CN103228825A - 增加激光材料中Ce3+含量的方法 - Google Patents

增加激光材料中Ce3+含量的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN103228825A
CN103228825A CN2011800587462A CN201180058746A CN103228825A CN 103228825 A CN103228825 A CN 103228825A CN 2011800587462 A CN2011800587462 A CN 2011800587462A CN 201180058746 A CN201180058746 A CN 201180058746A CN 103228825 A CN103228825 A CN 103228825A
Authority
CN
China
Prior art keywords
laserable material
laserable
present
described method
interpolation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN2011800587462A
Other languages
English (en)
Inventor
U.维奇曼恩
M.A.W.费克纳
F.雷彻尔特
H.W.K.佩特曼恩
G.胡伯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Koninklijke Philips Electronics NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koninklijke Philips Electronics NV filed Critical Koninklijke Philips Electronics NV
Publication of CN103228825A publication Critical patent/CN103228825A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B9/00Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B9/00Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents
    • C30B9/04Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents by cooling of the solution
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/08Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
    • C09K11/77Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals
    • C09K11/7715Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals containing cerium
    • C09K11/7716Chalcogenides
    • C09K11/7718Chalcogenides with alkaline earth metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16Oxides
    • C30B29/22Complex oxides
    • C30B29/24Complex oxides with formula AMeO3, wherein A is a rare earth metal and Me is Fe, Ga, Sc, Cr, Co or Al, e.g. ortho ferrites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16Oxides
    • C30B29/22Complex oxides
    • C30B29/26Complex oxides with formula BMe2O4, wherein B is Mg, Ni, Co, Al, Zn, or Cd and Me is Fe, Ga, Sc, Cr, Co, or Al
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B33/00After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure
    • C30B33/02Heat treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

