CN103272815A - 扁管清洗料框 - Google Patents

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丁岩
彭俊芳
王新万
周福海
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JIANGSU YATAL ALUMINUM CO Ltd
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Abstract

本发明公开了一种扁管清洗料框,包括主体支架,安装在主体支架上的辅助支撑架,辅助支撑架两侧分别设置至少两组相对布置的支杆,支杆上设置有相对布置的滑槽,每组相对布置的支杆的滑槽内设置有至少两根可滑动的隔杆,主体支架的底部为网筛式框底,支杆的一端设置有可活动支杆。清洗扁管时,因为扁管与扁管之间有隔杆隔开,清洗时扁管的扁平面不会贴合在一起,扁管表面的残油很容易被清洗剂去除,虹吸效应消除,扁管表面的清洗剂很容易被漂洗去除,同时烘干的速度大大提高,清洗后表面不存在水斑和油斑现象。

Description

扁管清洗料框
技术领域
本发明涉及一种扁管清洗料框,属于金属加工清洗技术领域。
背景技术
汽车水箱用扁管一般要进行钎焊焊接,为了防止虚焊造成水箱泄露,对扁管的表面清洁度要求很高。目前清洗扁管时一般都是将扁管堆放在一起进行超声波清洗。由于扁管的横截面为扁平状,其两个侧面近似平面,堆放在一起时,扁管的侧面与侧面容易相互贴合在一起,清洗时清洗剂不易将贴合在一起的扁管侧面上的油污清洗干净,且由于虹吸效应,清洗后侧面与侧面之间还会吸附一层清洗剂,要去除这些残留液体,要耗费很长的时间,且容易在烘干后的扁管表面留在水斑油斑,影响扁管的清洁度,影响后续焊接效果。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种清洗扁管时扁平面不会贴合在一起、扁管表面的清洗剂很容易被漂洗去除、清洗后表面不存在水斑和油斑现象的扁管清洗料框。
本发明的技术方案是:
一种扁管清洗料框,包括主体支架,安装在主体支架上的辅助支撑架,辅助支撑架两侧分别设置至少两组相对布置的支杆,支杆上设置有相对布置的滑槽,每组相对布置的支杆的滑槽内设置有至少两根可滑动的隔杆,主体支架的底部为网筛式框底,支杆的一端设置有可活动支杆。
有益效果:本发明清洗扁管时,因为扁管与扁管之间有隔杆隔开,清洗时扁管的扁平面不会贴合在一起,这样扁管表面的残油很容易被清洗剂去除,虹吸效应消除,扁管表面的清洗剂很容易被漂洗去除,同时烘干的速度大大提高,清洗后表面不存在水斑和油斑现象,同时料框装、卸料方便,适合批量生产。
附图说明
图1是扁管清洗料框的结构示意图;
图2是装料后扁管与隔杆位置关系的示意图;
图3是隔杆的结构示意图;
图4是扁管的截面图;
图5 是有滑槽的支杆的截面图。
图中:1—主体支架、2—辅助支撑架、3、4、6、8—支杆、5—网筛式框底、7、9—可活动支杆、10—隔杆、11—扁管。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步说明。
一种扁管清洗料框,包括主体支架1,安装在主体支架1上的辅助支撑架2,辅助支撑架2两侧分别设置至少两组相对布置的支杆3、4和支杆6、8,支杆上设置有相对布置的滑槽,每组相对布置的支杆的滑槽内设置有至少两根可滑动的隔杆10,主体支架1的底部为网筛式框底5,支杆3、4、6、8的一端设置有可活动支杆7、9。
图1所示为本发明扁管清洗料框的结构示意图。辅助支撑架2外形为一个长方体,采用扣压连接的方式连接在主体支架1上,与框底的距离可调。
辅助支撑架2上与主体支架1连接的四条支杆3、4、6、8上带有滑槽,上下两两相对,配合使用。
辅助支撑架2上有两条可活动支杆7、9,可旋转打开,便于装卸扁管。
用于隔开扁管11的隔杆10可在辅助支撑架2的滑槽内滑动。
用于隔开扁管11的隔杆10截面为圆形,中间尺寸小于两端尺寸;两端的外径与滑槽的宽度相差小于1mm。
两个隔杆10紧密排列后中间部位间隔的距离为一个扁管宽度。
辅助支撑架2与框底5的距离可以根据需要清洗的扁管11的长度进行调节。
使用时, 将料框横放,先打开辅助支撑架2上的可旋转支杆7、9, 然后将两个隔杆10分别沿着支杆3、6和支杆4、8组成的滑道放入框内,然后将扁管11平铺在两个隔杆10组成的平面上,铺满一层后,再沿滑道分别放入两根隔杆10, 然后再铺扁管11,如此循环直至装满整个料框,最后将可旋转支杆7、9合上。然后将料框立起, 利用超声波清洗的上料装置将料框放入超声波清洗槽中进行清洗、烘干。

Claims (1)

1.一种扁管清洗料框,包括主体支架(1),安装在主体支架(1)上的辅助支撑架(2),其特征在于:所述辅助支撑架(2)两侧分别设置至少两组相对布置的支杆,所述支杆上设置有相对布置的滑槽,所述每组相对布置的支杆的滑槽内设置有至少两根可滑动的隔杆(10),所述主体支架(1)的底部为网筛式框底(5),所述支杆的一端设置有可活动支杆(7)。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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