CN103323898A - 制造位相差板的方法 - Google Patents
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Abstract
一种制造位相差板的方法,包含:在基材上形成未固化的光固化材料层;提供一个图案化遮蔽层,以局部地遮蔽该未固化的光固化材料层表面;使第一光源通过该图案化遮蔽层,借以形成部分区域固化的光固化材料层;移除该图案化遮蔽层;以第二光源照射,借此形成具有微结构表面的结构化的光固化材料层;在该结构化的光固化材料层的微结构表面上形成配向层;在该配向层上形成液晶层,该液晶层具有至少一个厚层区与至少一个薄层区。利用两次光照光固化材料层,以在光固化材料层上产生凹凸微结构,借此使形成于其上的配向层及液晶层也具有凹凸微结构,并提供所需求的位相差效果。
Description
技术领域
本发明涉及一种制造位相差板的方法,特别是涉及一种制造具有厚层区与薄层区的位相差板的方法。
背景技术
一般,液晶在不同轴向上具有不同的折射率,即为液晶的复折射性。在许多光学应用上,常利用液晶的复折射性,根据需求的位相差值,将液晶制作成位相差板,搭配使用在背光模块中以提升对比或视角等显示效果。具有不同位相差值且交替排列的位相差板与显示器面板贴合后,搭配有3D效果的内容影像,还可以提供3D的显示效果,且可分别应用在裸眼式或非裸眼式的3D显示器上。
日本专利JP2001-100150提到利用机械加工的方式来制作位相差板。其技术内容为,将购入的液晶位相差板贴附于硬质基板上,利用刀具切割,刮除不要的区域后,形成两区域具有不同的位相差值(两个区域的位相差值相差1/2λ),最后得到两区域具有不同位相差值的位相差板;但此方式刀具容易变形而造成良率降低且方法过于繁复,并有尘粒污染等问题,并不适用于量产。
基于改善上述机械加工方式的缺点,美国专利早期公开号US2007/0020404公开一种制作位相差板的方法。该方法包括:先制备含有可交联与不可交联两种液晶聚合物的混合物;将该混合物涂在基材上的配向层上,以形成液晶层;之后,再进行光照,使液晶层中的可交联液晶聚合物产生交联反应;最后,使用溶剂将液晶层中的不可交联的液晶聚合物移除,以在液晶层上产生所需的位相结构(例如孔洞、沟槽等微结构),进而得到不同的位相差值分布。另外,美国专利US5926241则提到了利用具有Isotropic相的一种液晶来制作位相差膜。其技术内容为,先于基板上涂布液晶层,再将液晶加热至Isotropic相,此时液晶无位相差,曝照紫外光并搭配利用光罩,使特定区域的液晶固化。之后,降至室温使尚未固化的液晶排列,此时液晶为Anisotropic相并具有位相差(两个区域的位相差值相差1/2λ),最后再利用紫外光源曝照,使其全区域固化后形成位相差板;但这种利用加热造成液晶变为Isotropic相后固化,而另一个区域在室温时(为Anisotropic相)固化的方式,会于两个区域之间交界处形成界面,造成液晶排列紊乱而形成漏光,进而使得显示质量下降。
上述美国专利早期公开及美国专利是利用混合不同液晶材料或对液晶材料于不同温度下进行固化而形成位相差板的方式虽可以解决机械加工方式的缺点,但工艺仍嫌复杂,且不易产生具有规则排列图案的位相微结构,加工时对位若不精准,则可能使3D的影像产生鬼影,而使显示质量下降。
发明内容
本发明的目的在于提供一种制造位相差板的方法,其可以改善上述现有技术的缺点。