本发明涉及一种制作具有快速冷却速率的包含Ce3+的激光材料的方法。已经证实这显著地增加了在激光材料内部的Ce3+的4f-5d跃迁的吸收率。

Description

增加激光材料中Ce3+含量的方法
技术领域
本发明针对包括Ce3+的激光材料以及制备它们的方法。
背景技术
固态光源目前正进入许多不同的照明应用并取代传统的白炽灯和气体放电灯。对于具有最高光学要求的应用(例如,投影、光纤应用),激光被认为是理想的光源。现在许多应用已经可以配有半导体二极管激光器,然而,当应用需要由半导体二极管不能或仅仅是低效率地获得的特定波长时,通常将使用二极管泵浦的固态激光器以产生希望的激光波长。
尤其是含铈的材料,诸如CaSc2O4:Ce和类似的材料,由于它们在可见波长范围内的发射,获得了本领域专家的关注。
然而,目前由传统的生长技术生长的晶体通常仅展现出在激发波长处的令人惊讶地低的吸收。对于大多数应用,即使利用共掺杂离子的电荷补偿和在还原性气氛中生长也不能导致吸收系数的显著增加。
发明内容
本发明的目的在于提供一种制作具有在可见波长范围内的发射的含铈的激光材料的方法,其中增加了吸收率,尤其是Ce3+的4f-5d跃迁的吸收率。
该目的通过根据本发明的权利要求1的激光材料而解决。相应地,提供了一种用于制作具有在可见波长范围内的发射的含铈的激光材料的方法,包括步骤:
a)加热激光材料和/或合适的前体(precursor)至≥1800℃的温度
b)在≤40 h(冷却时间)之内冷却至≤300℃的温度。
术语“激光材料”在本发明的意义上尤其意味着和/或包括在固态激光器中是有源材料的材料并且因此显示在泵浦波长处的吸收以及在激光波长处的受激发射。应当注意,术语“激光材料”被用于基本上是激光材料的所有材料(对于本申请中提及的所有其他材料,尤其是稍后将要讨论的材料Ca1-x(Sc,Mg)2O4:Cex也是同样类似的)。
“基本上”在本发明的意义上尤其意味着和/或包括尤其是>90 (wt-)%,更优选地>95 (wt-)%以及更优选地>98 (wt-)%。
术语“前体材料”在本发明的意义上尤其意味着和/或包括在经历根据本发明的步骤a)和b)之后将至少部分地形成激光材料的材料。合适的前体材料在本发明的意义上尤其是将在稍后示出的氧化物(尽管本发明不限于这些材料)。
出人意料地发现,使用这种方法对于本发明内的大范围的应用具有以下优点的至少之一:
- 激光材料内部的光学有源介质的吸收率能够容易且有效地被增强。
- 该方法不需要复杂的设置并且能够使用标准设备来执行。
- 使用该方法,制作大的晶体是可能的,然而在生长运行期间使用高的温度梯度的其他生长技术通常仅产生小片的晶体。
根据优选的实施例,在步骤a)中,激光材料和/或合适的前体被加热至≥2000℃的温度,更优选的≥2150℃。已经证实这加速了制作过程以及此外对于一些应用增加了三价Ce的吸收率。
根据优选的实施例,在步骤b)中,冷却时间≤20 h,更优选的≤12 h并且最优选的≤9 h。
根据本发明的优选实施例,在步骤b)中,冷却时间≤- 64 / ln([Ce]) h,其中[Ce]是Ce的摩尔添加水平(molar dotation level)。
已经发现,对于本发明中的大多数应用,在添加外来原子水平较高的情况下,允许冷却时间高一些,然而在使用低的添加外来原子水平时冷却时间应当更短。
优选地,在步骤b)中,冷却时间≤ - 50 / ln([Ce]) h,更优选的冷却时间≤ - 40 / ln([Ce]) h。
根据本发明的优选实施例,激光材料是显示5d-4f跃迁的斜方晶系材料。这种材料例如从EP申请10166783是已知的,其通过引用合并于此。已经发现,本发明在这些材料的情况下尤其有用,尽管本发明不限于此。
根据本发明的优选实施例,激光材料是Ca1-x(Sc,Mg)2O4:Cex。应当注意,Mg仅少量出现(或根本不出现)。
根据本发明的优选实施例,Ce的添加水平(=以上化学式中的数字x)≥0.001。已经发现,实际上较低的添加外来原子水平将导致激光材料通常在实际应用中不可用或仅具有很大的困难。
根据本发明的优选实施例,Ce的添加水平(=以上化学式中的数字x)≥0.0025并且≤0.2。已经发现,如果添加外来原子水平太高(即,高于0.2或20%),在许多应用中,将不(或仅在非常低的程度上)形成理想的激光材料,因此对于大多数应用,将添加外来原子的上端限制为0.2是有用的。优选地,Ce的添加水平(=以上化学式中的数字x)≥0.004并且≤0.01。
本发明进一步涉及一种包括根据本发明制作的激光材料的系统,并且该系统用在以下应用中的一个或多个中:
- 固态激光器
- 数字投影
- 光纤应用
- 固态激光器的医学应用
- 加热应用
- 闪烁应用(scintillation application)
- X射线探测器
- γ射线探测器
- 高能粒子探测器
- 超短脉冲的产生
- 荧光显微法
- 光谱学
- 生物光子学
- 光刻法
以上提及的组分以及请求保护的组分和在所描述的实施例中根据本发明将要使用的组分不会关于它们的尺寸、形状、材料选择和技术概念而受任何特定例外的影响,这使得能够不受限制地使用在相关领域中已知的选择标准。
附图说明
本发明的目标的附加的细节、特征、性质和优点公开在从属权利要求、附图和以下各个附图和实例的描述中,其以示例的方式显示了根据本发明的激光材料的若干实施例和实例。
图1示出了四个材料的吸收光谱,它们中的三个是根据本发明制作的,并且第四个是对比材料。
图2示出了根据本发明制作的另一个材料的吸收光谱。
具体实施方式
实验部分
本发明进一步由以下的实例和对比实例来说明,所述实例和对比实例仅仅进一步解释本发明并且不具有约束力。
总体方法
所有本发明的实例和对比实例都根据以下方法制作:
在铼坩埚中混合合适量的Sc2O3、CeO2和CaO(纯度5N)并且在由5% H2、约95% N2和300 ppm O2构成的气氛中加热至2300℃。坩埚放置在水冷的感应线圈的中心;由具有36kW的最大功率的RF发生器产生功率。由光学高温计控制温度。在加热持续约90分钟后,混合物以如下的方式冷却:在预设的时间(=冷却时间)量内温度被降低至≤300℃。通常获得了高光学质量的单晶。通过X射线衍射测量来确认CaSc2O4的斜方晶系的相。
图1示出了四个材料的吸收光谱,它们中的三个是根据本发明制作的,并且第四个是对比材料。数据示出在表I中:
表I
实例 Ce的添加水平 冷却时间
本发明实例 I 0.05 (= 5%) 6h
本发明实例 II 0.01 (= 1%) 3h
本发明实例 III 0.005 (= 0.5 %) 0.5 h
对比实例 0.003 (= 0.3%) 48h
可以清楚地看出,即使具有非常低的添加外来原子水平,通过执行本发明的方法,也能获得Ce3+的4f-5d跃迁的好的吸收,然而在对比实例中吸收是较低的。
可以在图2中看见根据本发明制作的另一个材料的光谱;该材料是Ca0.99Sc1.99Mg0.01O4:Ce0.01。冷却时间是12 h。同样,此处能够观察到好的吸收。
在上文详述的实施例中的要素和特征的特定组合仅为示例性的;这些教导与本申请和以引用方式结合于此的专利/申请中的其它教导的互换和替代也被清楚地考虑到。如本领域技术人员将理解,本领域普通技术人员可以想到此处所描述内容的变型、修改和其它实施方式,而不背离所要求保护的本发明的精神和范围。因此,前述描述仅仅是通过实例的方式,而非意图是限制性的。在权利要求中,词语“包含”并不排除其它要素或步骤,而不定冠词“a”或“an”并不排除复数。某些措施仅仅在相互不同的从属权利要求中叙述的事实并不说明不能有利地利用这些措施的组合。本发明的范围在下述权利要求及其等效表述中限定。此外,说明书和权利要求中使用的附图标记不限制所要求保护的本发明的范围。

