅酮聚合物的量至少为50wt%，比如至少75wt%。例如，包括的硅酮的量的范围可以为75wt%到99.9wt%，比如范围为75wt%到95wt%，或甚至范围为80wt%到90wt%。

一旦形成，包括共混物的膜的厚度可至少为500微米，比如至少800微米，或者甚至至少1mm。隔膜的厚度可至少为1.2mm，比如至少1.5mm，或者甚至至少2mm。例如，隔膜厚度的范围可为1mm到10mm，比如范围为1.5mm到7mm，或者甚至范围为2mm到5mm。

在一个实例中，隔膜是包括硅酮和弹性体共混物的单层隔膜。在可替代的实例中，隔膜可包括不止一层。例如，如图2所图解，隔膜200可包括至少两层（分别是202和204）。一层可为纯硅酮层并且第二层可包括硅酮和其他弹性体组分的共混物。如所图解，层204包括与有待层压至光电组件的膜接触的一个表面206，而层202支撑层204并且保持与有待层压的膜层不接触。可替代的，层202和204两者都可由弹性体组分和硅酮聚合物的共混物形成。

在使用中，将隔膜并入包括热源和任选地包括真空源的层压机。当从有待粘合的叠层组件（例如，光电组件和膜封装剂）中抽提空气时，层压机施加压力和热。由于这些配制品在氧气存在时通常不会固化，其对于使用乙烯醋酸乙烯酯（EVA）的密封或封装层的光电模块尤其有效。真空层压在施加稳定的、缓和压力至可存在于光电模块中的精细组件和连接件也相当有效。美国专利4,450,034提供了一种真空层压机的描述，但是可以使用多种的构造，并且这不意味着是限制性的例子。

在用于光电模块的真空层压机中，弹性体膜片（隔膜）用于传输压力。在一个示例性构造中，膜片被夹在一个上腔室的下方并通过吸力保持在适当的位置，关闭装置，排空下腔室，并且使得上腔室充满空气。净效果是用缓和的压力推动隔膜靠近有待层压的堆叠。所使用的隔膜是能够容易地变形并符合跨模块表面的任何不规则形状的一种柔性弹性体片材，以便使压力的施加平均。

相对于传统的隔膜，该隔膜展现改进的使用寿命。如在下面的实施例中所图解的，隔膜可对层压机提供改进的使用寿命。使用寿命的这种改进也导致维护成本和其他因素的降低。例如，隔膜可展现期望的拉伸保留指数（tensile retention index）或者期望的伸长保留指数（elongation retentionindex）。拉伸保留指数和伸长保留指数是在大约250oC下样品隔膜暴露于乙烯醋酸乙烯酯（EVA）4小时的时间的抗拉强度和断裂伸长率，分别表示为初始的抗拉强度或者伸长的百分率。隔膜被放置在EVA膜上方的固定设备中加热至大约250oC，并保持在该温度4小时的时间。在暴露之前或之后测试隔膜的拉伸和伸长特性。在一个具体的实例中，隔膜展现至少35%，比如至少40%，至少45%，至少50%，至少55%或者甚至至少60%的拉伸保留指数。伸长保留指数可为至少30%，比如至少35%，至少40%，至少45%，至少50%，至少55%或者甚至至少60%。

隔膜可展现至少500psi，比如至少800psi，或者甚至至少1000psi的初始抗拉强度。进一步，隔膜可展现至少100%，比如至少200%，至少300%，或者甚至至少400%的初始伸长率。

实例

制备HCR硅酮前体和腈弹性体的共混物，其包括量为0%到25wt%的腈弹性体，增量为5wt%。共混物浇注成隔膜。如上述地测试隔膜，以确定其拉伸保留和伸长保留。包括腈弹性体的样品展现期望的保留指数。尤其，包括在5wt%和25wt%之间的腈弹性体的样品展现期望的特性。

在第一实施例中，隔膜包括硅酮聚合物和不大于25wt%的弹性体组分的共混物。隔膜厚度为至少1mm并且展现至少35%的拉伸保留指数。

在第一实施例中的一个实例中，拉伸保留指数至少为45%。例如，拉伸保留指数至少为55%。在另一个实例中，拉伸保留指数至少为60%。在另外的实例中，隔膜展现至少30%的伸长保留指数。例如，伸长保留指数至少为40%，比如至少50%。

