CN103147052A

CN103147052A - 一种真空镀膜装置

Info

Publication number: CN103147052A
Application number: CN2013100934026A
Authority: CN
Inventors: 徐海波; 仲梁维
Original assignee: University of Shanghai for Science and Technology
Current assignee: University of Shanghai for Science and Technology
Priority date: 2013-03-20
Filing date: 2013-03-20
Publication date: 2013-06-12
Anticipated expiration: 2033-03-20
Also published as: CN103147052B

Abstract

本发明提供一种能够能够充分利用镀膜材料进行镀膜的真空镀膜装置。本发明的一种真空镀膜装置，用于将镀膜材料镀到基片上，含有：真空室、转动轴、镀膜材料置放部支撑座以及对基片进行夹持的复数个夹具，其特征在于，还具有：两个镀膜锅，一个作为基板，另一个作为用于置放镀膜材料的镀膜材料置放部；和一个基板承载部，与转动轴相连，用于承载作为基板的镀膜锅和装载复数个夹具。

Description

一种真空镀膜装置

技术领域

本发明涉及一种真空镀膜装置。

背景技术

在真空镀膜装置中，通常将待镀膜的基片放入真空室内，并由安装在基片承载部上的夹具对基片进行夹持，然后由转动轴带动基片承载部转动，并由离子源对置放在镀膜材料置放部的镀膜材料进行轰击，使镀膜材料溅射并均匀沉积在基片表面。

但是在上述镀膜过程中，镀膜材料不仅被溅射到基片上，而且也会被溅射到基片承载部上，在多次镀膜后基片承载部上就会沉积相当多的镀膜材料，使得镀膜材料得不到充分地利用，这就造成了镀膜材料的浪费，同时，由于这些镀膜材料通常为昂贵的金属材料，因而也大大增加了镀膜的成本。

发明内容

鉴于以上问题点，本发明的目的在于提供一种能够充分利用镀膜材料进行镀膜的真空镀膜装置。

本发明为了达到以上的目的，采用了以下结构。

本发明的一种真空镀膜装置，用于将镀膜材料镀到基片上，含有：真空室、转动轴、镀膜材料置放部支撑座以及对基片进行夹持的复数个夹具，其特征在于，还具有：两个镀膜锅，一个作为基板，另一个作为用于置放镀膜材料的镀膜材料置放部；和一个基板承载部，与转动轴相连，用于承载作为基板的镀膜锅和装载复数个夹具，其中，镀膜锅包括：锅底板、与该锅底板固定相连并环绕锅底板设置的锅身，锅底板含有：定位凸台、与夹具的形状相对应并且个数相等的复数个贯穿孔、第一连接部以及第二连接部，第一连接部与基板承载部相对应，用于当镀膜锅作为基板时与基板承载部相连接，第二连接部与镀膜材料置放部支撑座相对应，用于当镀膜锅作为镀膜材料置放部时与镀膜材料置放部支撑座相连接，基板承载部包含：与转动轴相匹配的定位座和与该定位座固定相连的承载板，定位座与转动轴相连，承载板上设有：与定位凸台相对应的定位凹槽、与第一连接部相对应的连接固定部以及与复数个贯穿孔和复数个夹具相对应用于连接该复数个夹具的夹具装载部，当镀膜锅作为基板时，夹具的连接轴穿过贯穿孔与夹具装载部相连。

进一步地，在本发明的真空镀膜装置中，还可以具有这样的特征：定位凸台上设有第一外螺纹、定位凹槽内设有与第一外螺纹相匹配的第一内螺纹，在锅底板作为基板时，定位凸台与定位凹槽通过第一外螺纹与第一内螺纹相连接。

进一步地，在本发明的真空镀膜装置中，还可以具有这样的特征：第一连接部含有若干个第一螺纹孔，连接固定部含有：与第一螺纹孔的形状相对应，并且个数与若干个第一螺纹孔的个数相同的若干个第二螺纹孔；以及与第一螺纹孔和第二螺纹孔相对应，并且个数与第二螺纹孔的个数相同的若干个第一螺栓。