本发明制造位相差板的方法,包含:在基材上形成未固化的光固化材料层,该未固化的光固化材料层是由可光固化组成物所构成,该可光固化组成物包含至少一种具有多个反应性官能基的可光固化预聚物,且该可光固化预聚物具有70-700g/mol的官能基当量;提供一个图案化遮蔽层,以局部地遮蔽该未固化的光固化材料层表面,使得该未固化的光固化材料层形成至少一个遮蔽区及至少一个非遮蔽区;使第一光源通过该图案化遮蔽层,使得该未固化的光固化材料层中的非遮蔽区的可光固化预聚物产生固化反应,借以使该未固化的光固化材料层形成部分区域固化的光固化材料层,其上具有至少一个凸状固化区与至少一个凹状未固化区;移除该图案化遮蔽层;以第二光源照射,以进一步固化该部分区域固化的光固化材料层,使该部分区域固化的光固化材料层的凹状未固化区产生固化反应,借此形成具有凹凸微结构表面的结构化的光固化材料层;在该结构化的光固化材料层的微结构表面上形成配向层;在该配向层上形成液晶层,并通过该配向层而配向;及固化该液晶层,其中,该固化后的液晶层具有至少一个厚层区与至少一个薄层区。
本发明的有益效果在于:利用两次光照光固化材料层,以在光固化材料层上产生凹凸微结构,借此使形成于其上的配向层及液晶层也具有凹凸微结构,并提供所需求的位相差效果。
附图说明
图1是一个流程图,说明本发明较佳实施例的制造位相差板的方法的步骤;
图2是一个侧视示意图,说明本发明较佳实施例的在基材上形成一未固化的光固化材料层的步骤;
图3是一个侧视示意图,说明本发明较佳实施例的使用一个图案化光罩遮蔽该未固化的光固化材料层的步骤;
图4是一个侧视示意图,说明本发明较佳实施例的经图案化地曝光该未固化的光固化材料层后所形成的部分区域固化的光固化材料层;
图5是一个侧视示意图,说明本发明较佳实施例的同时曝光部分区域固化的光固化材料层的固化区与未固化区的步骤;
图6是一个侧视示意图,说明本发明较佳实施例经图5步骤后所得到的结构化的光固化材料层;
图7是一个侧视示意图,说明本发明较佳实施例在图6所形成的微结构上形成配向层的步骤;及
图8是一个侧视示意图,说明本发明较佳实施例在图7所形成的配向层上形成液晶层的步骤。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本发明进行详细说明。
参阅图8,本发明一种位相差板的较佳实施例,包含:基材21;结构化的光固化材料层22,形成在该基材21上,且具有凹凸微结构表面220;配向层23,形成在该结构化的光固化材料层22的凹凸微结构表面220上;及固化液晶层24,形成在该配向层23上且具有平坦化液晶层表面240。如此形成的具有交替排列凹凸微结构的位相差板是用于与显示器面板贴合后,而可搭配具有3D效果的内容影像,以提供3D的显示效果,且可分别应用在裸眼式或非裸眼式的3D显示器上。
较佳地,该凹凸微结构表面220具有Rz为1.05μm-3.56μm的表面粗糙度(参阅图6),以利于制造具有3D效果的位相差板。Rz值的定义为一层的厚度较厚区(凸区)与厚度较薄区(凹区)间的厚度差距值的十点平均粗糙度(ten-point mean roughness)。Rz可利用探针式表面分析仪(日本KOSAKA制,型号ET-4000A)进行测试。
该固化液晶层24具有多个交替排列条状的厚层区241(最大厚度为d1)与薄层区242(最大厚度为d2)。该厚层区241与薄层区242的最大厚度差(d1-d2)较佳为介于1μm-3μm(参阅图8),如此可以配合习用及易于取得的液晶材料的双折射率差(较佳为0.1-0.3),以制造可应用于3D显示器的位相差板。3D显示的质量是依赖位相差值(液晶层的厚度乘上液晶层的双折射率差等于位相差值)的大小。该厚层区241与薄层区242的位相差值至少须大于200nm才会有较佳的3D显示质量,更佳为大于260nm。
这里须注意的是本发明的位相差板不限于3D显示器的应用,也可应用于例如补偿板等的应用。
参阅图1的工艺方法流程图,本发明一种制造位相差板的方法的一较佳实施例包含:
