CN103096942A - 用于在较大制冷系统中对抗细菌培养物、病毒、真菌培养物、霉菌和微生物等在冷凝器盘管上形成和传播的方法和装置 - Google Patents
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Abstract
指定了一种用于在制冷设备/单元（4）中对抗细菌培养物和微生物等在冷凝器表面（28）上形成和传播的方法和装置。该方法特殊之处在于与利用二氧化钛处理的过滤器（12）结合地，在操作期间利用UV光连续地照射冷却空气和冷凝器表面。该方法进一步补充有：在紧接制冷设备/单元操作停止的时间段中，利用由高频发生器（24）产生的电磁辐射照射冷却空气和冷凝器。利用被布置在冷却容器中的制冷设备/单元（4）中的装置执行的测试已经示出，在使根据本发明的装置在制冷设备/单元的冷凝器附近操作之后，在相对短时间之后，在制冷设备/单元中在冷凝器表面（28）上的细菌培养物和微生物等被消除到前所未有的最小值。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于在较大制冷系统中、特别是在冷藏容器的制冷设备/单元中对抗细菌培养物、病毒、真菌培养物、霉菌和微生物等在冷凝器表面上形成和传播的方法和装置，其中与利用二氧化钛处理的过滤器结合地，在操作期间利用UV光连续地辐照冷却空气；以及一种用于执行根据本发明的方法的装置。本发明还包括较大冷却设备，该较大冷却设备包括用于执行根据本发明的方法的装置。
背景技术
较大冷却系统典型地通过冷却空气操作，已经被冷却为适宜温度的该冷却空气在完全或者部分密封的隔舱中通过风扇循环和再循环，在该隔舱中布置的货物的保存期限取决于被冷却到的特定温度。
对此的示例是冷却容器，其包括具有独立冷却系统的隔热容器，该独立冷却系统被典型地布置在该冷却容器的一端，其中冷却空气通过在冷凝器上的风扇并经由引出到冷却容器外壳内的管道循环，由此布置在其中的货物例如在运输期间被冷却至确定的温度。
在本发明以下的说明书中，为了简化，与冷却容器一起描述本发明，但是，这应当不限制本发明，因为在具有经冷凝器循环的冷却空气循环的较大冷却设备，和通常的冷却设备和冷藏库中，用于本发明的原理在许多其它关系中同样是可使用的。本发明因此被认为以其最宽视角与冷却设备和冷藏库有关。
但是，通过源自被布置在冷藏室中货物的细菌和真菌培养物等，也由于在其装载和卸载期间在冷藏室中操作的人员，冷藏室的感染是不可避免的。
冷却容器用于运输要被冷却以避免腐败的所有货物，对此的示例为肉、水果、内脏等。
当该冷却容器到达其目的地时，将开启该容器，并且卸载所有货物。随后，将利用蒸汽清洗机清洁该容器，此后，该容器将被声明为“清洁的”，并且被装载其他货物。
但是，问题是容器实际上并不“清洁”，因为在冷却设备中冷凝器没有被蒸汽清洁，因为冷却设备由于其被电子装置围绕，并且既无法承受高压蒸汽，也无法承受化学制品，而不能使用蒸汽以正常方式清洁。
丹麦技术学会（Danish Institute of Technology）已经在从马士基（Maersk）提供的容器中执行了孢子和细菌的测量，并且结果是令人震惊的，因为其示出在冷却设备的冷凝器上的细菌浓度是可观的，并且因此在下一次使用该冷却容器用于货物运输时形成一种对于细菌等传播的“快速启动”。
对此的示例是当水果被放入盒子中，并且它们的皮或者壳相互挤压时，出现称作乙烯的气体。乙烯同时启动了污染过程。在全新的容器中进行测试已经示出，在大约8天（这在水果被从地球的一个地区运输到另一个地区时不是不切实际的长时间）之后，在容器的储藏室内部可以测量到大于1.400的平皿计数，但是在容器中的冷凝器上测量到大于16.000的平皿计数。
可以利用如下解决方案操作以解决这个问题，该解决方案包括手动地、更仔细地对在冷却容器中的冷凝器执行清洁，但是，这不改变在容器中运输易于有害的货物期间将会形成其它的/新的细菌的事实，并且因此，人工清洁冷却容器的冷却设备的冷凝器将必须在每次货物运输结束之后立即进行。此外，必须考虑“人为因素”，其中未必总是保证均匀地和以相同的质量执行清洁。