进一步地，在本发明的真空镀膜装置中，还可以具有这样的特征：锅底板的形状为圆台形。

进一步地，在本发明的真空镀膜装置中，还可以具有这样的特征：锅底板的厚度在1~4mm范围内。

进一步地，在本发明的真空镀膜装置中，还可以具有这样的特征：转动轴与定位座采用螺纹连接、嵌合连接、卡合连接中的任一种连接方式相连。

进一步地，在本发明的真空镀膜装置中，还可以具有这样的特征：转动轴与定位座采用螺纹连接方式相连，转动轴含有用于安装基板承载部的安装部，安装部含有多个第二螺栓，定位座包括与多个第二螺栓相对应，并且个数相等的多个第三螺纹孔。

进一步地，在本发明的真空镀膜装置中，还可以具有这样的特征：夹具装载部包括与复数个夹具的个数相等的复数个夹具装载台。

进一步地，在本发明的真空镀膜装置中，还可以具有这样的特征：夹具的连接轴与夹具装载台采用螺纹连接、嵌合连接、卡合连接中的任一种连接方式相连。

进一步地，在本发明的真空镀膜装置中，还可以具有这样的特征：夹具的连接轴与夹具装载台采用螺纹连接方式相连，夹具的连接轴上含有第二外螺纹，夹具装载台具有与连接轴相对应的装载凹槽，该装载凹槽内设有第二内螺纹。

发明的作用与效果

根据本发明涉及的真空镀膜装置，因为该真空镀膜装置不仅含有真空室、转动轴、镀膜材料置放部支撑座以及对基片进行夹持的复数个夹具，还含有两个镀膜锅和一个基板承载部，一个镀膜锅作为基板，另一个镀膜锅作为镀膜材料置放部，所以当作为基板的镀膜锅上已沉积了一定量的镀膜材料后，操作员可以将作为基板的镀膜锅与作为镀膜材料置放部的镀膜锅交换位置使用，即、将原本作为基板的镀膜锅安装在镀膜材料置放部支撑座上以作为镀膜材料置放部使用，并将原本作为镀膜材料置放部的镀膜锅安装在转动轴上以作为基板使用，这时就不要另外在镀膜材料置放部上放置镀膜材料，而可以直接将镀膜材料置放部上沉积的镀膜材料轰击到基片表面，对基片进行镀膜。因此，该真空镀膜装置备使得未镀在基片上的那些镀膜金属也得到了有效地利用，从而达到了充分利用镀膜材料进行镀膜的目的，而且也大大降低了镀膜的成本。

附图说明

图 1 是本发明涉及的真空镀膜装置在实施例中的结构示意图；

图 2 是本发明涉及的镀膜锅在实施例中的结构示意图；

图 3 是本发明涉及的镀膜锅在实施例中的底视图；以及

图 4 是本发明涉及的基板承载部在实施例中的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本发明所涉及的真空镀膜装置的优选实施例做详细阐述，但本发明并不仅仅限于该实施例。为了使公众对本发明有彻底的了解，在以下本发明优选实施例中详细说明了具体的细节。

实施例

图 1 是本发明涉及的真空镀膜装置在实施例中的结构示意图。

如图 1 所示，真空镀膜装置10用于将镀膜材料11镀到图中未显示的基片上，它含有：真空室12、转动轴13、复数个夹具14、两个镀膜锅15、基板承载部16、镀膜材料置放部支撑座17、离子源18。

真空室12用于提供真空的镀膜环境。

转动轴13安装在真空室12内，进行转动从而带动基板承载部16进行转动，使得镀膜材料能够均匀沉积在基片（图中未显示）的表面。

夹具14用于对基片（图中未显示）进行夹持。在本实施例中，共设有八个夹具14，图 1 中只显示了四个夹具14，另外四个未显示出来。

两个镀膜锅15的结构完全相同，这两个镀膜锅15中的一个作为基板，另一个作为用于置放镀膜材料11的镀膜材料置放部。在本实施例中，如图 1 所示，这两个镀膜锅15均包括锅底板19和锅身20。

