CN103157823A - 一种高精度钻四孔机床 - Google Patents

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朱慧萍
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Abstract

本发明公开了一种高精度钻四孔机床,包括机底座、钻孔机构和用于固定零件的夹持机构,其特征在于,还包括位于机底座和钻孔机构间的可升降的支架;所述钻孔机构包括主轴、电机和多轴器,电机通过主轴与多孔器连接;所述夹持机构包括钻模固定台、钻模法兰和定位圈,钻模法兰固定在钻模固定台下方,定位圈固定在底座上位于钻模法兰正下方;所述钻孔机构通过位于机底座和钻孔机构间的可升降的支架与底座连接,钻模固定台通过钻模固定板托固定在可升降支架中部。本发明只需一次加工即可打四个孔,提高了打孔的精确性,同时也提高了打孔的效率。

Description

一种高精度钻四孔机床
技术领域
[0001] 本发明涉及机械加工领域,具体地涉及一种高精度钻四孔机床。
背景技术
[0002] 现在对零件进行钻孔加工时,通常每次只能钻一个孔,现在很多机床等安装工件经常需要多孔,如果需要在工件上加工多个孔,需要多次夹装打孔,才能完成多孔的钻孔工作。由于夹装打孔次数多,因此工件的加工精度难以保证。而且,上述加工方式还存在打孔时间长、生产效率低,生产成本高等缺陷。
发明内容
[0003] 本发明的目的是提供一种打孔使用简单、高效的高精度钻四孔机床。
[0004] 本发明通过以下技术方案实现:
一种闻精度钻四孔机床,包括机底座、钻孔机构、用于固定零件的夹持机构和位于机底座和钻孔机构间的可升降的支架;所述钻孔机构包括主轴、电机和多轴器,电机通过主轴与多轴器连接;所述夹持机构包括钻模固定台、钻模法兰和定位圈,钻模法兰固定在钻模固定台下方,定位圈固定在底座上位于钻模法兰正下方;
所述钻孔机构通过位于机底座和钻孔机构间的可升降的支架与底座连接,钻模固定台通过钻模固定板托固定在可升降支架中部;
所述高精度钻多空机床,其钻模固定台与可升降支架上的摇把连接,可通过摇把调整钻模固定台上的位置;
所述高精度钻四孔机床的多轴器上可根据需要设置不同数量的钻头;
所述高精度钻四孔机床的多轴器上最多可设置四个钻头;
所述的高精度钻四孔机床的多轴器位于钻模法兰正上方。
[0005] 所述的高精度钻四孔机床的钻孔机构和夹持机构可根据需要调节其位置。
[0006] 本发明的有益效果是:
所述机床一次可以打四个孔,由于是一次成型,所以打孔精度大大提高;同时省去了一次打一个孔需要多次调节被加工部件的反复工序,大大地提高了工作效率。
附图说明
[0007] 图1为高精度钻四孔机床结构图。
具体实施例
[0008] 一种高精度打四孔机床,包括机底座8、钻孔机构、用于固定零件的夹持机构和位于机底座8和钻孔机构间的可升降的支架13 ;所述钻孔机构包括主轴2、电机I和多轴器3,电机I通过主轴2与多轴器3连接;所述夹持机构包括钻模固定台、钻模法兰5和定位圈9,钻模法兰5固定在钻模固定台下方,定位圈9固定在底座8上位于钻模法兰5正下方;所述钻孔机构通过位于机底座8和钻孔机构间的可升降的支架13与底座8连接,钻模固定台通过钻模固定板托6固定在可升降支架13中部。
[0009] 钻模固定板托6架通过螺栓12固定于可升降支架13上,钻模固定板4通过紧定螺钉安装于钻模固定板托6上,钻模法兰5通过紧定螺钉固定在钻模固定板4下,钻模定位轴通过紧定螺钉固定于钻模法兰5和钻模固定板4上的孔中。
[0010] 加工时,先将工件立柱上端抵在底座8上,用定位圈9固定立柱上端,定位圈9通过紧定螺钉10紧定在底座8上;再摇动摇把11,通过调整升降钻模固定板4和钻模法兰5,使钻模定位轴的度斜端头固定在工件立柱的内定位孔中,然后摇动摇把11压紧;多轴器3端头装有四把钻头,多轴器3装于主轴2端头,通过主轴2的移动一次可直接加工出立柱上的四个孔。保证了四孔的位置精度,且效率高,一次装夹即可。

Claims (5)

1.一种高精度钻四孔机床,包括机底座、钻孔机构和用于固定零件的夹持机构,其特征在于,还包括位于机底座和钻孔机构间的可升降的支架;所述钻孔机构包括主轴、电机和多轴器,电机通过主轴与多孔器连接;所述夹持机构包括钻模固定台、钻模法兰和定位圈,钻模法兰固定在钻模固定台下方,定位圈固定在底座上位于钻模法兰正下方; 所述钻孔机构通过位于机底座和钻孔机构间的可升降的支架与底座连接,钻模固定台通过钻模固定板托固定在可升降支架中部。
2.根据权利要求1所述的一种高精度钻四孔机床,其特征在于:钻模固定台与可升降支架上的摇把连接,可通过摇把调整钻模固定台上的位置。
3.根据权利要求1所述的一种高精度钻四孔机床,其特征在于:多轴器上可根据需要设置不同数量的钻头。
4.根据权利要求1所述的一种高精度钻四孔机床,其特征在于:多轴器上最多可设置四个钻头。
5.根据权利要求1所述的一种高精度钻四孔机床,其特征在于:多轴器位于钻模法兰正上方O
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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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