(a)将含有溶剂的可光固化组成物涂布在基材21上,并干燥以除去该可光固化组成物中的溶剂,以在该基材21上形成未固化的光固化材料层22a(如图2),该可光固化组成物包含光引发剂及至少一种具有多个光反应性官能基的可光固化预聚物(可为单体或寡聚合物),且该可光固化预聚物具有70-700g/mol的官能基当量;
(b)提供一个图案化遮蔽层31,以局部地遮蔽该未固化的光固化材料层22a表面,使得该未固化的光固化材料层22a形成至少一个遮蔽区222及至少一个非遮蔽区221(如图3);
(c)使第一光源(L1)通过该图案化遮蔽层31,使得该未固化的光固化材料层中22a的非遮蔽区221的可光固化预聚物产生固化反应,并因此使得遮蔽区222的可光固化组成物朝非遮蔽区221流动,因而使非遮蔽区221的厚度增加而遮蔽区222的厚度降低,借以使该未固化的光固化材料层22a形成一部分区域固化(regionally cured)的光固化材料层22b,其上具有至少一个凸状固化区223与至少一个凹状未固化区224(如图4);
(d)移除该图案化遮蔽层(如图5);
(e)以第二光源L2照射,以进一步固化该部分区域固化的光固化材料层22b,使该部分区域固化的光固化材料层22b的凹状未固化区224产生固化反应(如图5),借此形成具有凹凸微结构表面220的结构化的光固化材料层22(如图6);
(f)在该结构化的光固化材料层22的凹凸微结构表面220上形成配向层23(如图7),该配向层23具有与凹凸微结构表面220形状相似的配向表面230;
(g)涂布液晶于该配向层23的配向表面230上以形成液晶层24(如图8),并通过该配向层23而配向,且该液晶层完全覆盖于该配向表面230上,而形成平坦化液晶层表面240;及
(h)光照该液晶层24,以固化该液晶层24,其中,固化后的液晶层24具有至少一个厚层区241与至少一个薄层区242(如图8)。
在步骤(a)中的预聚物的官能基当量定义如下:
预聚物的官能基当量=预聚物的分子量/预聚物的官能基数目。
较佳地,该预聚物的官能基当量为80-600g/mol,更佳为85-400g/mol。该预聚物的光固化反应原理及结构化的光固化材料层22的形成将如下更进一步描述。具有可进行光固化反应的官能基的材料,称为光固化材料。将光固化材料与光引发剂混合,以涂布方式形成光固化材料层,再对膜层进行紫外光的照射,紫外光会将光引发剂裂解成自由基(free radical),自由基引发光固化材料的官能基产生反应,随着反应的进行,光固化材料层的分子量与黏度会持续上升,直到光固化材料层的黏度过大,中止光固化反应,而形成干爽的膜面。光固化材料层中的固化区,由于产生光固化反应,需要更多尚未反应的光固化材料来进行光固化反应,因此尚未反应的光固化材料,会由未固化区,往固化区进行流动,以提供尚未反应的光固化材料,使固化区内的光固化反应能持续进行。尚未反应的光固化材料,由未固化区往固化区的流动现象,使固化区的膜变得较厚,而呈现隆起的山峰状;同时也使未固化区的膜变得较薄,而呈现凹陷的山谷状,使得固化区与未固化区之间出现了厚度上的差异,形成山峰与山谷交替出现的表面微结构。当光固化材料的分子量愈小,尚未反应的光固化材料在光固化材料层中的流动速率愈快,尚未反应的光固化材料能较快由未固化区流动至固化区,使未固化区与固化区之间的Rz值较高,也代表所形成的表面微结构会更为明显。当光固化材料的官能基数目愈大,光固化材料在进行光固化反应时,其反应程度会更为激烈,使得尚未反应的光固化材料会较快由未固化区流动至固化区,以维持光固化反应的进行,这使未固化区与固化区之间的Rz值较高,也代表所形成的表面微结构会更为明显。
这里须注意的是,在步骤(c)与(e)中的光固化材料的固化程度可以是完全固化或是部份地固化使得光固化材料不再具有流动性。
