CN206631851U - 可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统，包括供料部分和涂布部分，供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、基膜，其特征是，在挡液板下面涂布槽底部设有一个涂布液均化装置。本实用新型避免了涂布槽死角因为粒子沉淀、涂布液流动不畅造成涂布液粘度不均等造成的拉丝、条道、暗纹、点子等弊病，实现光学膜连续稳定生产，提高良率。
Description
技术领域
本实用新型涉及薄膜技术领域，特别是涉及用于配方中有粒子的光学膜涂布的系统。
背景技术
在TFT-LCD液晶显示领域中，为了得到能满足要求的光学膜，如反射膜、扩散膜、增亮膜、复合DBEF膜等，需要在不同的光学支持体薄膜的正面或背面涂覆含有光学粒子的涂料，在涂覆生产中，需要涂覆装置将涂料均匀的涂覆在不同的光学支持体薄膜上。由于涂料中含有各种不同粒经的光学粒子，为了保证光学粒子均匀地涂覆在光学支持体薄膜上，通常采用辊涂、凹版涂覆或微凹版涂覆装置进行。
在实际应用中，以上涂覆方式均存在有以下不足，主要是在涂覆过程中，涂布槽供液单点或多点的不均匀供料，涂料在涂布槽中分布、流速不均匀，流速慢，产生涡旋，造成光学粒子的聚集后，沉积在涂布槽底部，无法及时清除，导致涂料在涂布过程中而形成质量弊病，如拉丝、暗纹、条道等，需要经常停机清洗涂布头和涂布槽，造成涂覆生产中断，无法进行连续生产。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统，将其用于生产光学薄膜，可以解决光学粒子在涂布槽中易沉积问题，实现连续生产。
为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：
一种可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统，包括供料部分和涂布部分，供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、基膜，其特征是，在挡液板下面涂布槽底部设有一个涂布液均化装置。
上述涂布系统，在挡液板下面涂布槽槽底部之间设有涂布液均化装置，涂布液均化装置是一个带有多组旋转叶装置，旋转叶的直径在5mm-50mm，总节数在10-100个。
上述涂布系统，涂布槽底部可以设置1-3个涂布液均化装置，转数在5-300转/min。
上述涂布系统，旋转叶的角度β在5-80度之间。
上述涂布系统，旋转柱的叶的角度β两边对称。
上述涂布系统，所述均化装置的表面粗糙度Ra小于0.05，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
本实用新型的有益效果为，在单点和多点供料体系中，由于挡液板的阻挡和液槽死角，聚集粒子和大粒径粒子更容易在挡液板后面的死角处沉积，在涂布槽底部设有涂布液均化装置，通过涂布液均化装置中的转动，带动涂布液流动，防止了聚集粒子的沉积，同时旋转叶的转动，也也减少了粒子的聚集的机会，并将送过来的新液和供液槽内老液混合均匀，同时聚集的粒子和大径粒子回流到接液盘，再通过球阀、循环泵输送，过滤器将其中的大部分过滤掉。本实用新型实现了长周期的连续生产，解决了涂覆光学膜存在的质量弊病如拉丝、暗纹、条道、涂布不均等质量问题，也避免了由于涂布液在涂布槽内混合不好造成的条状涂布不均，实现了光学膜的不停机连续生产。
附图说明
图1是本实用新型提供的连续生产光学膜的涂布系统示意图；
图2是本实用新型的涂布液均化装置的示意图。
图中各标号表示为：
1、回液管，2、新液补充管，3、供液桶，4、供液搅拌，5、供液阀门，6、供液泵，7、过滤器，8、供液管，9、涂布液均化装置，10、涂布槽，11、供液孔，12、挡液板，13、涂布辊，14、刮刀，15、接液盘，16、基膜。
具体实施方式
本实用新型包括供料部分和涂布部分，所供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、涂布液均化装置、基膜。在涂布槽的底部挡液板下部设有涂布液均化装置，涂布液均化装置是一个带有多组旋转叶装置，旋转叶的直径在5mm-50mm，总节数在10-100个，旋转叶两边对称分布，涂布液进液口在涂布槽中间，通过涂布液均化装置中旋转叶的转动，带动进来的涂布液从中间向两边流动流动，使得涂布液尽快的流动到距进料口更远的两侧，涂布液的流动性加强同时旋转叶的搅动旋转使涂布液中的粒子减少了聚集机会，原来的死角区域变成流动区域，防止了聚集粒子的沉积，解决光学粒子在涂布槽中沉积造成表观不好而停车清理沉积的问题，实现长周期连续生产。
以下结合附图及实施例对实用新型作进一步阐述,但这些实施例仅用于说明本实用新型的工作原理、而不是用于限制本实用新型的保护范围。
本实用新型提供的生产光学薄膜的涂布系统，包括供料部分和涂布部分，如附图1所示，其中，供料部分部分包括接液盘15、回流管1、新料补充管2、供液桶3、供液搅拌4、供液阀门5、供液泵6、过滤器7、供液管8等，涂布部分包括涂布槽10、挡液板12、涂布辊13、刮刀14、涂布液均化装置9等。供料部分将涂布液从供料桶3抽出，经过过滤，送到涂布槽内，涂布槽10中的涂料通过涂布辊13不断将涂料涂敷在基膜16的表面，由涂布槽溢流的涂料经接液盘15、回流管1返回供料桶3，从而实现了一个循环。
本实用新型中涂布液均化的直径在5-50mm，优选10-30mm，旋转柱的角度β在5-80度之间，优选10-60度，总节数在10-100个，通过涂布液均化装置，防止聚集粒子沉积下来，并将混合不均的涂布液混合均匀。
本实用新型中涂布槽10的内部表面、旋转柱表面为光滑表面，内部过渡均为圆滑过渡。
本实用新型中沉淀清理涂布液均化装置可以设1-3个，旋转柱的叶的角度在5-80度之间，旋转的转数在5-300转/min可调；
本实用新型中循环泵可以选自市售的螺杆泵、齿轮泵、蠕动泵、柱塞泵；带马达的搅拌装置3上的搅拌桨可以选自浆式、旋浆式、涡轮式或锚式搅拌桨，马达可以是正反旋转的调速防爆马达或气动马达，搅拌装置安装在可以调节的装置上，可以调节搅拌桨叶的位置。