Claims (9)

1.一种制作具有在可见波长范围内的发射的含铈的激光材料的方法,包括步骤:
a)加热激光材料和/或合适的前体至≥1800℃的温度
b)在≤40 h(冷却时间)之内冷却至≤300℃的温度。
2.根据权利要求1所述的方法,其中冷却时间≤20 h。
3.根据权利要求1所述的方法,其中在步骤a)中,激光材料和/或合适的前体被加热至≥2000℃的温度。
4.根据权利要求1-3之一所述的方法,其中冷却时间≤- 64 / ln([Ce]) h,其中[Ce]是Ce的摩尔添加水平。
5.根据权利要求1-4之一所述的方法,其中激光材料是显示5d-4f跃迁的斜方晶系材料。
6.根据权利要求1-5之一所述的方法,其中激光材料是Ca1-x(Sc,Mg)2O4:Cex
7.根据权利要求1-6之一所述的方法,其中激光材料中的添加外来原子≥0.001。
8.根据权利要求1-7之一所述的方法,其中激光材料中的添加外来原子≥0.0025并且≤0.2。
9.一种包括根据权利要求1-8任一项制作的激光材料的系统,该系统用在以下应用中的一个或多个中:
- 固态激光器
- 数字投影
- 光纤应用
- 固态激光器的医学应用
- 加热应用
- 闪烁应用
- X射线探测器
- γ射线探测器
- 高能粒子探测器
- 超短脉冲的产生
- 荧光显微法
- 光谱学
- 生物光子学
- 光刻法。
CN2011800587462A 2010-12-06 2011-12-02 增加激光材料中Ce3+含量的方法 Pending CN103228825A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP10193793.6 2010-12-06
EP10193793 2010-12-06
PCT/IB2011/055429 WO2012077022A1 (en) 2010-12-06 2011-12-02 Method for increasing the content of ce3+ in laser materials

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN103228825A true CN103228825A (zh) 2013-07-31

Family

ID=45349253

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2011800587462A Pending CN103228825A (zh) 2010-12-06 2011-12-02 增加激光材料中Ce3+含量的方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20130248764A1 (zh)
EP (1) EP2659033A1 (zh)
JP (1) JP2014503454A (zh)
CN (1) CN103228825A (zh)
RU (1) RU2013131002A (zh)
WO (1) WO2012077022A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106978176A (zh) * 2017-05-18 2017-07-25 济南大学 一种黄色荧光粉及制备方法和其在发光器件中的应用