该图案化遮蔽层31具有交替排列的条纹状透光区域311与非透光区域312(参阅图3)。该图案化遮蔽层31的透光区域311为用于使该第一光源L1透过,而该非透光区域312为用于阻挡、吸收或反射光源。
该可光固化预聚物主要为具有多元醇的丙烯酸或丙烯酸酯的多官能性丙烯酸树脂预聚物、多元醇及丙烯酸或甲基丙烯的羟基烷酯等所合成的多官能性氨基甲酸丙烯酸树脂预聚物或前述物质的任一组合。较佳地,该可光固化预聚物材料为丙烯酸酯树脂。
可应用于本发明中的溶剂无特别限制,只要能使可光固化预聚物充分溶解的溶剂皆可使用,可以是醇类、酮类、酯类、卤化溶剂、烃类等,例如:丙酮、乙腈、氯仿、氯苯酚、环己烷、环己酮、环戊酮、二氯甲烷、乙酸二乙酯、碳酸二甲酯、乙醇、乙酸乙酯、N,N-二甲基乙酰胺、1,2-丙二醇、2-己酮、甲醇、乙酸甲酯、乙酸丁酯、甲苯、四氢呋喃或前述物质的任一组合。
可应用于本发明中的光引发剂并无特别限制,主要能使可光固化预聚物进行光固化反应皆可使用,可选自乙烯基苯酮类、二苯甲酮衍生物、米希勒酮、苯炔、苯甲基衍生物、苯偶姻衍生物、苯偶姻甲醚类、α-酰氧基酯、噻吨酮类、及蒽醌类。该引发剂的使用量也并无限制,较佳使用量为不低于0.01wt%(以可光固化浆料组成为100wt%时)。
该基材21可为透明绝缘材料。较佳地,该基材21的材料为聚合物,该聚合物是聚酯系树脂、醋酸酯系树脂、聚醚系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、丙烯酸酯系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫系树脂、聚二氯亚乙烯系树脂、甲基丙烯酸酯系树脂或前述物质的任一组合。更佳地,该基材的材料为三醋酸纤维素(triacetyl cellulose)。
较佳地,在步骤(c)中所使用的第一光源可为紫外光、可见光、电子束或X-射线,更佳为使用紫外光来实现,且其紫外光照射剂量(dosage)不低于70mJ/cm2,较佳为介于70-4000mJ/cm2之间,照射剂量低于70mJ/cm2则不易形成微结构,照射剂量高于4000mJ/cm2则易使基底材21变形。更佳地,照射剂量为100-3500mJ/cm2,最佳为400-1500mJ/cm2。另外,前述的第二光源也可为紫外光、可见光、电子束或X-射线,更佳为使用紫外光来实现。于本发明中第二光源的照射剂量,并无特别地限制,只要是可使该部分区域固化的光固化材料层22b固化,皆可被应用于本发明中。此外,第一光源与第二光源可为相同或不同。
该配向层23可以经由下列方式获得。第一种方式是通过涂布光配向型树脂于该凹凸微结构表面220上,烘干,再以线性偏极紫外光(PUV)照射该光配向型树脂,以固化及配向该光配向型树脂而形成该配向层23。第二种方式是通过涂布摩擦配向型树脂于该凹凸微结构表面220上,烘干,再使用摩擦配向法在该摩擦配向型树脂形成预定配向方向的沟槽,而形成该配向层23。
较佳地,该光配向型树脂是选自光致异构化化合物、光致交联化合物或光致裂解化合物。
该光致异构化化合物较佳为偶氮染料系化合物。
该光致交联化合物较佳是选自肉桂酸酯系衍生物、苯基苯乙烯基酮系衍生物、马来酰亚胺基系衍生物、喹啉酮基系衍生物、双苯亚甲基系衍生物、香豆素酯系衍生物或前述物质的任一组合。
该光致裂解化合物是选自聚亚酰胺、聚酰胺、聚酯或聚氨酯。
该摩擦配向型树脂较佳为选自聚酰亚胺系树脂或聚乙烯醇。
以下将以实施例与比较例来说明本发明目的的实施方式与功效。须注意的是,该实施例仅为例示说明用,而不应被解释为本发明实施的限制。
<结构化的光固化材料层的制备>
以下说明实验例1-10的结构化的光固化材料层的制备过程。
<实验例1>