从WO2005044446A1（约克国际公司（YORK INT CORP））中已知一种用于在冷却设备中、特别是在冷却容器的冷却设备中对抗细菌培养物和微生物等在冷凝器表面上传播的方法，其中与利用二氧化钛处理的过滤器结合地，在操作期间利用UV光连续地辐照冷却空气和冷凝器表面。该方法已经示出是有效的，并且抑制所述破坏性的细菌培养物、孢子和微生物的传播，并且对于例如在冷却容器中运输的食物有助于更长期地保持质量。但是，缺乏以上提及的冷却容器的有效清洁导致利用UV光辐照作为优选不是有效的，因为在该冷却容器中，UV辐照仅仅与冷却设备的操作一起操作，这意味着冷却容器在正常清洁之后的非操作时段，导致了当冷却设备的风扇被启动时，将扩散进冷却容器的冷却室内的不希望的孢子、细菌和微生物的形成和传播，这不是优选的。
发明内容
因此，本发明的目的是提供以上问题的解决方案，使得在较大冷却设备、特别是在冷却容器中的冷却设备中防止细菌培养物、病毒、真菌培养物、霉菌和微生物等在冷凝器表面上的形成和传播，或者在所有条件下将其近似地降低为零。
这个目的通过在前文提及的、一种用于在较大制冷系统、特别是在冷却容器的制冷设备中对抗细菌、病毒、真菌培养物、霉菌和微生物等在冷凝器表面上形成和传播的方法实现，其中在制冷设备的操作期间，与利用二氧化钛处理的过滤器结合地，利用UV光连续照射冷却空气和冷凝器表面，其特征在于：在紧接制冷设备操作停止的时间段中，利用高频发生器照射冷却空气和冷凝器。
该高频发生器具有如下效果：其强大的电磁辐射导致在该辐射场中破坏所有生物材料，以及由此破坏细菌培养物、真菌培养物等。利用高频发生器的辐射仅仅在使制冷设备操作之后的短时间段内进行，然后将其关闭，同时继续利用UV光辐射，直到清空该容器，或者暂停该制冷设备的操作。
应当注意到，本发明人意识到与二氧化钛结合地使用UV光来杀死细菌培养物等是众所周知的。
由丹麦技术学会进行的并且在2009年在报告：“Study of killingeffects against microorganisms using the Clean Air System for purificationof the circulated air and surfaces in a cooling container”中报告的研究同样显示了，使用该方法，作为在该冷却空气中霉菌和酵母含量的菌落数的明显减少，并且因此记录了对于在较大制冷设备中、以及在这些之中特别是在冷却容器的制冷设备中阻碍细菌培养物、病毒、真菌培养物、霉菌和微生物等在冷凝器表面上形成和传播的适应性。
但是，不知道的是，与包括利用UV光辐射和二氧化钛的已知技术结合地使用由高频发生器产生的电磁辐射，以在较大制冷设备、特别是在冷却容器的制冷单元中对抗细菌培养物等在冷凝器表面上形成和传播；并且由丹麦技术学会进行的测量清楚地示出，根据本发明的、由高频发生器在启动制冷设备之后紧接的较短时间段内产生电磁辐射，随后与UV光源结合地使用被涂覆二氧化钛的过滤器的方法，指示了关于细菌培养物、病毒、真菌培养物、霉菌和微生物等在较大制冷系统中、特别是在冷却容器的制冷单元中的冷凝器盘管上形成和传播（这只能通过手动地进行清洁工作来除去）的已知问题。
因此，该电磁辐射显著地有助于在启动制冷系统时杀死细菌培养物、真菌培养物、病毒、霉菌等，并且因此，它们没有以之前已知的水平随着冷却空气扩散，以损害被布置在冷却设备或者冷却容器中食物。
与包含二氧化钛的过滤器结合的利用UV光源的连续辐射部分地导致在较大制冷系统、特别是在冷藏容器的制冷设备中阻碍了细菌培养物、病毒、真菌培养物、霉菌和微生物等在冷凝器盘管上的形成和传播，因此，当该容器被装载有新的产品/货物时，这些表面不会有助于扩散所述培养物和有机体，但是，此外同时地，在被装载进冷却容器的货物中已经存在的细菌培养物、病毒、真菌培养物、霉菌和微生物等没有被扩散到如同如果没有与具有二氧化钛的过滤器结合地进行利用UV光的连续照射则将出现的情形的程度，从而导致提高这些产品/货物的耐久性。