在第一实施例中的进一步实例中，弹性体组分包括丁基弹性体、二烯烃弹性体、腈弹性体、氟化的弹性体、氟硅酮弹性体、弹性体嵌段共聚物、或其任何组合。例如，弹性体组分包括腈弹性体，例如腈橡胶（NBR）、氢化的腈橡胶（HNBR）、或其任何组合。在另一个实例中，弹性体组分包括氟弹性体。在另外的实例中，弹性体组分包括丁基弹性体。在进一步的实例中，弹性体组分包括弹性体嵌段共聚物。

在第一实施例的另一实例中，硅酮聚合物包括二甲基硅氧烷、二乙基硅氧烷、二丙基硅氧烷、甲基乙基硅氧烷、甲基丙基硅氧烷、或其任何组合。

在第一实施例的另外实例中，包括的弹性体组分的含量范围为5wt%至25wt%。例如，包括的弹性体组分范围为10wt%至20wt%。

在第二实施例中，一个层压机包括第一和第二支架和一个隔膜，该隔膜与第一支架连接并且限定该隔膜与该第二支架之间的一个体积。隔膜包括硅酮聚合物和不大于25wt%的弹性体组分的共混物。隔膜厚度为至少1mm并且展现至少35%的拉伸保留指数。层压机进一步包括一个热源，其提供热至布置在该体积内的工件。

在第二实施例的一个实例中，拉伸保留指数至少为45%。例如，拉伸保留指数至少为55%，比如至少60%。在另外的实例中，隔膜展现至少30%的伸长保留指数。例如，伸长保留指数至少为40%，比如至少为50%。

在第二实施例进一步实例中，弹性体组分包括丁基弹性体、二烯烃弹性体、腈弹性体、氟化的弹性体、氟硅酮弹性体、弹性体嵌段共聚物、或其任何组合。例如，弹性体组分包括腈弹性体，例如腈橡胶（NBR）、氢化的腈橡胶（HNBR）、或其任何组合。在另一个实例中，弹性体组分包括氟弹性体。在另外的实例中，弹性体组分包括丁基弹性体。在进一步的实例中，弹性体组分包括弹性体嵌段共聚物。

在第二实施例的另一实例中，硅酮聚合物包括二甲基硅氧烷、二乙基硅氧烷、二丙基硅氧烷、甲基乙基硅氧烷、甲基丙基硅氧烷、或其任何组合。

在第三实施例中，一种形成光电器件的方法包括将一个光电组件和一个层压至该光电组件的膜放置在一个机架和一个隔膜之间限定的体积内。隔膜包括硅酮聚合物和不大于25wt%的弹性体组分的共混物。隔膜厚度至少1毫米并且展现至少35%的拉伸保留指数。该方法进一步包括用热源加热该光电组件和膜并且在该体积中施加真空，促使隔膜与膜接触。

应注意，不是所有的以上在整个说明或实例中描述的活动都是必需的，特定活动的一部分可以不是必需的，并且除了描述的那些之外还可以进行一种或多种另外的活动。仍进一步地，将这些活动列出的顺序并不必须是进行它们的顺序。

在以上的说明书中，已经关于多个具体的实施例对这些概念进行了说明。然而，本领域的普通技术人员应理解，在不脱离如在以下的权利要求书中所提出的本发明范围的情况下，能够做出不同的修改和变化。因此，应该在一种解说性的而非一种限制性的意义上看待本说明书和附图，并且所有此类修改均旨在包括于本发明的范围之内。

如本文中所用，术语“包括”（comprises）、“包括了”（comprising）、“包含”（includes）、“包含了”（including）、“具有”（has）、“具有了”（having）或其任何其他的变化形式旨在涵盖非排他性的列入内容。例如，包括一列特征的一种工艺、方法、物品或器具不一定仅限于那些特征，而是可以包括对于这种工艺、方法、物品或器具没有明确列出或固有的其他特征。此外，除明确规定相反的情形外，“或”是指包容性的-或，不是排他性的-或。例如，条件A或B符合以下任一项：A是真（或存在）并且B是假（或不存在），A是假（或不存在）并且B是真（或存在），以及A和B两者都是真（或存在）。

另外，使用“一个/一种（a/an）”来描述本文中所述的元件及组分。这样做仅是为了方便并且给出本发明范围的一种概括性意义。这种描述应该被解读为包含一个（种）或至少一个（种），并且单数还包括复数，除非它明显另有所指。

在以上已经相对于具体实施例描述了益处、其他优点、以及问题解决方案。但是，这些益处、优点、问题解决方案、以及可以导致任意益处、优点、或解决方案出现或变得更显著的任意一种或多种特征不应被解释为任何或所有权利要求的关键性的、必需的、或必要的特征。