混合0.4g具光反应性官能基的未固化的光固化材料(KYOEISHA公司,型号PE4A,丙烯酸酯系,官能基当量为88g/mo1),0.6g甲苯(toluene)及0.02g光引发剂(美国Ciba,I-184),以配制成固含量为40%的可光固化组成物(1.02g)。
将所配制出的可光固化组成物1.02g,滴于醋酸酯系树脂基材上(日本Konica,型号TAC,5cm×5cm×80μm),以旋转涂布法(spincoating,500rpm,40秒)将涂液均匀展平,置于恒温80℃的烘箱内,烘烤3分钟除去溶剂,再移至恒温100℃的烘箱内,烘烤2分钟以进行热处理,最后恢复至室温,形成基材上方的未固化的光固化材料层,膜厚为4.65μm(如图2)。将线宽110μm,线距110μm的线形光罩,置于所制出的涂有光固化材层材料的基材的上方。使用紫外曝光机(美国Fusion),在氮气环境下,以紫外光照射光罩,以使光固化材料层的未被遮蔽的部份被照射,照射剂量为650mJ/cm2(如图3与4)。将光罩移开,在氮气环境下,再以紫外光直接照射涂有光固化材层材料的基材,照射剂量为450mJ/cm2(如图5),以得到一具有Rz为3.56μm的结构化的光固化材料层(如图6)。
<实验例2-6>
除了所使用的未固化的光固化材料及所制备出的光固化材料层厚度不同以外及实验例6所使用的溶剂不同以外,实验例2-6的结构化的光固化材料层的制备的条件与实验例1相同。实验例1-6的制备条件及所测量的表面粗糙度如表1所示。实验例2使用的未固化的光固化材料为Cognis公司,型号4600,丙烯酸酯系,官能基当量为96.3g/mol。实验例3使用的未固化的光固化材料为Sartomer公司,型号SR444,丙烯酸酯系,官能基当量为99.3g/mol。实验例4使用的未固化的光固化材料为Cognis公司,型号4172F,丙烯酸酯系,官能基当量为132g/mol。实验例5使用的未固化的光固化材料为Sartomer公司,型号CN-9006,丙烯酸酯系,官能基当量为400g/mol。实验例6使用的未固化的光固化材料为双键化工公司,型号176,丙烯酸酯系,官能基当量为750g/mol。
表1
表1(续)
从表1中的实验例1-6的结果可以得知,所使用的未固化的光固化材料的光反应性官能基当量愈大,所得到的结构化的光固化材料层的Rz愈小。特别是当光固化材料的光反应性官能基当量趋向于750时,结构化的光固化材料层的Rz呈急剧下降。
<实验例7-9>
除了所使用的第一次光照射剂量不同以外,实验例7-9的结构化的光固化材料层的制备的条件与实验例1相同。实验例7-9的制备条件及所测量的表面粗糙度Rz如表2所示。
表2
从表2中的实验例1与实验例7-9的结果可以得知,所使用的第一次光照射剂量愈小,所得到的结构化的光固化材料层的Rz愈小。特别是当第一次光照射剂量趋向于50mJ/cm2时,结构化的光固化材料层的Rz呈急剧下降。
<位相差板的制备>
以下说明实施例1-6与比较例1-2的位相差板的制备过程。
<实施例1>
将甲乙酮(methylethylketone)与环戊酮(cyclopentanone)以1∶1的重量比例,配制成混合溶剂3.5g。取光配向树脂0.5g(瑞士Rolic,型号ROP103,肉桂酸酯系,固含量10%),加入所配制的混合溶剂中,以将光配向树脂的固含量稀释成1.25%。将所配制光配向树脂,以旋转涂布法(spin coating,3000rpm,40秒)涂布于上述实验例5所制作的微结构表面上,将其置于恒温为100℃的烘箱内烘烤两分钟以去除溶剂,再取出静置待其恢复至室温。对涂布完成的光配向树脂,使用线性偏极紫外光以照射剂量为20mJ/cm2照射,使光配向树脂具有配向效果且固化而形成一光配向层,厚度为50nm,如图7所示。