CN103300546A

CN103300546A - 足形测量方法以及根据足形选配鞋垫的方法

Info

Publication number: CN103300546A
Application number: CN2012100698086A
Authority: CN
Inventors: 吴昆英
Original assignee: AKERMAN INVESTMENTS Ltd
Current assignee: GUANGDONG ZUJI FOOTWEAR Co.,Ltd.
Priority date: 2012-03-16
Filing date: 2012-03-16
Publication date: 2013-09-18
Anticipated expiration: 2032-03-16
Also published as: HK1189467A1; CN103300546B

Abstract

本发明涉及一种足形测量方法以及根据足形选配鞋垫的方法，其足形测量方法包括如下步骤：S1.待测足平踏于测量板上，所述测量板上设有基线，待测足的后跟尖和第二跖骨的前端位于所述基线上；S2.采用电子摄像装置拍摄待测足的后跟照片；S3.在图像显示处理装置上定位所述后跟照片中的内足踝最突出点、外足踝最突出点和后跟中线；S4.计算待测足的外翻系数VI，所述外翻系数VI＝((LM×0.5-LH)/LM)×100，其中，LM为所述内足踝最突出点到后跟中线的距离和所述外足踝最突出点到后跟中线的距离之和，LH为所述外足踝最突出点到后跟中线的距离。通过外翻系数可以判断足外翻的程度，并根据足外翻的程度选配合适的鞋垫，可以提高足的舒适程度。

Description

足形测量方法以及根据足形选配鞋垫的方法

技术领域

本发明涉及足形测量以及鞋垫选配，更具体地说，涉及一种足形测量方法以及根据足形选配鞋垫的方法。

背景技术

鞋垫放置在鞋内，可以对足弓起到额外的支撑，给穿着者提供更大的舒适性。对于一些特殊足形，例如外翻足，由于足底的足弓内侧高度降落，使足底呈扁平状，普通的鞋垫就无法对这种足起到良好的支撑作用，无法缓解足部的疲劳和疼痛，需要选配经过特殊设计的鞋垫，以使足部更为舒适。尽管，也有一些足形测量方法，主要用于测量足的形状并根据足的形状制作鞋楦，但缺少针对选配鞋垫或定做鞋垫的足形测量方法。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于，针对现有技术缺少针对选配鞋垫的足形测量方法，提供一种足形测量方法以及根据足形选配鞋垫的方法。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：构造一种足形测量方法，包括如下步骤：

S1待测足平踏于测量板上，所述测量板上设有基线，待测足踩在所述基线上，待测足的后跟尖和第二跖骨的前端位于所述基线上；

S2采用电子摄像装置拍摄待测足的后跟照片；

S3在图像显示处理装置上定位所述后跟照片中的内足踝最突出点、外足踝最突出点和后跟中线，所述后跟中线为与所述基线相交的竖直线；

S4计算待测足的外翻系数VI，所述外翻系数VI＝((LM×0.5-LH)/LM)×100，其中，LM为所述内足踝最突出点到后跟中线的距离和所述外足踝最突出点到后跟中线的距离之和，LH为所述外足踝最突出点到后跟中线的距离。

在本发明所述的足形测量方法中，所述测量板上设有一对所述基线，一对所述基线相平行，一双待测足同时踏于所述测量板上，一双待测足分别踩在一对所述基线上。

在本发明所述的足形测量方法中，一对所述基线之间的距离为20cm、25cm或30cm。

在本发明所述的足形测量方法中，所述测量板上设有三对所述基线，每对所述基线相平行；

其中：

第一对所述基线之间的距离为30cm，身高大于150cm的待测者的双足分别踩在第一对所述基线上；

第二对所述基线之间的距离为25cm，身高在125cm至150cm之间的待测者的双足分别踩在第二对所述基线上；

第三对所述基线之间的距离为20cm，身高小于125cm的待测者的双足分别踩在第三对所述基线上。

本发明还提供了一种根据足形选配鞋垫的方法，

采用如以上所述的足形测量方法测量足形；

所述鞋垫具有底面和供脚踩踏的上表面，所述上表面包括后跟区域和用于支撑足弓的足弓支撑区域，每一长度尺码的鞋垫包括适于正常足的标准鞋垫C垫和适于外翻足的非标准鞋垫，所述标准鞋垫和非标准鞋垫的后跟区域的宽度相同；所述非标准鞋垫的后跟区域的内侧高度高于外侧高度，所述非标准鞋垫的足弓支撑区域的外侧轮廓线超出中平面，所述中平面为与鞋垫长度方向平行的竖直平面，所述中平面经后跟区域的宽度的1/2处；