在阅读本说明书后，熟练的技术人员将了解，为清楚起见，在此在多个分开的实施例的情形下描述的某些特征也可以在一个单一的实施例中以组合的形式提供。与此相反，为简洁起见，在一个单一的实施例的情形下描述的不同特征也可以分别地或以任何子组合的方式提供。此外，所提及的以范围来说明的数值包括了在该范围之内的每一个值。

Claims (31)

1.一种隔膜，包括硅酮聚合物和不大于25wt%的弹性体组分的一种共混物，该隔膜的厚度为至少1毫米并且展现至少35%的拉伸保留指数。

2.如权利要求1所述的隔膜，其中该拉伸保留指数为至少45%。

3.如权利要求2所述的隔膜，其中该拉伸保留指数为至少55%。

4.如权利要求3所述的隔膜，其中该拉伸保留指数为至少60%。

5.如权利要求1所述的隔膜，其中该隔膜展现至少30%的伸长保留指数。

6.如权利要求5所述的隔膜，其中该伸长保留指数至少为40%。

7.如权利要求6所述的隔膜，其中该伸长保留指数至少为50%。

8.如权利要求1所述的隔膜，其中该弹性体组分包括丁基弹性体、二烯烃弹性体、腈弹性体、氟化的弹性体、氟硅酮弹性体、弹性体嵌段共聚物或其任何组合。

9.如权利要求8所述的隔膜，其中该弹性体组分包括腈弹性体。

10.如权利要求9所述的隔膜，其中该腈弹性体包括腈橡胶（NBR）、氢化的腈橡胶（HNBR）或其任何组合。

11.如权利要求8所述的隔膜，其中该弹性体组分包括氟弹性体。

12.如权利要求8所述的隔膜，其中该弹性体组分包括丁基弹性体。

13.如权利要求8所述的隔膜，其中该弹性体组分包括弹性体嵌段共聚物。

14.如权利要求1所述的隔膜，其中该硅酮聚合物包括二甲基硅氧烷、二乙基硅氧烷、二丙基硅氧烷、甲基乙基硅氧烷、甲基丙基硅氧烷或其任何组合。

15.如权利要求1所述的隔膜，其中所包括的该弹性体组分的范围为5wt%至25wt%。

16.如权利要求15所述的隔膜，其中所包括的该弹性体组分的范围为10wt%至20wt%。

17.一种层压机，包括：

第一和第二支架；

一个隔膜，该隔膜与该第一支架连接并且限定该隔膜与该第二支架之间的一个体积，该隔膜包括硅酮聚合物和不大于25wt%的弹性体组分的一种共混物，该隔膜的厚度为至少1毫米并且展现至少35%的拉伸保留指数；以及

一个热源，其提供热至布置在该体积内的工件。

18.如权利要求17所述的层压机，其中该拉伸保留指数至少为45%。

19.如权利要求18所述的层压机，其中该拉伸保留指数至少为55%。

20.如权利要求19所述的层压机，其中该拉伸保留指数至少为60%。

21.如权利要求17所述的层压机，其中该隔膜展现至少30%的伸长保留指数。

22.如权利要求21所述的层压机，其中该伸长保留指数至少为40%。

23.如权利要求22所述的层压机，其中该伸长保留指数至少为50%。

24.如权利要求17所述的层压机，其中该弹性体组分包括丁基弹性体、二烯烃弹性体、腈弹性体、氟化的弹性体、氟硅酮弹性体、弹性体嵌段共聚物、或其任何组合。

25.如权利要求24所述的层压机，其中该弹性体组分包括腈弹性体。

26.如权利要求25所述的层压机，其中该腈弹性体包括腈橡胶（NBR）、氢化的腈橡胶（HNBR）、或其任何组合。

27.如权利要求24所述的层压机，其中该弹性体组分包括氟弹性体。

28.如权利要求24所述的层压机，其中该弹性体组分包括丁基弹性体。

29.如权利要求24所述的层压机，其中该弹性体组分包括弹性体嵌段共聚物。

30.如权利要求24所述的层压机，其中该硅酮聚合物包括二甲基硅氧烷、二乙基硅氧烷、二丙基硅氧烷、甲基乙基硅氧烷、甲基丙基硅氧烷、或其任何组合。

31.一种形成光电器件的方法，该方法包括：

将一个光电组件和一个层压至该光电组件的膜放置在一个机架与一个隔膜之间限定的体积内，该隔膜包括硅酮聚合物和不大于25wt%的弹性体组分的一种共混物，该隔膜的厚度为至少1毫米并且展现至少35%的拉伸保留指数；

用热源加热该光电组件和膜层；并且

在该体积中施加真空，促使该隔膜与该膜接触。

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