CN103278989A - 一种显示面板及其制作方法、液晶显示器 - Google Patents

一种显示面板及其制作方法、液晶显示器 Download PDF

Info

Publication number
CN103278989A
CN103278989A CN2013101613215A CN201310161321A CN103278989A CN 103278989 A CN103278989 A CN 103278989A CN 2013101613215 A CN2013101613215 A CN 2013101613215A CN 201310161321 A CN201310161321 A CN 201310161321A CN 103278989 A CN103278989 A CN 103278989A
Authority
CN
China
Prior art keywords
grid line
peripheral wiring
opening
layer
line peripheral
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2013101613215A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103278989B (zh
Inventor
徐向阳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201310161321.5A priority Critical patent/CN103278989B/zh
Publication of CN103278989A publication Critical patent/CN103278989A/zh
Priority to PCT/CN2013/085497 priority patent/WO2014176876A1/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103278989B publication Critical patent/CN103278989B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1345Conductors connecting electrodes to cell terminals
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133345Insulating layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/124Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or layout of the wiring layers specially adapted to the circuit arrangement, e.g. scanning lines in LCD pixel circuits
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1345Conductors connecting electrodes to cell terminals
    • G02F1/13456Cell terminals located on one side of the display only
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286Wiring, e.g. gate line, drain line
    • G02F1/13629Multilayer wirings

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)

Abstract

本发明实施例提供了一种显示面板及其制作方法、液晶显示器,用于降低栅线外围走线的电阻,减小信号衰减与延迟,提高显示效果。本发明实施例提供的一种显示面板包括栅线外围走线区域,所述栅线外围走线区域包括依次形成于基板上的第一走线层、栅极绝缘层和第二走线层;所述栅极绝缘层存在至少一个第一开口,所述第一走线层与所述第二走线层在第一开口处连接。