取液晶固体1g(双折射率差为0.26),加入环戊酮4g,得到固含量为20%的液晶涂布液。于所制成的光配向层上,以旋转涂布法(3000rpm,40秒)涂布所配制的液晶涂布液,再将其置于恒温为60℃的烘箱内烘烤五分钟以去除溶剂,再取出静置待其恢复至室温。将液晶涂布层以照射剂量为120mJ/cm2的紫外光曝照同时通以氮气,使液晶涂布层固化,而得到固化的液晶层,最大厚度(d1)为2.24μm,最大厚度差(d1-d2)为1.04μm,即完成位相差板的制作,如图8。以位相差值量测仪(日本王子计测制,型号KOBRA-CCD)测量实施例1的位相差板,得到位相差值为271nm。
<实施例2>
除了以实验例3所制作的微结构取代实施例1所使用的微结构(实验例5)及所使用的液晶固体不同以外,实施例2的位相差板的制备的条件与实施例1相同。实施例2所使用的液晶固体的双折射率差为0.103。以位相差值量测仪量测得到实施例2的位相差板的位相差值为213nm。
<实施例3>
取聚合度为2600且皂化度为98mol%的PVA酯粒,于80℃至95℃的温度下,将PVA酯粒加入水中,以溶解该等酯粒以得到一混合物。于该混合物中加入甲醇,直到甲醇与水的比例为1∶5(此时PVA的固含量为8-10%),并得到PVA溶液。将所配制PVA溶液,以旋转涂布法(3000rpm,40秒)涂布于实验例5所制作的微结构表面上,将其置于恒温为100℃的烘箱内烘烤两分钟以去除溶剂,再取出静置待其恢复至室温,以得到一PVA树脂层。将涂布完成的PVA树脂层,利用摩擦配向使其具有配向效果,形成一PVA配向层,如图7所示。取液晶固体1g(双折射率差为0.26),加入环戊酮4g,得到固含量为20%的液晶涂布液。于所制成的具配向能力PVA配向层上,以旋转涂布法(3000rpm,40秒)涂布所配制的液晶涂布液,再将其置于恒温为60℃的烘箱内烘烤五分钟以去除溶剂,再取出静置待其恢复至室温。将液晶涂布层以照射剂量为120mJ/cm2的紫外光曝照同时通以氮气,使液晶涂布层固化,完成位相差板的制作,如图8所示。以位相差值量测仪量测得到实施例3的位相差板的位相差值为272nm。
<实施例4>
除了以实验例3所制作的微结构取代实施例3所使用的微结构(实验例5)外,实施例4的位相差板的制备的条件与实施例3相同。以位相差值量测仪量测得到实施例4的位相差板的位相差值为210nm。
<实施例5>
除了以实验例6所制作的微结构取代实施例1所使用的微结构(实验例5)外,实施例5的位相差板的制备的条件与实施例1相同。以位相差值量测仪量测得到实施例5的位相差板的位相差值为12nm。
<实施例6>
除了以实验例6所制作的微结构取代实施例3所使用的微结构(实验例5)外,实施例6的位相差板的制备的条件与实施例3相同。以位相差值量测仪量测得到实施例6的位相差板的位相差值为11nm。
<比较例1>
如中国台湾专利I276903所述的方式,使用预成形的公模,将被涂布于导体模上热固性前趋物层进行压花;接着通过在该热固性前趋物层以辐射、冷却、溶剂蒸发或其他方法固化的期间或之后,将其脱模,而形成微结构。将甲乙酮(methylethylketone)与环戊酮(cyclopentanone)以1∶1的重量比例,配制成混合溶剂3.5g。取光配向树脂0.5g(瑞士Rolic,型号ROP103,肉桂酸酯系,固含量10%),加入所配制的混合溶剂3.5g,将光配向树脂的固含量稀释成1.25%共4g。将所配制光配向树脂,以旋转涂布法(3000rpm,40秒)涂布于所制得的微结构表面上,将其置于恒温为100℃的烘箱内烘烤两分钟以去除溶剂,再取出静置待其恢复至室温。将涂布完成的光配向树脂,使用线性偏极紫外光以照射剂量为20mJ/cm2使光配向树脂固化而具有配向效果,形成一光配向层。取液晶固体1g(双折射率差为0.26),加入环戊酮4g,得到固含量为20%的液晶涂布液。于所制成的光配向层上,以旋转涂布法(3000rpm,40秒)涂布所配制的液晶涂布液,再将其置于恒温为60℃的烘箱内烘烤五分钟以去除溶剂,再取出静置待其恢复至室温。将液晶涂布层以照射剂量为120mJ/cm2的紫外光曝照同时通以氮气,使液晶涂布层固化,而得到位相差板。以位相差值量测仪量测比较例1的位相差板时,无法得到位相差值,也就是说,如此得到的位相差板的液晶涂布层无法被配向。