根据本发明方法的另外的优点是，在使用消毒单元的前提下，细菌不容易在大陆之间扩散。就此，可以说在世界范围内大约1百万个制冷容器昼夜地在使用中。
此外，使用根据本发明的消毒单元消除了与容器关联的气味问题。目前，如果在容器中有柑桔类水果，不可能紧接着在相同的容器中运输可可豆，因为可可粉将吸收先前运输的产品的味道。这个问题也使用根据本发明的方法得以解决。
优选的是，UV光的波长位于范围200-300nm内、典型地在范围240-270nm内、并且优选地在250-260nm内。
在根据本发明的方法的特别优选的实践中，UV光的波长是254nm。
实验已经示出，UV光源的强度有利地可以位于范围5-100W内、典型地在25-75W内、并且优选地在55-65W内。
在特别地优选的根据本发明的方法实践中，UV光源的强度是大约60W。
为了实现尽可能最宽的光散播，并且意图辐射具有二氧化钛的过滤器的尽可能最大的部分，优选的是，UV光源由管状灯组成。
在具有二氧化钛的过滤器和UV光源之间的距离可以位于范围1-200mm内、典型地在20-140mm内、并且优选地在40-60mm的范围内。
一种用于执行根据本发明的方法的装置包括：用于在制冷设备的冷凝器的紧邻处安装的、由框架组成的单元，所述框架包括充满二氧化钛的过滤器和离过滤器一定距离的UV光源，并且所述光源与控制单元一起布置为：使得UV光源优选地被与制冷设备/单元一起激活和关闭。
在制冷容器的情况下已经证明，有利的是，在冷凝器和围绕容器空间内部循环空气的风扇附近的每一侧上，使用被布置在制冷容器的制冷单元的管道中的适当尺寸的两个单元。该单元被配备为用于安装在所有类型的制冷容器中的标准元件/框架。
优选的是，UV光源由具有位于范围25-100W内、典型地在40-75W内、并且优选地在55-65W内的强度的管状UV光源组成。
进一步优选的是，从管状光源发射的UV光的波长位于范围200-300nm内、典型地在范围240-270nm内、并且优选的波长位于250-260nm内。
在该单元的特定优选的实施例中，对于从管状光源发射的光的波长是254nm，其是已经被证实在对抗细菌、真菌、霉菌培养物等方面最有效的波长。
优选的是，UV光源被布置在离具有二氧化钛的过滤器在范围1-200mm内、典型地20-140mm、并且优选地在范围40-60mm内的距离。
关于适合于被布置在有限空间条件中，诸如在制冷容器中的制冷单元中的单元，优选的是，UV光源被布置在离具有二氧化钛的过滤器50mm的距离。据此，实现了具有二氧化钛的过滤器的合理的照射度，同时该框架的内置高度是相对小的。
在启动布置了根据本发明的单元的相关的制冷设备/单元时，高频发生器的使用有利于消除可能发生的细菌培养物、病毒、真菌培养物、霉菌和微生物等在制冷设备/单元的冷凝器表面和冷却管道上的较多形成。但是，仅当启动制冷设备/单元时，高频发生器的使用是必要的。因此，该框架可以有利地进一步包括连接到控制单元的高频发生器，其被布置为，在启动制冷设备/单元时，高频发生器在预先设定的时间段内被激活，并且随后被关闭。
本发明还涉及一种制冷设备/单元，其特征在于：其在冷凝器区域附近包括根据在权利要求1-8中的任何一项中陈述的根据本发明的方法用于对抗细菌培养物和微生物等在冷凝器表面上形成和传播的装置，包括具有根据权利要求9-14中的任何一项所述的单元的制冷设备/单元。
本发明进一步涉及一种冷却容器，其中制冷设备/单元包括根据在权利要求1-8中的任何一项中陈述的根据本发明的方法用于对抗细菌培养物和微生物等在冷凝器表面上形成和传播的设备，包括具有根据权利要求15所述的单元的制冷设备/单元。
附图说明
以下参考附图进一步解释本发明，其中：
图1是根据本发明的用于在制冷设备/单元中对抗细菌培养物和微生物等在冷凝器表面上的形成和传播的装置的透视图：
图2是被装入冷却容器中的制冷设备/单元中的、图1中示出的装置的图形：
图3A和3B是在冷却容器中的制冷设备的相应的截面视图和端视图，示出在图1和图2中示出的装置在该制冷设备/单元中被装入的位置；