图 2 是本发明涉及的镀膜锅在实施例中的结构示意图。

如图 2 所示，在本实施例的镀膜锅15中锅底板19的形状为圆台形，锅底板19的厚度在1~4mm范围内。

锅身20与锅底板19固定相连并环绕锅底板设置。锅底板19与锅身20围成一个凹槽结构，当镀膜锅15作为镀膜材料置放部时，镀膜材料11被放置在该凹槽结构中。

图 3 是本发明涉及的镀膜锅在实施例中的底视图。

如图 2、3 所示，锅底板19含有：定位凸台21、复数个贯穿孔22、第一连接部23以及第二连接部24。

在本实施例中，定位凸台21上设有第一外螺纹21a。

贯穿孔22与夹具14的形状相对应，并且贯穿孔22的个数与夹具14的个数相等，由于夹具14个数为八个，因此，在本实施例中，锅底板19上共设有八个贯穿孔22，当镀膜锅15作为基板时，夹具14的连接轴14a能够穿过贯穿孔22与夹具装载部29相连。

第一连接部23与基板承载部16相对应，用于当镀膜锅15作为基板时与基板承载部16相连接，在本实施例中，该第一连接部23含有若干个第一螺纹孔23a。在本实施例中，如图 1、3 所示，第一连接部23共设有八个第一螺纹孔23a。

第二连接部24与镀膜材料置放部支撑座17相对应，用于当镀膜锅15作为镀膜材料置放部时与镀膜材料置放部支撑座17相连接。

如图 1 所示，基板承载部16与转动轴13相连，用于承载作为基板的镀膜锅15，并且装载复数个的夹具14。

图 4 是本发明涉及的基板承载部在实施例中的结构示意图。

如图 1、4 所示，基板承载部16包含：定位座25和承载板26。定位座25与转动轴13相连。

承载板26上设有定位凹槽27、连接固定部28以及夹具装载部29。

定位凹槽27与定位凸台21相对应，用于固定该定位凸台21。在本实施例中，定位凹槽27上设有与第一外螺纹21a相匹配的第一内螺纹27a。

连接固定部28与第一连接部23相对应，用于与第一连接部23固定相连。在本实施例中，连接固定部28含有若干个第二螺纹孔28a和图中未显示的若干个第一螺栓。第二螺纹孔28a与第一螺纹孔23a的形状相对应，并且个数与第一螺纹孔23a的个数相同为八个。第一螺栓（图中未显示）的个数与第二螺纹孔28a的个数相同也为八个，并且与第一螺纹孔23a和第二螺纹孔28a的形状相对应。

夹具装载部29与复数个贯穿孔22和复数个夹具14相对应，用于连接该复数个夹具14。在本实施例中，夹具装载部29包括与夹具14的个数相等的八个夹具装载台30，并且在夹具装载台30内设有连接轴14a相对应的装载凹槽30a。

在本实施例中，夹具14的连接轴14a上含有图中未显示的第二外螺纹。与该第二外螺纹相对应地在该装载凹槽30a内设有图中未显示的第二内螺纹。这样使得连接轴14a与夹具装载台30通过螺纹连接方式相连。

如图 1 所示，在本实施例中，转动轴13含有用于安装基板承载部16的安装部31，该安装部31中设有四个第二螺栓31a，图 1 中只显示除了两个第二螺栓31a。如图 4 所示，定位座25包括与这些第二螺栓31a相对应的四个第三螺纹孔25a。这样使得转动轴13与定位座25采用螺纹连接方式相连。