<比较例2>
如中国台湾专利I276903所述的方式,使用预成形的公模,将被涂布于导体模上热固性前趋物层进行压花;接着通过在该热固性前趋物层以辐射、冷却、溶剂蒸发或其他方法固化的期间或之后,将其脱模,而形成微结构。取聚合度为2600且皂化度为98mol%的PVA酯粒,于80℃至95℃的温度下,将PVA酯粒加入水中,以溶解该等酯粒以得到一混合物。于该混合物中加入甲醇,直到甲醇与水的比例为1∶5(此时PVA的固含量为8-10%),并得到PVA溶液。将所配制PVA溶液,以旋转涂布法(3000rpm,40秒)涂布于所制作的微结构表面上,将其置于恒温为100℃的烘箱内烘烤两分钟以去除溶剂,再取出静置待其恢复至室温,以得到PVA树脂层。将涂布完成的PVA树脂层,利用摩擦配向使其具有配向效果,形成PVA配向层。取液晶固体1g(双折射率差为0.26),加入环戊酮4g,得到固含量为20%的液晶涂布液。于所制成的具配向能力PVA配向层上,以旋转涂布法(3000rpm,40秒)涂布所配制的液晶涂布液,再将其置于恒温为60℃的烘箱内烘烤五分钟以去除溶剂,再取出静置待其恢复至室温。将液晶涂布层以照射剂量为120mJ/cm2的紫外光曝照同时通以氮气,使液晶涂布层固化,完成位相差板的制作。以位相差值量测仪量测比较例2的位相差板时,无法得到位相差值,也就是说,如此得到的位相差板的液晶涂布层无法被配向。
在上述比较例中,由于脱膜的方式会造成结构化表面产生碎屑、颗粒等导致膜面不平整的问题,且脱膜方式使用溶剂、辐射、或是蚀刻等方式会使膜面不利于配向层的均匀涂布与成膜,导致配向层不论是经由PUV或是摩擦配向法,于其上无法顺利产生配向,最终使液晶涂布层不具有配向,因而无法制成位相差板。
以上所述,仅为本发明的较佳实施例而已,当不能以此限定本发明实施的范围,即凡依本发明权利要求及发明内容所作的简单的等效变化与修饰,皆仍属本发明专利的范围。
Claims (15)
1.一种制造位相差板的方法,其特征在于其包含:
在基材上形成未固化的光固化材料层,该未固化的光固化材料层是由可光固化组成物所构成,该可光固化组成物包含至少一种具有多个反应性官能基的可光固化预聚物,且该可光固化预聚物具有70-700g/mol的官能基当量;
提供一个图案化遮蔽层,以局部地遮蔽该未固化的光固化材料层表面,使得该未固化的光固化材料层形成至少一个遮蔽区及至少一个非遮蔽区;
使第一光源通过该图案化遮蔽层,使得该未固化的光固化材料层中的非遮蔽区的该可光固化预聚物产生固化反应,借以使该未固化的光固化材料层形成部分区域固化的光固化材料层,其上具有至少一个凸状固化区与至少一个凹状未固化区;
移除该图案化遮蔽层;
以第二光源照射,以进一步固化该部分区域固化的光固化材料层,使该部分区域固化的光固化材料层的凹状未固化区产生固化反应,借此形成具有凹凸微结构表面的结构化的光固化材料层;
在该结构化的光固化材料层的微结构表面上形成配向层;
在该配向层上形成液晶层,并通过该配向层而配向;及
固化该液晶层,
其中,固化后的液晶层具有至少一个厚层区与至少一个薄层区。
2.根据权利要求1所述的制造位相差板的方法,其特征在于:该具有多个反应性官能基的可光固化预聚物是多官能性丙烯酸树脂预聚物、多官能性氨基甲酸丙烯酸树脂预聚物或前述物质的任一组合。