当待测足的外翻系数VI为-6～8时，为待测足选配标准鞋垫C垫；

当待测足的外翻系数VI大于8时，为待测足选配非标准鞋垫。

在本发明的足形选配鞋垫的方法中，所述非标准鞋垫包括B垫，

设：所述B垫的后跟区域的宽度为HW，所述B垫的后跟区域与底面的夹角为BHA，所述B垫的后跟区域的厚度为BHT，所述BHT为B垫的后跟区域的内侧和外侧的高度差，所述B垫的足弓支撑区域的加阔度为BAW，所述BAW为B垫的足弓支撑区域的外侧轮廓顶点与所述中平面之间的距离，所述C垫的足弓支撑区域的加阔度为CAW；则上述采参数满足以下关系：BHT＝HW×tan(BHA)，BAW＝CAW+BHT；所述BHA为0～5度；

当待测足的外翻系数VI为8～12时，为待测足选配B垫。

在本发明的足形选配鞋垫的方法中，所述非标准鞋垫还包括A垫，

设：所述A垫的后跟区域的宽度为HW，所述A垫的后跟区域与底面的夹角为AHA，所述A垫的后跟区域的厚度为AHT，所述AHT为A垫的后跟区域的内侧和外侧的高度差，所述A垫的足弓支撑区域的加阔度为AAW，所述AAW为A垫的足弓支撑区域的外侧轮廓顶点与所述中平面之间的距离；则上述采参数满足如下关系：AHT＝HW×tan(AHA)，AAW＝CAW+BHT×2；所述AHA为5～10度；

当待测足的外翻系数VI为12～16时，为待测足选配A垫。

在本发明的足形选配鞋垫的方法中，设所述C垫的足弓支撑区域的内侧高度为CAH，B垫的足弓支撑区域的内侧高度为BAH，A垫的足弓支撑区域的内侧高度为AAH，则上述参数满足如下关系：BAH＝CAH+BHT，AAH＝CAH+BHT×2。

在本发明的足形选配鞋垫的方法中，所述C垫的后跟区域的内侧高度等于外侧高度，所述C垫的足弓支撑区域的外侧轮廓线的顶点位于所述中平面上。

在本发明的足形选配鞋垫的方法中，所述非标准鞋垫的足弓支撑区域的外侧轮廓线的顶点与所述中平面的距离为0～8mm；所述非标准鞋垫的后跟区域的内侧高度比外侧高度高0～8mm；所述非标准鞋垫的所述后跟区域与底面的夹角为0～10度。

实施本发明的足形测量方法以及根据足形选配鞋垫的方法，具有以下有益效果：本发明的足形测量方法可以方便快捷的测量出足的外翻程度，根据足的外翻程度选择合适的鞋垫，有助于提高足部的舒适程度。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中：

图1是本发明的足形测量方法的流程图；

图2是本发明的足形测量方法所用的足形测量仪的示意图；

图3是图2中测量仪的测量板上的基线的示意图；

图4是足底与基线的相对位置的示意图；

图5是双足与一对基线的相对位置的示意图；

图6是定位足跟照片中外足踝最突出点、内足踝最突出点和后跟中线的示意图；

图7是本发明的根据足形选配鞋垫的方法中所用的鞋垫的示意图；

图8是图7中鞋垫的内侧视图；

图9是图7中Ⅰ-Ⅰ面剖视图；

图10是图7中Ⅱ-Ⅱ面剖视图。

具体实施方式

为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图详细说明本发明的具体实施方式。

如图1所示，为本发明的足形测量方法的一个优选实施例的流程图，其采用如图2所示的足形测量仪4进行测量，足形测量仪4包括阴影仪40和计算机41组成。其中阴影仪40包括站台42、测量板43、以及扶手44等构成，其中测量板43由玻璃板构成；计算机41包括主机和显示器，计算机41作为图像显示处理装置使用；足形测量仪4还包括电子摄像装置(未示出)，用于拍摄足后跟照片，电子摄像装置可以是常用的数码相机、摄像头等。参看图1，本发明的足形测量方法主要包括如下步骤，