Description

一种显示面板及其制作方法、液晶显示器
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及其制作方法、液晶显示器。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器是一种半导体驱动的液晶显示装置。根据面板驱动电场的不同,可分为:扭曲向列型、垂直排列型、面转换)型和FFS(Fringe Field边界电场切换型。虽然电场的形式不同,但都是通过逐行扫描的方式,对像素电容进行充放电,进而使液晶偏转来控制背光源的光场。扫描信号和驱动电压分别由栅极集成电路和驱动集成电路产生,栅极集成电路的控制信号由时序控制(Time Controller)芯片产生后,经面板栅线外围走线(Peripheral Layout Gate)传输至栅极集成电路。
图1是TFT-LCD的阵列基板外围电路示意图,其中,栅线外围走线108的主要作用是传输栅极集成电路的控制信号。
目前的TFT-LCD阵列基板的外围走线多采用的是单层金属走线。对于低分辨率与低帧刷新速率的面板来说,由于频率较低,所以线路的信号延迟对显示的效果不会产生影响。但随着人们对显示器分辨率的要求不断提高,信号的频率也在不断提高,此时信号在线路中的延迟和衰减不能不考虑。线路的延迟主要有两方面原因产生:一方面是线路的信号走线电阻;另一方面是线路的耦合电容。耦合电容是由不同金属线之间产生;而电阻则是由于金属走线本身的特性决定,主要取决于金属走线的电阻率、横截面与布线长度。目前常见的布线金属材料包括:铝、钼、铜和铟锡金属氧化物(Indium Tin Oxide,ITO)。就导电性而言铜的导电性最好,但成本也是最高,工艺难度也最大。
对于高分辨率与高帧速率刷新的面板而言,栅线外围走线的电阻增加了信号的衰减与延迟,降低了显示效果。
发明内容
本发明实施例提供了一种显示面板及其制作方法、液晶显示器,用于降低栅线外围走线的电阻,减小信号衰减与延迟,提高显示效果。
本发明实施例提供的一种显示面板栅线外围走线栅线外围走线区域包括依次形成于基板上的第一走线层、栅极绝缘层、和第二走线层;所述栅极绝缘层存在至少一个第一开口,所述第一走线层与所述第二走线层在所述第一开口处连接。
本发明实施例提供的一种液晶显示器包括所述显示面板。
本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法包括:
在玻璃基板显示区域上形成栅线和栅极,同时在栅线外围走线区域形成第一走线层;
依次形成栅极绝缘层和有源层,并且在栅线外围走线区域形成至少一个第一开口;
在有源层上形成源漏金属层,同时在栅线外围走线区域的第一开口处形成第二走线层,其中所述第二走线层通过所述第一开口与所述第一走线层连接;
在源漏金属层上形成绝缘保护层;
在绝缘保护层上形成像素电极层。
通过以上技术方案可知,本发明通过设置所述第一开口处连接源漏金属层和栅极金属层,使得栅线外围走线为多层布线,提高了横截面积,降低了电阻,减小了信号衰减与延迟,提高了显示效果。
附图说明
图1为现有技术中TFT-LCD的阵列基板外围电路示意图;
图2为本发明实施例提供的显示面板的制作方法的流程示意图;
图3为本发明实施例提供的栅线外围走线示意图;
图4为本发明具体实施例提供的栅线外围走线具体结构示意图;
图5为本发明具体实施例提供的掩模板的处理成形示意图。
附图标记说明如下:
100:静电环短接线路;101:栅线;102:端子区;103:公共电极;
104:静电环;105:像素驱动芯片;106:栅极集成电路;107:信号线;
108:栅线外围走线;109:显示区边界。
具体实施方式
本发明实施例提供了一种显示面板及其制作方法、液晶显示器,用于降低栅线外围走线的电阻,减小信号衰减与延迟,提高显示效果。
本发明实施例提供一种显示面板栅线外围走线,栅线外围走线区域包括依次形成于基板上的第一走线层、栅极绝缘层、和第二走线层;所述栅极绝缘层存在至少一个第一开口,所述第一走线层与所述第二走线层在第一开口处连接。由于栅线外围走线仅作导线使用,因此在制作过程中栅线外围走线区域的有源层被刻蚀,或者,在制作过程中将显示区域外的有源层全部刻蚀。
所述第一走线层,与栅线同时形成;所述第二走线层,与源漏金属层同时形成。
较佳的,所述第一开口总的长度大于栅线外围走线长度的二分之一。为保持良好的导电性能,第一走线层和第二走线层之间需要有充分的接触。具体实施时,既可以在整个栅线外围走线区域形成第一开口,也可以仅在部分栅线外围走线区域连续或间隔形成第一开口。当仅在部分栅线外围走线区域形成第一开口处时,或者制作过程中部分栅线外围走线区域的栅极绝缘层未刻蚀完全时,栅线外围走线需要在至少二分之一的区域内第一走线层和第二走线层能够直接连接。
较佳的,该显示面板栅线外围走线区域还包括绝缘保护层和在绝缘保护层上方的第三走线层。第三走线层与像素电极层同时形成。当通过第一走线层和第二走线层两层金属进行导电时,栅线外围走线区域的第三走线层可以保留,也可以刻蚀。
较佳的,所述绝缘保护层存在至少一个第二开口,所述第三走线层与所述第二走线层在第二开口处连接。第一走线层、第二走线层和第三走线层三层连接,导电性能更好。
较佳的,所述第二开口的总长度大于栅线外围走线长度的二分之一。与第一开口类似,为保持良好的导电性能,第二走线层和第三走线层之间需要有充分的接触。
较佳的,在平行于玻璃基板的方向上,所述第一开口和所述第二开口处于同一位置;即第二开口位于第一开口之上。
本发明实施例提供的一种液晶显示器包括所述显示面板;其中,所述显示面板的栅线外围走线将时序控制芯片和栅极集成电路连接。
参见图2,本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法包括:
S201、在玻璃基板显示区域上形成栅线和栅极,同时在栅线外围走线区域形成第一走线层;
S202、依次形成栅极绝缘层和有源层,并且在栅线外围走线区域形成至少一个第一开口;
S203、在有源层上形成源漏金属层,同时在栅线外围走线区域的第一开口处形成第二走线层,其中所述第二走线层通过所述第一开口与所述第一走线层连接;
S204、在源漏金属层上形成绝缘保护层;
S205、在绝缘保护层上形成像素电极层。
本实施例中,第一走线层需要与第二走线层能够直接连接。因此,在栅线外围走线区域,栅极绝缘层和有源层需要被刻蚀掉,露出第一开口;在栅线外围走线区域附近的栅极绝缘层和有源层,既可以刻蚀,也可以保留。
较佳的,S202依次形成栅极绝缘层和有源层,并且在栅线外围走线区域形成至少一个第一开口,包括:形成栅极绝缘层,并且在栅线外围走线区域的所述栅极绝缘层形成第一开口;形成有源层,并且去除所述栅线外围走线区域的第一开口处的有源层。也就是说,保留栅线外围走线区域附近的栅极绝缘层,刻蚀掉栅线外围走线区域及其附近的全部有源层。
较佳的,S202依次形成栅极绝缘层和有源层,并且在栅线外围走线区域形成至少一个第一开口,包括:形成栅极绝缘层;形成有源层,并且在栅线外围走线区域形成至少一个第一开口;其中,第一开口处的栅极绝缘层和所述有源层均被刻蚀。同时刻蚀栅极绝缘层和有源层,包括同时刻蚀掉栅线外围走线区域及其附近的全部的栅极绝缘层和有源层,或者同时刻蚀掉栅线外围走线区域的栅极绝缘层和有源层;此外,还包括使用灰阶掩模板的方式,通过同一灰阶掩模板连续进行两次刻蚀,可以在刻蚀掉全部显示区域外的有源层的同时,保留栅线外围走线区域第一开口附近的栅极绝缘层。
较佳的,所述第一开口的总长度大于栅线外围走线长度的二分之一。
较佳的,S204所述在源漏金属层上形成绝缘保护层,包括:在栅线外围走线区域形成至少一个第二开口;所述在绝缘保护层上形成像素电极层,包括:在栅线外围走线区域的第二开口处形成第三走线层。
因此,既可以使用第一走线层和第二走线层两层金属传输信号,也可以使用第一走线层、第二走线层和第三走线层三层金属传输信号。金属层之间互相接触,能够增大金属层横截面积,降低栅线外围走线电阻。
较佳的,所述第二开口的总长度大于栅线外围走线长度的二分之一。
下面是本发明的具体实施例。
图3是栅线外围走线的示意图,栅线外围走线由三根导线组成,取图中AA’方向的任意一根导线,其具体结构如图4所示,附图标记说明如下:
200:玻璃基板;
201:第一走线层;
202:栅极绝缘层;
203:第二走线层;
204:绝缘保护层;
205:第三走线层。
本发明实施例中,各层图形包括但不限于图4的形式,各层也可以刻蚀为其它的图形样式,只需要保证三层金属能够充分接触即可。
以上栅线外围走线区域各层在显示面板的制作流程中分别对应如下步骤:
1、在栅极金属成膜时,在栅线外围走线处形成如图4中201所示的结构;
2、在栅极绝缘层成膜时,在栅线外围走线处形成如图4中202所示的结构;
3、在源漏金属层成膜时,在栅线外围走线处形成如图4中203所示的结构;
4、在绝缘保护层成膜时,在栅线外围走线处形成如图4中204所示的结构;
5、在像素电极层成膜时,在栅线外围走线处形成如图4中205所示的结构。
参见图5,为步骤1-5对应的掩模板mask处理成形示意图。
其中,现有技术以及本发明具体实施例提供的方法在处理有源层时,将栅线外围走线区域及其附近的有源层全部刻蚀,并且使用的是相同的有源层掩模板。有源层的刻蚀处理是在栅极绝缘层和源漏金属层的处理之间进行的。
本实施例通过新增栅极绝缘层掩模板以设置第一开口以及通过改变绝缘保护层掩模板以设置第二开口,以及通过各开口处连接各层金属走线,来实现降低栅线外围走线电阻的目的。
综上所述,本发明实施例提供了一种显示面板及其制作方法、液晶显示器,用于降低栅线外围走线的电阻,减小信号衰减与延迟,提高显示效果。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (12)