图4是基于由丹麦技术学会进行的测量，指示用于在制冷设备/单元中对抗细菌培养物和微生物等在冷凝器表面上形成和传播的装置效果的示意图。
具体实施方式
在图1中示出用于在制冷设备/单元4中对抗细菌培养物和微生物等在冷凝器表面上形成和传播的装置2的实施例，参见图3A和3B。
在示出的实施例中，该装置2包括具有二个长边8和二个短边10的矩形框架6，在所述框架2中放置包含二氧化钛的过滤材料12。该框架2的短边6包括具有恰好形成三角形横截面的端板14、16。在端板14、16中布置用于安装UV光源20的控制台18，该UV光源20经由电缆（未示出）连接到与制冷设备/单元4关联的未示出的电源。为了照射过滤器22的整个表面，UV光源被布置在离包含二氧化钛的过滤材料12一定距离。
在至少一个端板14的外侧上，进一步布置有高频发生器24，其也经由未示出的电缆和用于打开和关闭到高频发生器的电源的定时器而连接到属于制冷设备/单元4的电源。
在图2中示出用于在制冷设备/单元中对抗细菌培养物等在冷凝器表面上形成和传播的装置2如何在循环冷却空气的风扇26附近被布置在制冷设备/单元中，冷却空气当在冷凝器28的表面上循环时被冷却。
在分别地是用于冷却容器的制冷设备/单元4的侧截面视图和端视图的图3A和3B中，示出用于对抗细菌培养物和微生物等在冷凝器表面上形成和传播的装置2是如何在制冷设备/单元中。如其显示的，在示出的实施例中的制冷设备/单元被提供有两个单元，在该制冷设备/单元的每一侧中一个。
用于在制冷设备/单元中对抗细菌培养物和微生物等在冷凝器表面上形成和传播的装置如下操作。当该制冷设备/单元被连接到电源并且被打开时，UV光源被打开以照射过滤材料12以及在制冷设备/单元中的冷凝器表面28的表面，并且自然地也照射围绕制冷设备/单元4中以及与之连接的冷却容器（未示出）中循环的空气，从而建立在制冷设备/单元中强烈地抑制细菌培养物和微生物等在冷凝器表面上形成和传播的环境，从而将它们消除。
同时，随着制冷系统启动，控制高频发生器24操作的定时器被激活。该高频发生器然后在预先选择的时间投入操作，其中辐射阻止了在冷凝器28上和周围区域中所有存在的有机物的出现。在选择的时间段期满之后，该高频发生器24被自动地关闭，同时在停止使用制冷设备/单元4之前保持UV光源点亮。
在图4中是直方图的示意形式，与实验装置相关地示出根据本发明的装置的影响，在该实验装置中，在装载有各种水果和植物的冷却容器中的制冷设备/单元中已经装入该装置，并且图4中是在由丹麦技术协会在2009年4月准备的报告“Study on the killing effects againstmicroorganisms using the Clean Air purification system for purification ofthe circulated air and surfaces in a cooling container”中的结果的再现。柱A示出随着制冷系统操作，在14天之后在冷却单元的表面上的细菌量。柱B和C示出在启动根据本发明的该装置以在制冷系统中对抗细菌培养物和微生物等在冷凝器表面上形成和传播之后20小时测量的，在冷却元件的左侧和右侧处的细菌浓度，柱D示出在启动根据本发明的该装置之后在来自冷却系统的废气中的细菌浓度，并且“柱”E和F示出在使根据本发明的装置操作之后20小时，在左侧和右侧冷凝器的表面上的细菌浓度。
参看图4的测量结果清楚地示出用于执行根据本发明的方法的装置所声称的效果，并且良好地适用于在制冷设备/单元中阻碍细菌培养物的激增和传播。
应当注意到，本发明人已经认识到本发明可以采用除在附图中所描述和示出的实施例之外其他的实施例，并且已经在用于消毒的其它背景下应用UV光，但是，这不改变本发明的方面，其将以全新和前所未有的关系使用这种技术，这可以导致提高在冷却容器中运输的货物，或者存储在冰箱、冷却器等中的散装产品的产品质量。此外，当在世界的不同地区之间运输食物时，本发明的使用还有助于阻碍传染的扩散。