S1待测足5平踏于测量板43上，测量板43上设有基线431，待测足5踩在基线431上，待测足5的后跟尖51和第二跖骨的前端52位于基线431上；

S2采用电子摄像装置拍摄待测足5的后跟照片；

S3在图像显示处理装置上定位后跟照片中的内足踝最突出点53、外足踝最突出点54和后跟中线55，后跟中线55为与基线431相交的竖直线；

S4计算待测足的外翻系数VI，外翻系数VI＝((LM×0.5-LH)/LM)×100，其中，LM为内足踝最突出点53到后跟中线55的距离和外足踝最突出点54到后跟中线55的距离之和，LH为外足踝最突出点54到后跟中线55的距离。

在步骤S1中，平踏是指待测者的双足处于同一平面上，而且双足之间的距离与盘骨同宽，保持正常站立的姿势；待测足5的后跟尖51是足印的后跟最突出的点，图4和图5示出了待测足5与基线431之间的相对位置，待测足的后跟尖51和第二跖骨的前端52位于基线431之上。

在步骤S2中，是从后跟的后方拍摄后跟照片，拍摄的角度正对待测足的后跟，跟基线431的延伸方向平行。拍摄后跟照片的步骤，可以将电子摄像装置与计算机41相连接，由计算机41控制电子摄像装置来拍摄后跟照片，例如可以用计算键盘或鼠标来操作电子摄像装置，拍摄完成后，后跟照片直接输入或存储在计算机41中。当然，也可以采用其他常规适用的方式来操作电子摄像装置进行后跟照片的拍摄。

参看图6，在步骤S3中，利用图像显示处理装置来定位待测足5的内足踝最突出点53和外足踝最突出点54，这个过程由作为图像显示处理装置的计算机41完成，具体是在计算机41的显示器上显示后跟照片，然后可以利用鼠标点击后跟照片中内足踝最突出点53、外足踝最突出点54，以及基线431上的点计算机41自动确定后跟中线，也即与基线431相交的竖直线。当然，定位内足踝最突出点53和外足踝最突出点54也可由计算程序自动完成，也可以在人工干预下完成。

在步骤S4中，计算待测足5的外翻系数VI，该步骤由计算机41完成，VI＝((LM×0.5-LH)/LM)×100，外翻系数VI可以用来衡量待测足5的外翻程度，当外翻系数VI为-6～8时，可以认为足外翻程度基本上是正常的，当外翻系数VI大于8时，此时待测足5属于外翻足，外翻系数VI越大，说明外翻的程度越严重，如果外翻系数小于-6，则说明待测足5属于内翻足，同理外翻系数VI为负值，且值越小，说明内翻程度越严重。

在本实施例中，待测者的双足是同时踏于测量板43上的，在测量板43设有三对基线431a、431b、431c，每对基线的间距不同，但每对基线都关于图3中中间短线432对称，每对基线适合不同身高的待测者。其中，第一对基线431a之间的距离为30cm，适合身高大于150cm的待测者，身高大于150cm的待测者的双足分别踩在第一对基线431a上；第二对基线431b之间的距离为25cm，适合身高在125cm至150cm之间的待测者，身高在125cm至150cm之间的待测者的双足分别踩在第二对基线431b上；第三对基线431c之间的距离为20cm，适合身高小于125cm的待测者，身高小于125cm的待测者的双足分别踩在第三对基线431c上。根据不同身高的盘骨宽度不同，设置三对间距不同的基线，使足外翻系数VI的测量更为科学，更为准确，可以为选配鞋垫提供很好的依据。

需要理解的是，本发明的足形测量方法并不必须双足同时测，也可以每次只测量一只脚，这样就只需要在测量板43上只设置一条基线431即可。当然，测量板43上的基线431的对数除了三对，也可是一对、两对或更多对，每对基线431之间的距离可以根据身高和盘骨宽的比例来设记。