镀膜材料置放部支撑座17用于支撑作为镀膜材料置放部的镀膜锅15。在本实施例中，如图 1 所示，该镀膜材料置放部支撑座17上设有按照一定间隔排列的两个螺栓17a。

如图 1、3 所示，在本实施例中，八个第一螺纹孔23a的都形状与螺栓17a的形状相对应，并且任意两个相对向的第一螺纹孔23a的间隔与两个螺栓17a的间隔相同，因此，任意两个相对向的第一螺纹孔23a即可组成第二连接部24与两个螺栓17a通过螺纹相连。

如图 1 所示，在真空镀膜装置10中，离子源18用于发射离子流，从而对置放在镀膜材料置放部的镀膜材料 11进行进行轰击，将镀膜材料11溅射并沉积在基片（图中未显示）的表面。

在本实施例中，如图 1 至 4 所示，将基板承载部16与转动轴13相连，然后将一个镀膜锅15作为基板，使它的定位凸台21与基板承载部16上的定位凹槽27通过螺纹方式相连接，再将夹具14的连接轴14a穿过作为基板的镀膜锅15上的贯穿孔22再与夹具装载部29通过螺纹方式相连，从而将夹具安装到基板承载部16上。接着将另一个镀膜锅15作为镀膜材料置放部，使它的锅底板19上的两个相对向的第一螺纹孔23a与镀膜材料置放部支撑座17上的两个螺栓17a通过螺纹相连，从而将该镀膜锅15固定在镀膜材料置放部支撑座17上。再将镀膜材料11置放在作为镀膜材料置放部的镀膜锅15中。然后采用离子源18发射离子流，对镀膜材料11进行进行轰击，将镀膜材料11溅射并沉积在基片（图中未显示）的表面，对基片（图中未显示）进行镀膜。

然后，当作为基板的镀膜锅15上已经沉积了一定量的镀膜材料11后，让操作员将两个镀膜锅15拆卸下来，并将原本作为基板的镀膜锅15安装在镀膜材料置放部支撑座17上以作为镀膜材料置放部使用，并将原本作为镀膜材料置放部的镀膜锅15安装在转动轴13上以作为基板使用，这时就不要另外在作为镀膜材料置放部使用的镀膜锅15上放置镀膜材料了，而可以采用离子源18直接将作为镀膜材料置放部使用的镀膜锅15上沉积的镀膜材料轰击到基片（图中未显示）表面，对基片（图中未显示）进行镀膜。

实施例的作用与效果

根据本实施例所涉及的真空镀膜装置，因为该真空镀膜装置不仅含有真空室、转动轴、镀膜材料置放部支撑座以及对基片进行夹持的复数个夹具，还含有两个镀膜锅和一个基板承载部，一个镀膜锅作为基板，另一个镀膜锅作为镀膜材料置放部，所以当作为基板的镀膜锅上已沉积了一定量的镀膜材料后，操作员可以将作为基板的镀膜锅与作为镀膜材料置放部的镀膜锅交换位置使用，即、将原本作为基板的镀膜锅安装在镀膜材料置放部支撑座上以作为镀膜材料置放部使用，并将原本作为镀膜材料置放部的镀膜锅安装在转动轴上以作为基板使用，这时就不要另外在镀膜材料置放部上放置镀膜材料，而可以采用离子源直接将作为镀膜材料置放部的镀膜锅上沉积的镀膜材料轰击到基片表面，对基片进行镀膜。因此，该真空镀膜装置备使得未镀在基片上的那些镀膜金属也得到了有效地利用，从而达到了充分利用镀膜材料进行镀膜的目的，而且也大大降低了镀膜的成本。

另外，由于镀膜锅的锅底板的厚度在1~4mm范围内，这一厚度足够薄，因此可以确保离子流对放置在作为镀膜材料置放部的镀膜锅上的镀膜材料能够进行有效地轰击。

当然，本发明所涉及的真空镀膜装置并不仅仅限定于在本实施例中的结构。

在本实施例的真空镀膜装置中，夹具的连接轴与夹具装载台是采用螺纹连接。在本发明的真空镀膜装置中，根据不同的实际安装需要，夹具的连接轴与夹具装载台也可以采用嵌合连接或卡合连接。