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4836953A (en) * 1988-02-09 1989-06-06 Union Carbide Corporation Processes for enhancing fluorescence of TI:A1203 tunable laser crystals
CN1981018A (zh) * 2004-06-30 2007-06-13 三菱化学株式会社 荧光体和使用它的发光元件以及图像显示装置、照明装置
WO2008032812A1 (en) * 2006-09-15 2008-03-20 Mitsubishi Chemical Corporation Phosphor, method for producing the same, phosphor-containing composition, light-emitting device, image display and illuminating device
CN101677117A (zh) * 2008-09-19 2010-03-24 先进开发光电股份有限公司 高演色性发光二极管的配置方法与系统
CN101725843A (zh) * 2008-10-20 2010-06-09 先进开发光电股份有限公司 配置高色彩饱和度的发光二极管背光模块的系统与方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4836953A (en) * 1988-02-09 1989-06-06 Union Carbide Corporation Processes for enhancing fluorescence of TI:A1203 tunable laser crystals
CN1981018A (zh) * 2004-06-30 2007-06-13 三菱化学株式会社 荧光体和使用它的发光元件以及图像显示装置、照明装置
WO2008032812A1 (en) * 2006-09-15 2008-03-20 Mitsubishi Chemical Corporation Phosphor, method for producing the same, phosphor-containing composition, light-emitting device, image display and illuminating device
CN101677117A (zh) * 2008-09-19 2010-03-24 先进开发光电股份有限公司 高演色性发光二极管的配置方法与系统
CN101725843A (zh) * 2008-10-20 2010-06-09 先进开发光电股份有限公司 配置高色彩饱和度的发光二极管背光模块的系统与方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106978176A (zh) * 2017-05-18 2017-07-25 济南大学 一种黄色荧光粉及制备方法和其在发光器件中的应用
CN106978176B (zh) * 2017-05-18 2019-03-08 济南大学 一种黄色荧光粉及制备方法和其在发光器件中的应用

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014503454A (ja) 2014-02-13
EP2659033A1 (en) 2013-11-06
WO2012077022A1 (en) 2012-06-14
US20130248764A1 (en) 2013-09-26
RU2013131002A (ru) 2015-01-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Zhou et al. Multifunctional bismuth‐doped nanoporous silica glass: from blue‐green, orange, red, and white light sources to ultra‐broadband infrared amplifiers
KR101930024B1 (ko) 형광체 입자, 그 제조방법, 및 발광 다이오드
Zhang et al. High‐entropy transparent ceramics: review of potential candidates and recently studied cases
JP2012153904A (ja) 蛍光体粒子
CN102432181A (zh) 具有负热膨胀系数的结晶化玻璃及其制造方法
CN102153283A (zh) 一种PbSe量子点掺杂光纤材料的制备方法
Li et al. Achieving highly thermostable red emission in singly Mn 2+-doped BaXP 2 O 7 (X= Mg/Zn) via self-reduction
EP2607448B1 (en) Yttrium-Cerium-Aluminum garnet phosphor and light-emitting device
CN101212123A (zh) 一种掺镱硼酸氧钙钇镧激光晶体及其制备方法和用途
Majerová et al. Crystallization and visible–near-infrared luminescence of Bi-doped gehlenite glass
CN103228825A (zh) 增加激光材料中Ce3+含量的方法
EP2814072A1 (en) Light-emitting device
CN101037797A (zh) 掺铒镱硼酸钆锶激光晶体及其制备方法和用途
Fu et al. Ce3+: Lu3Al5O12–Al2O3 optical nanoceramic scintillators elaborated via a low-temperature glass crystallization route
CN101736400B (zh) 金属有机化学气相沉积生长GaN基发光晶体膜的方法
WO2003080903A1 (fr) Materiau lumineux pour scintillateur comprenant un monocristal d'oxyde de cristal melange a yb
CN101643934B (zh) 掺Bi卤化物激光晶体及其制备方法
JP2022071001A (ja) ガラス組成物、それを用いた光学素子及び光学装置
CN114349352A (zh) 一种Eu3+掺杂微晶玻璃及其制备方法和应用
CN110760930B (zh) 一种掺杂有多种三价调剂离子的碱土金属氟化物激光晶体及其制备方法
CN101748382B (zh) 分子束外延生长GaN基发光晶体膜的方法
CN105821478A (zh) 一种铥钬共掺镓酸钡镧激光晶体、制造方法及其应用
JP6165761B2 (ja) 透明なアルミネートガラス、ガラスセラミック及びセラミック
CN103951224A (zh) 稀土离子掺杂的LiI微晶玻璃及其制备方法
CN101387010A (zh) 掺钕硅酸钪激光晶体及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20130731