以上介绍了本发明的足形测量方法是如何实现的，下面介绍根据足形选配鞋垫的方法是如何实施的。

首先根据足形测量方法测量待测足的外翻系数VI，然后根据外翻系数VI选择合适的鞋垫。

在本发明中，所选配的鞋垫也是正对外翻足设计的，如图7和图8所示，为本发明的鞋垫的示意图，该鞋垫具有底面1和供脚踩踏的上表面2，其中上表面包括后跟区域21和用于支撑足弓的足弓支撑区域22，其中足弓支撑区域22为呈弧面状，可以对足弓起到支撑作用。参看图1，其中虚线所示的轮廓线101为底面外轮廓，最外圈的轮廓线201为上表面2的外轮廓，轮廓线221为足弓支撑区域22的外侧轮廓。

参看图9和图10，为了能够对外翻足提供良好的支撑，改善鞋垫的舒适程度，后跟区域21的内侧高度高于外侧高度，优选的，后跟区域21具有一定斜度，也即后跟区域21与底面1具有一定的夹角，鞋垫的后跟区域21内侧高外侧低，这样可以抬高足的内侧，把足后部外翻控制至接近垂直，可以对外翻足起到一定的控制作用。

为了对外翻足的较为扁平的足弓提供良好的承托，足弓支撑区域22在鞋垫的宽度方向上进行了加阔处理，使足弓支撑区域22的外侧轮廓线221超出中平面3，其中，中平面3为与鞋垫长度方向平行的竖直平面，中平面3经过后跟区域21的宽度的1/2处。

参看图7至10，图中的参数如下：

鞋垫长度L：鞋垫后沿到前沿的距离为鞋垫的长度；

后跟区域长度HL：由鞋垫后沿向前至长度的1/8处，也即HL＝L/8；

后跟区域宽度HW：距鞋垫后沿HL处的截面的底边宽度；

足弓长度AL：足弓支撑区域的外侧轮廓的顶点距鞋垫后沿的距离，也即足弓支撑区域的外轮廓上处于最外侧的点；

足弓加阔度AW：足弓支撑区域的外轮廓的顶点距离中平面3的距离；

后跟区域与底面的夹角HA；

后跟区域的厚度HT：后跟区域的内侧与外侧的高度差；

足弓支撑区域的高度AH：足弓支撑区域22的内侧的高度。

在本实施例中，后跟区域21与底面1的夹角，也即HA，可以为0～10度，足外翻越严重，后跟区域21与底面1夹角越大；后跟区域21的内侧高度与外侧高度的差值，也即后跟区域厚度HT，为0～8mm，足外翻越严重，后跟区域21的内侧高度比外侧高度的差值越大；足弓支撑区域22的外侧轮廓线221的顶点与中平面的距离，也及足弓加阔度AW，为0～8mm，足弓扁平化越严重，则足弓加阔度越大。需要理解的是，本发明的鞋垫的参数，并不局限与上述具体数值，可以根据实际情况，做出相应的改变。

为了方便选择鞋垫，可以针对每一尺码的鞋垫设计适于正常足的标准鞋垫和适于外翻足的非标准鞋垫，还可以针对不同程度外翻的外翻足设计两种或两种以上的非标准鞋垫，以方便选择。非标准鞋垫的后跟区域的内侧高度高于外侧高度，非标准鞋垫的足弓支撑区域的外侧轮廓线超出中平面。