以下给出几个实施例。
实施例1
如图1所示，供料部分部分包括接液盘15、回流管1、新料补充管2、供液桶3、供液搅拌4、供液阀门5、供液泵6、过滤器7、供液管8等，涂布部分包括涂布槽10、挡液板12、涂布辊13、刮刀14、涂布液均化装置9等。供料部分将涂布液从供料桶3抽出，经过过滤，送到涂布槽内，涂布槽10中的涂料通过涂布辊13不断将涂料涂敷在基膜16的表面，由涂布槽溢流的涂料经接液盘15、回流管1返回供料桶3，从而实现了一个循环。
进料口11的数量为1个，在涂布槽正中间，进料口11的直径为14mm，旋转叶的直径在30mm，旋转柱节数为30个，旋转柱的角度β在65度，转数为50转。转叶的表面粗糙度Ra小于0.05，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
连续运行48个小时后，停止供料，快速排空涂布槽10的物料，涂布槽10的底部发现有白色物料聚集，通过收集、烘干后称量其质量。
实施例2
供料部分与实施例1基本相同，进料口11的数量为1个，在涂布槽正中间，进料口11的直径为14mm，旋转叶的直径在30mm，旋转柱节数为30个，旋转柱的角度β在65度，转数为100转。转叶的表面粗糙度Ra小于0.05，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
连续运行48个小时后，停止供料，快速排空涂布槽10的物料，涂布槽10的底部发现有白色物料聚集，通过收集、烘干后称量其质量。
实施例3
供料部分与实施例1基本相同，进料口11的数量为1个，在涂布槽正中间，进料口11的直径为14mm，旋转叶的直径在30mm，旋转柱节数为30个，旋转柱的角度β在65度，转数为200转。转叶的表面粗糙度Ra小于0.05，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
连续运行48个小时后，停止供料，快速排空涂布槽10的物料，涂布槽10的底部发现有白色物料聚集，通过收集、烘干后称量其质量。
实施例4
供料部分与实施例1基本相同，进料口11的数量为1个，在涂布槽正中间，进料口11的直径为14mm，旋转叶的直径在30mm，旋转柱节数为30个，旋转柱的角度β在65度，转数为300转。转叶的表面粗糙度Ra小于0.05，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
连续运行48个小时后，停止供料，快速排空涂布槽10的物料，涂布槽10的底部发现有白色物料聚集，通过收集、烘干后称量其质量。
对比例1
供料部分与实施例1基本相同，进料口11的数量为1个，在涂布槽正中间，进料口11的直径为14mm，旋转叶的直径在30mm，旋转柱节数为30个，旋转柱的角度β在65度，转数为500转。转叶的表面粗糙度Ra小于0.05，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
结果涂布槽内液体扰动严重，无法生产出表观合格的产品。
对比例2
供料部分与实施例1基本相同，其中，进料口11的数量为1个，在涂布槽正中间，进料口11的直径为14mm，未安装沉淀清理涂布液均化装置，两端出口封死，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
连续运行48个小时后，停止供料，快速排空涂布槽10的物料，涂布槽10的底部发现有白色物料聚集，通过收集、烘干后称量其质量。
实验结果：
| 序号 | 实施例1 | 实施例2 | 实施例3 | 实施例4 | 对比例1 | 对比例2 |
| 聚集粒子重量(kg) | 0.180 | 0.150 | 0.125 | 0.100 | 无法生产 | 0.921 |
Claims (6)
1.一种可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统，包括供料部分和涂布部分，供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、基膜，其特征是，在挡液板下面涂布槽底部设有一个涂布液均化装置。
2.根据权利要求1所述的涂布系统，其特征在于，在挡液板下面涂布槽槽底部之间设有涂布液均化装置，涂布液均化装置是一个带有多组旋转叶装置，旋转叶的直径在5mm-50mm，总节数在10-100个。
3.根据权利要求2所述的涂布系统，其特征在于，涂布槽底部可以设置1-3个涂布液均化装置，转数在5-300转/min。
4.根据权利要求3所述的涂布系统，其特征在于，旋转叶的角度β在5-80度之间。
5.根据权利要求4所述的涂布系统，其特征在于，旋转叶的角度β两边对称。
6.根据权利要求5所述的涂布系统，其特征在于，所述均化装置的表面粗糙度Ra小于0.05，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
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| CN201621448021.0U CN206631851U (zh) | 2016-12-27 | 2016-12-27 | 可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106733408A (zh) * | 2016-12-27 | 2017-05-31 | 昆山乐凯锦富光电科技有限公司 | 可防止涂布弊病的光学膜生产的涂布系统 |
| CN107999326A (zh) * | 2017-12-06 | 2018-05-08 | 常德金德新材料科技股份有限公司 | 一种粉体材料的分散系统 |
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2016
- 2016-12-27 CN CN201621448021.0U patent/CN206631851U/zh active Active
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