3.根据权利要求1所述的制造位相差板的方法,其特征在于:该第一光源与该第二光源分别为紫外光、可见光、电子束或X-射线。
4.根据权利要求1所述的制造位相差板的方法,其特征在于:该第一光源为紫外光及其照射剂量为不低于70mJ/cm2且不高于4000mJ/cm2。
5.根据权利要求1所述的制造位相差板的方法,其特征在于:该凹凸微结构表面具有Rz为1.05μm-3.56μm的表面粗糙度。
6.根据权利要求1所述的制造位相差板的方法,其特征在于:固化后的液晶层的厚层区与薄层区的最大厚度差为介于1μm-3μm。
7.根据权利要求1所述的制造位相差板的方法,其特征在于:固化后的液晶层具有0.1-0.3范围的双折射率差。
8.根据权利要求1所述的制造位相差板的方法,其特征在于:该配向层的材料是一种选自光致异构化化合物、光致交联化合物或光致裂解化合物的光配向型树脂。
9.根据权利要求8所述的制造位相差板的方法,其特征在于:该光致异构化化合物是偶氮染料系化合物。
10.根据权利要求8所述的制造位相差板的方法,其特征在于:该光致交联化合物是肉桂酸酯系衍生物、苯基苯乙烯基酮系衍生物、马来酰亚胺基系衍生物、喹啉酮基系衍生物、双苯亚甲基系衍生物、香豆素酯系衍生物或前述物质的任一组合。
11.根据权利要求8所述的制造位相差板的方法,其特征在于:该光致裂解化合物是选自聚亚酰胺、聚酰胺、聚酯或聚氨酯。
12.根据权利要求1所述的制造位相差板的方法,其特征在于:该配向层的材料是一种摩擦配向型树脂。
13.根据权利要求12所述的制造位相差板的方法,其特征在于:该摩擦配向型树脂为选自聚酰亚胺系树脂或聚乙烯醇。
14.根据权利要求1所述的制造位相差板的方法,其特征在于:该基材的材料是聚酯系树脂、醋酸酯系树脂、聚醚系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、丙烯酸酯系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫系树脂、聚二氯亚乙烯系树脂、甲基丙烯酸酯系树脂或前述物质的任一组合。
15.根据权利要求1所述的制造位相差板的方法,其特征在于:该基材的材料为三醋酸纤维素。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2012100739480A CN103323898A (zh) | 2012-03-20 | 2012-03-20 | 制造位相差板的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN2012100739480A CN103323898A (zh) | 2012-03-20 | 2012-03-20 | 制造位相差板的方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103323898A true CN103323898A (zh) | 2013-09-25 |
Family
ID=49192743
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2012100739480A Pending CN103323898A (zh) | 2012-03-20 | 2012-03-20 | 制造位相差板的方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN103323898A (zh) |
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