1.一种显示面板,包括栅线外围走线区域,其特征在于,所述栅线外围走线区域包括依次形成于基板上的第一走线层、栅极绝缘层和第二走线层;所述栅极绝缘层存在至少一个第一开口,所述第一走线层与所述第二走线层在第一开口处连接。
2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一开口的总长度大于栅线外围走线长度的二分之一。
3.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该显示面板栅线外围走线区域还包括绝缘保护层和在绝缘保护层上方的第三走线层。
4.如权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述绝缘保护层存在至少一个第二开口,所述第三走线层与所述第二走线层在第二开口处连接。
5.如权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述第二开口的总长度大于栅线外围走线长度的二分之一。
6.一种液晶显示器,其特征在于,包括权利要求1-5任一权项所述的显示面板。
7.一种显示面板的制作方法,其特征在于,该方法包括:
在玻璃基板显示区域上形成栅线和栅极,同时在栅线外围走线区域形成第一走线层;
依次形成栅极绝缘层和有源层,并且在栅线外围走线区域形成至少一个第一开口;
在有源层上形成源漏金属层,同时在栅线外围走线区域的第一开口处形成第二走线层,其中所述第二走线层通过所述第一开口与所述第一走线层连接;
在源漏金属层上形成绝缘保护层;
在绝缘保护层上形成像素电极层。
8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述第一开口的总长度大于栅线外围走线长度的二分之一。
9.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述在源漏金属层上形成绝缘保护层,包括:在栅线外围走线区域形成至少一个第二开口;
所述在绝缘保护层上形成像素电极层,包括:在栅线外围走线区域的第二开口处形成第三走线层。
10.如权利要求9所述的方法,其特征在于,所述第二开口的总长度大于栅线外围走线长度的二分之一。
11.如权利要求7所述的方法,其特征在于,依次形成栅极绝缘层和有源层,并且在栅线外围走线区域形成至少一个第一开口,包括:
形成栅极绝缘层,并且在栅线外围走线区域的所述栅极绝缘层形成第一开口;
形成有源层,并且去除所述栅线外围走线区域的第一开口处的有源层。
12.如权利要求7所述的方法,其特征在于,依次形成栅极绝缘层和有源层,并且在栅线外围走线区域形成至少一个第一开口,包括:
形成栅极绝缘层;
形成有源层,并且在栅线外围走线区域形成至少一个第一开口;其中,第一开口处的栅极绝缘层和所述有源层均被刻蚀。
CN201310161321.5A 2013-05-03 2013-05-03 一种显示面板及其制作方法、液晶显示器 Active CN103278989B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310161321.5A CN103278989B (zh) 2013-05-03 2013-05-03 一种显示面板及其制作方法、液晶显示器
PCT/CN2013/085497 WO2014176876A1 (zh) 2013-05-03 2013-10-18 显示面板及其制作方法、液晶显示器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310161321.5A CN103278989B (zh) 2013-05-03 2013-05-03 一种显示面板及其制作方法、液晶显示器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103278989A true CN103278989A (zh) 2013-09-04
CN103278989B CN103278989B (zh) 2015-08-05