下面以欧码31码为例说明，同一长度尺码的鞋垫设计不同的鞋垫以满足不同足型的需要。

该欧码31码鞋垫包括C垫、B垫和A垫三种规格，C垫、B垫和A垫的长度L相同，后跟区域的宽度HW也相同，HW＝43.5mm。

其中C垫参数如下：

足弓支撑区域的高度CAH＝14.5mm，

足弓加阔度CAW＝0，也即足弓支撑区域22的外侧轮廓221的顶点位于中平面3上，

后跟区域与底面的夹角CHA＝0，也即后跟区域的内侧高度和外侧高度相同；

后跟区域的厚度CHT＝HW×tan(CHA)＝43.5×tan(0)＝0mm；

B垫的参数为：

后跟区域与底面夹角BHA＝4°，

后跟区域的厚度BHT＝HW×tan(BHA)＝43.5Xtan(4°)＝3mm，

足弓支撑区域的高度BAH＝CAH+BHT＝14.5+3＝17.5mm，

足弓加阔度BAW＝CAW+BHT＝0+3＝3mm；

A垫的参数为：

后跟区域与底面夹角AHA＝6°，

后跟区域的厚度AHT＝HW×tan(AHA)＝43.5Xtan(6°)＝4.5mm，

足弓支撑区域的高度AAH＝CAH+BHT×2＝14.5+3x2＝20.5mm，

足弓加阔度AAW＝CAW+BHTX2＝0+3×2＝6mm。

以上C垫、B垫、A垫的参数相关的关系公式是根据大量的统计拟合的，是作为优选采用的。C垫适合正常足，B垫适合轻度外翻的外翻足，A垫适合外翻程度严重的外翻足。具体可以根据待测足的外翻系数VI，以选配合适的鞋垫，例如，当待测足的外翻系数VI为-6～8时，为待测足选配标准鞋垫C垫；当待测足的外翻系数VI大于8时，为待测足选配非标准鞋垫，更具体的，当待测足的外翻系数VI为8～12时，为待测足选配B垫；当待测足的外翻系数VI为12～16时，为待测足选配A垫。当双足的外翻程度不一致时，会选用幅度较低一边的鞋垫，如差距很大，则建议需要订造鞋垫。

C垫、B垫、A垫的具体参数并不局限于上述具体参数，上述具体参数仅是示意性的，而非限制性的。B垫的后跟区域与底面的夹角BHA可以为0～5度，A垫的后跟区域与底面的夹角AHA可以为5～10度。

将同一长度尺码的鞋垫设计成C垫和B垫，或者设计呈C垫、B垫和A垫，然后根据测量得到的足的外翻系数选配合适的鞋垫，以提高鞋垫的舒适程度，缓解足部的不适、疲劳以及疼痛。

上面结合附图对本发明的实施例进行了描述，但是本发明并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本发明的启示下，在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，这些均属于本发明的保护之内。

Claims

1.一种足形测量方法，其特征在于，包括如下步骤：

S2采用电子摄像装置拍摄待测足的后跟照片；

2.根据权利要求1所述的足形测量方法，其特征在于，所述测量板上设有一对所述基线，一对所述基线相平行，一双待测足同时踏于所述测量板上，一双待测足分别踩在一对所述基线上。

3.根据权利要求2所述的足形测量方法，其特征在于，一对所述基线之间的距离为20cm、25cm或30cm。

4.根据权利要求1所述的足形测量方法，其特征在于，所述测量板上设有三对所述基线，每对所述基线相平行；

其中：

5.一种根据足形选配鞋垫的方法，其特征在于，

采用如权利要求1至4任一项所述的足形测量方法测量足形；

当待测足的外翻系数VI大于8时，为待测足选配非标准鞋垫。

6.根据权利要求5所述的根据足形选配鞋垫的方法，其特征在于，所述非标准鞋垫包括B垫，

当待测足的外翻系数VI为8～12时，为待测足选配B垫。

7.根据权利要求6所述的根据足形选配鞋垫的方法，其特征在于，所述非标准鞋垫还包括A垫，

当待测足的外翻系数VI为12～16时，为待测足选配A垫。

8.根据权利要求7所述的根据足形选配鞋垫的方法，其特征在于，设所述C垫的足弓支撑区域的内侧高度为CAH，B垫的足弓支撑区域的内侧高度为BAH，A垫的足弓支撑区域的内侧高度为AAH，则上述参数满足如下关系：BAH＝CAH+BHT，AAH＝CAH+BHT×2。

9.根据权利要求7所述的根据足形选配鞋垫的方法，其特征在于，所述C垫的后跟区域的内侧高度等于外侧高度，所述C垫的足弓支撑区域的外侧轮廓线的顶点位于所述中平面上。

10.根据权利要求5的根据足形选配鞋垫的方法，其特征在于，所述非标准鞋垫的足弓支撑区域的外侧轮廓线的顶点与所述中平面的距离为0～8mm；所述非标准鞋垫的后跟区域的内侧高度比外侧高度高0～8mm；所述非标准鞋垫的所述后跟区域与底面的夹角为0～10度。