另外，在本实施例的真空镀膜装置中，转动轴与定位座是采用螺纹连接的。在本发明的真空镀膜装置中，根据不同的实际安装需要，转动轴与定位座也可以采用嵌合连接或卡合连接。

Claims

1.一种真空镀膜装置，用于将镀膜材料镀到基片上，含有：真空室、转动轴、镀膜材料置放部支撑座以及对所述基片进行夹持的复数个夹具，其特征在于，还具有：

两个镀膜锅，一个作为基板，另一个作为用于置放所述镀膜材料的镀膜材料置放部；和

一个基板承载部，与所述转动轴相连，用于承载作为基板的所述镀膜锅和装载所述复数个夹具，

其中，所述镀膜锅包括：锅底板、与该锅底板固定相连并环绕所述锅底板设置的锅身，所述锅底板含有：定位凸台、与所述夹具的形状相对应并且个数相等的复数个贯穿孔、第一连接部以及第二连接部，所述第一连接部与所述基板承载部相对应，用于当所述镀膜锅作为基板时与所述基板承载部相连接，所述第二连接部与所述镀膜材料置放部支撑座相对应，用于当所述镀膜锅作为镀膜材料置放部时与所述镀膜材料置放部支撑座相连接，

所述基板承载部包含：与所述转动轴相匹配的定位座和与该定位座固定相连的承载板，所述定位座与所述转动轴相连，所述承载板上设有：与所述定位凸台相对应的定位凹槽、与所述第一连接部相对应的连接固定部以及与所述复数个贯穿孔和所述复数个夹具相对应用于连接该复数个夹具的夹具装载部，

当所述镀膜锅作为基板时，所述夹具的连接轴穿过所述贯穿孔与所述夹具装载部相连。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：

其中，所述定位凸台上设有第一外螺纹、所述定位凹槽内设有与所述第一外螺纹相匹配的第一内螺纹，

在所述锅底板作为基板时，所述定位凸台与所述定位凹槽通过所述第一外螺纹与所述第一内螺纹相连接。

3.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：

其中，所述第一连接部含有若干个第一螺纹孔，

所述连接固定部含有：与所述第一螺纹孔的形状相对应，并且个数与所述若干个第一螺纹孔的个数相同的若干个第二螺纹孔；以及与所述第一螺纹孔和所述第二螺纹孔相对应，并且个数与所述第二螺纹孔的个数相同的若干个第一螺栓。

4.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：

其中，所述锅底板的形状为圆台形。

5.根据权利要求1或4所述的真空镀膜装置，其特征在于：

其中，所述锅底板的厚度在1~4mm范围内。

6.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：

其中，所述转动轴与所述定位座采用螺纹连接、嵌合连接、卡合连接中的任一种连接方式相连。

7.根据权利要求6所述的真空镀膜装置，其特征在于：

其中，所述转动轴与所述定位座采用螺纹连接方式相连，

所述转动轴含有用于安装所述基板承载部的安装部，所述安装部含有多个第二螺栓，

所述定位座包括与所述多个第二螺栓相对应，并且个数相等的多个第三螺纹孔。

8.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：

其中，所述夹具装载部包括与所述复数个夹具的个数相等的复数个夹具装载台。

9.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：

其中，所述夹具的连接轴与所述夹具装载台采用螺纹连接、嵌合连接、卡合连接中的任一种连接方式相连。

10.根据权利要求9所述的真空镀膜装置，其特征在于：

其中，所述夹具的连接轴与所述夹具装载台采用螺纹连接方式相连，

所述夹具的连接轴上含有第二外螺纹，

所述夹具装载台具有与所述连接轴相对应的装载凹槽，该装载凹槽内设有第二内螺纹。