Family

ID=49061557

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310161321.5A Active CN103278989B (zh) 2013-05-03 2013-05-03 一种显示面板及其制作方法、液晶显示器

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN103278989B (zh)
WO (1) WO2014176876A1 (zh)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014176876A1 (zh) * 2013-05-03 2014-11-06 合肥京东方光电科技有限公司 显示面板及其制作方法、液晶显示器
CN106094272A (zh) * 2016-06-22 2016-11-09 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板、其制作方法及显示装置
CN106094373A (zh) * 2016-06-02 2016-11-09 武汉华星光电技术有限公司 Tft基板及其制作方法
CN106206617A (zh) * 2016-08-29 2016-12-07 武汉华星光电技术有限公司 基于低温多晶硅的阵列基板及其制作方法
US11406015B2 (en) 2019-06-14 2022-08-02 Innolux Corporation Bonding pad structure
CN114994994A (zh) * 2022-06-17 2022-09-02 北海惠科光电技术有限公司 液晶显示面板和液晶显示面板制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1609685A (zh) * 2003-10-17 2005-04-27 Nec液晶技术株式会社 具有连接到单个共用线路的多个引线的显示设备
US7787089B2 (en) * 2008-09-26 2010-08-31 Hitachi Displays, Ltd. Transparent type liquid crystal display device
CN102569186A (zh) * 2010-12-17 2012-07-11 奇美电子股份有限公司 阵列基板及其形成方法
CN102651401A (zh) * 2011-12-31 2012-08-29 京东方科技集团股份有限公司 一种薄膜晶体管、阵列基板及其制造方法和显示器件

