CN103290393A - 一种膜带连续单面化学镀装置及其方法 - Google Patents

一种膜带连续单面化学镀装置及其方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种膜带连续单面化学镀装置及其方法，该装置由阻流搅拌辊（3）、承载平台（4）、导入辊（6）、导出辊（10）和镀液承接盘（7）组成，阻流搅拌辊（3）均匀分布在承载平台（4）上，导入辊（6）位于承载平台（4）前方，导出辊（10）位于承载平台（4）后方，镀液承接盘（7）位于承载平台（4）下方。该化学镀的方法是：膜带由导入辊引到承载平台上，在承载平台上完成镀制，再由导出辊导出，化学镀液由镀液入口流入承载平台处的膜带上表面，形成液膜，最后由镀液出口流出。通过控制液膜在膜带传输方向上流动的稳定性实现镀液沿膜带传输方向浓度梯度的稳定性，从而实现膜带表面各处工艺历程的一致性，最终实现化学镀的均匀性。

Description

一种膜带连续单面化学镀装置及其方法
技术领域
本发明涉及化学镀技术领域，尤其涉及一种膜带连续单面化学镀装置及其方法。
背景技术
由于柔性衬底的可弯折、重量轻等特性，在太阳能或其他半导体领域应用前景广阔。化学镀是其制备过程中极其关键的一步。目前实验室层面的样片生产已经实现，但是要实现量产，就必须采用卷到卷式的连续化学镀。在连续化学镀过程中，传统的槽式化学镀方法中化学液内各成分的消耗使得化学镀工艺速度不断减慢，若采用加大镀液总量的方法减少各离子消耗造成的影响，会大大增加镀液的消耗量。同时因为很多化学镀液中会含有镉等有毒物质，废液量增加也会大大增加处理废液的成本。要解决保证连续化学镀均匀性与减少镀液消耗的矛盾，就非常有必要发明一种新的膜带连续化学镀方法，在保证连续化学镀工艺效果的前提下尽可能减少镀液用量。
发明内容
本发明提出了一种膜带连续单面化学镀装置及其方法，通过在将化学镀液在传输膜带表面液膜并控制液膜在膜带传输方向上流动的稳定性实现镀液沿膜带传输方向浓度梯度的稳定性，从而实现膜带表面各处工艺历程的一致性，最终实现化学镀的均匀性。这种方法在提高膜带化学镀均匀性的同时，大大减少了镀液的消耗量，同时能够有效保护非镀面。
本发明采用如下技术方案：
本发明提出的膜带连续单面化学镀装置主要由膜带、镀液入口 、阻流搅拌辊、承载平台、镀液出口、导入辊、镀液承接盘、热水、液膜、导出辊、挡液条等组成。
其工作原理为：膜带由导入辊引导到承载平台上，在承载平台上完成镀制工艺，再由导出辊导出，化学镀液由镀液入口流入承载平台处的膜带上表面，形成液膜，最后由镀液出口流出，承载平台内通热水控制镀液的温度，阻流搅拌辊起控制液膜深度及流速并对镀液搅拌的作用，实现膜带截面方向镀液浓度均匀，镀液承接盘用来承接流出的镀液，挡液条用来使膜带紧贴承载平台表面防止镀液溢出及流到膜带背面的作用，通过控制液膜在膜带传输方向上流动的稳定性实现镀液沿膜带传输方向浓度梯度的稳定性，从而实现膜带表面各处工艺历程的一致性，最终实现化学镀的均匀性。
本发明的积极效果如下：
本发明提出的膜带连续单面化学镀方法在提高膜带连续化学镀均匀性的同时，大大减少了镀液的消耗量。
附图说明
图1是本发明实施例的膜带连续单面化学镀侧面图。
图2是本发明实施例的膜带连续单面化学镀剖视图。
1.膜带 2.镀液入口  3.阻流搅拌辊  4.承载平台  5.镀液出口  6.导入辊  7.镀液承接盘  8.热水 9.液膜  10.导出辊 11.挡液条。
具体实施方式
下面的实施例是对本发明的进一步详细描述。
实施例1
参见附图1、2，运用本发明解决了保证连续单面化学镀均匀性与减少镀液消耗的矛盾，通知能够有效保护非镀面。具体说明如下：膜带1由导入辊引导到承载平台4上，在承载平台4上完成镀制工艺，再由导出辊8导出，化学镀液由镀液入口2流入承载平台4处的膜带1上表面，形成液膜9，最后由镀液出口5流出，承载平台4内通热水8控制镀液的温度，阻流搅拌辊3起控制液膜9深度及流速并对镀液搅拌的作用，实现膜带1截面方向镀液浓度均匀，镀液承接盘7用来承接流出的镀液，挡液条11用来使膜带1紧贴承载平台4表面防止镀液溢出及流到膜带1背面的作用，通过控制液膜9在膜带1传输方向上流动的稳定性实现镀液沿膜带1传输方向浓度梯度的稳定性，从而实现膜带1表面各处工艺历程的一致性，最终实现化学镀的均匀性。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (8)

1.一种膜带连续单面化学镀装置，其特征在于：该装置由阻流搅拌辊（3）、承载平台（4）、导入辊（6）、导出辊（10）和镀液承接盘（7）组成，阻流搅拌辊（3）均匀分布在承载平台（4）上，导入辊（6）位于承载平台（4）前方，导出辊（10）位于承载平台（4）后方，镀液承接盘（7）位于承载平台（4）下方。
2.如权利要求1所述的一种膜带连续单面化学镀装置，其特征在于：镀液入口（2）位于第一根阻流搅拌辊的斜上方，镀液出口（5）位于最后一根阻流搅拌辊和承载平台（4）的后方。
3.如权利要求1所述的一种膜带连续单面化学镀装置，其特征在于：承载平台（4）两侧各有一根向上的挡液条（11）。
4.如权利要求1所述的一种膜带连续单面化学镀装置，其特征在于：承载平台（4）内部是中空的，可以通入液体。
5.一种膜带连续单面化学镀方法，其特征在于：膜带由导入辊引导到承载平台上，在承载平台上完成镀制工艺，再由导出辊导出；化学镀液由镀液入口流入承载平台的膜带上表面，形成液膜，最后由镀液出口流出，最后落入镀液承接盘中。
6.如权利要求5所述的一种膜带连续单面化学镀方法，其特征在于：承载平台内通热水，通过热水的温度控制镀液的温度。
7.如权利要求5所述的一种膜带连续单面化学镀方法，其特征在于：多根阻流搅拌辊来回滚动，起到控制液膜深度、流速和搅拌液膜的作用，使镀液沿膜带传输方向浓度梯度稳定，使化学镀均匀。
8.如权利要求5所述的一种膜带连续单面化学镀方法，其特征在于：挡液条使膜带紧贴承载平台表面，防止镀液溢出和流到膜带背面。
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