Claims (15)
1.一种用于在制冷设备/单元（4）中、特别是在冷却容器中的制冷设备/单元（4）中对抗细菌培养物和微生物等在冷凝器表面（28）上形成和传播的方法，其中与利用二氧化钛处理的过滤器（12）结合地，在操作期间利用UV光照射冷却空气和冷凝器表面，其特征在于，在紧接所述制冷设备/单元操作停止的时间段中，利用由高频发生器产生的电磁辐射照射所述冷却空气和所述冷凝器。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述UV光的波长位于200-300nm范围内、典型地在240-270nm范围内、并且优选地波长位于250-260nm内。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述UV光具有在254nm处的波长。
4.根据权利要求1-3中的任何一项所述的方法，其特征在于，UV光源的强度位于5-100W范围内、典型地在25-75W内、并且优选地在55-65W内。
5.根据权利要求1-4中的任何一项所述的方法，其特征在于，所述UV光源的强度是大约60W。
根据权利要求1-5中的任何一项所述的方法，其特征在于，所述UV光源由管状光源组成。
7.根据权利要求1-6中的任何一项所述的方法，其特征在于，所述UV光源被布置在离具有二氧化钛的所述过滤器在范围1-200mm内、典型地20-140mm、并且优选地在范围40-60mm内的距离。
8.一种用于执行根据权利要求1-7中的任何一项所述的方法的装置（2），其特征在于，所述装置（2）包括紧邻冷凝器（28）安装的框架（6），所述框架（6）包括充满二氧化钛的过滤器（12），和离所述过滤器（12）一定距离的UV光源（20），所述光源（20）被以如下方式与控制单元布置在一起：使得所述UV光源优选地与所述制冷设备/单元（4）一起激活和关闭。
9.根据权利要求8所述的装置（2），其特征在于，所述UV光源由具有位于5-100W范围内、典型地在25-75W内、并且优选地在55-65W内的强度的管状UV光源（20）组成。
10.根据权利要求8或者9中的任何一项所述的装置（2），其特征在于，从所述管状光源发射的UV光的波长位于200-300nm范围内、典型地在240-270nm范围内、并且优选地波长位于250-260nm内。
11.根据权利要求8-10中的任何一项所述的装置（2），其特征在于，从所述管状UV光源（20）发射的光的波长是254nm。
12.根据权利要求8-11中的任何一项所述的装置（2），其特征在于，所述UV光源（20）被布置在离具有二氧化钛的所述过滤器（12）在1-200mm范围内、典型地在20-140mm、并且优选地在40-60mm范围内的距离。
13.根据权利要求8-12中的任何一项所述的装置（2），其特征在于，所述UV光源（20）被布置在离具有二氧化钛的所述过滤器（12）50mm处的距离。
14.根据权利要求8-13中的任何一项所述的装置（2），用于执行根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述框架（6）进一步包括高频发生器（24），将所述高频发生器（24）连接到控制单元，所述控制单元被布置为：在启动所述制冷设备/单元时，所述高频发生器在预先设定的时间段中被激活，并且随后被关闭。
15.一种用于执行根据权利要求1所述的方法的制冷设备/单元（4），其特征在于，所述制冷设备/单元（4）在冷凝器区域附近包括根据权利要求8-14中的任何一项所述的、用于对抗细菌培养物和微生物等在冷凝器表面（28）上形成和传播的装置（2）。
16.一种具有制冷设备/单元（4）的冷却容器，其特征在于，所述制冷设备/单元（4）在冷凝器区域附近包括根据权利要求15所述用于对抗细菌培养物和微生物等在冷凝器表面（28）上形成和传播的装置（2）。
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