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103278989B (zh) * 2013-05-03 2015-08-05 合肥京东方光电科技有限公司 一种显示面板及其制作方法、液晶显示器

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1609685A (zh) * 2003-10-17 2005-04-27 Nec液晶技术株式会社 具有连接到单个共用线路的多个引线的显示设备
US7787089B2 (en) * 2008-09-26 2010-08-31 Hitachi Displays, Ltd. Transparent type liquid crystal display device
CN102569186A (zh) * 2010-12-17 2012-07-11 奇美电子股份有限公司 阵列基板及其形成方法
CN102651401A (zh) * 2011-12-31 2012-08-29 京东方科技集团股份有限公司 一种薄膜晶体管、阵列基板及其制造方法和显示器件

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014176876A1 (zh) * 2013-05-03 2014-11-06 合肥京东方光电科技有限公司 显示面板及其制作方法、液晶显示器
CN106094373A (zh) * 2016-06-02 2016-11-09 武汉华星光电技术有限公司 Tft基板及其制作方法
CN106094272A (zh) * 2016-06-22 2016-11-09 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板、其制作方法及显示装置
CN106206617A (zh) * 2016-08-29 2016-12-07 武汉华星光电技术有限公司 基于低温多晶硅的阵列基板及其制作方法
US11406015B2 (en) 2019-06-14 2022-08-02 Innolux Corporation Bonding pad structure
CN114994994A (zh) * 2022-06-17 2022-09-02 北海惠科光电技术有限公司 液晶显示面板和液晶显示面板制备方法
CN114994994B (zh) * 2022-06-17 2024-06-07 北海惠科光电技术有限公司 液晶显示面板和液晶显示面板制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2014176876A1 (zh) 2014-11-06
CN103278989B (zh) 2015-08-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105372891B (zh) 一种阵列基板以及显示装置
CN103268878B (zh) Tft阵列基板、tft阵列基板的制作方法及显示装置
CN103293811B (zh) 一种阵列基板及其制作方法、显示装置
CN107490913B (zh) 阵列基板、显示面板及显示装置
CN103278989B (zh) 一种显示面板及其制作方法、液晶显示器
CN104699321A (zh) 触控显示基板和触控显示装置
CN203616554U (zh) 一种阵列基板、显示面板和显示装置
CN104914640A (zh) 一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置
CN106094272B (zh) 一种显示基板、其制作方法及显示装置
CN103165540B (zh) 阵列基板及其制作方法
CN104808376A (zh) 阵列基板及显示装置
US10088724B2 (en) Display panel and displaying device
CN104698710A (zh) 一种阵列基板以及液晶显示装置
CN102945846B (zh) 阵列基板及其制造方法、显示装置
CN104332473A (zh) 一种阵列基板、其制备方法、显示面板和显示装置
CN106972033B (zh) 阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置
CN104460163A (zh) 一种阵列基板及其制作方法及显示装置
CN104377207A (zh) 显示面板及制造该显示面板的方法
CN106055160A (zh) 一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置
CN102654703A (zh) 一种阵列基板及其制造方法、以及显示设备
CN105117069A (zh) 一种阵列基板、触控显示面板及触控显示装置
CN104090401A (zh) 阵列基板及其制备方法、显示装置
CN107037639A (zh) 显示面板及显示装置
CN104916649A (zh) 阵列基板及其制造方法
CN104503647B (zh) 一种触摸显示屏的基板及其制造方法、触摸屏及显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant