CN103088408A - 改进的石墨坩埚 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了改进的石墨坩埚,包括坩埚本体,其特征在于:所述坩埚本体的侧表面设有凹槽,所述坩埚本体的底部设有一层保温层,所述坩埚本体的底部设有排气孔。本发明的优点是:结构合理、传热效率高、加热迅速、使用寿命久。

Description

改进的石墨坩埚
技术领域
     本发明涉及改进的石墨坩埚。
背景技术
     生长硅单晶的装置一般是采用保持原料硅熔体的石英坩埚,其中该坩埚被石墨坩埚包围,该石墨坩埚用来支撑石英坩埚并实现对石英坩埚进行均匀加热,但是现有的石墨坩埚由于结构简单,存在着传热效率低,加热缓慢,加热时间长,能耗消耗大,浪费资源等缺点,不能满足使用者的使用需求。因此,应该提供一种新的技术方案解决上述问题。
发明内容
本发明的目的是:针对上述不足,提供一种结构合理、传热效率高、加热迅速的改进的石墨坩埚。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案是:改进的石墨坩埚,包括坩埚本体,所述坩埚本体的侧表面设有凹槽,所述坩埚本体的底部设有一层保温层,所述坩埚本体的底部设有排气孔。
所述凹槽间隔均匀设置于坩埚本体的侧表面。
所述排气孔至少为1个。
所述排气孔为2个。
  本发明改进的石墨坩埚,坩埚本体的侧表面设有凹槽,设置凹槽是通过增加石墨坩埚外表面积来提高传热面积,可使石墨坩埚的外表面积增加一倍,达到加大传热量,快速加热的目的。坩埚本体的底部设有一层保温层,它对坩埚本体的侧面和底部均起到保温作用,使坩埚内部的材料温度达到一致,从而提高坩埚内材料产品的品质。坩埚本体的底部设有排气孔,其可以排出坩埚内部产生的有害气体,避免其发生变形,延长其使用寿命。
   本发明的优点是:结构合理、传热效率高、加热迅速、使用寿命久。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细叙述。
图1为本发明结构示意图。
其中:1、坩埚本体,2、凹槽,3、保温层,4、排气孔。
具体实施方式
 如图1所示,本发明改进的石墨坩埚,包括坩埚本体1,坩埚本体1的侧表面设有凹槽2,坩埚本体1的底部设有一层保温层3,坩埚本体1的底部2个设有排气孔4,凹槽2间隔均匀设置于坩埚本体1的侧表面。
  本发明改进的石墨坩埚,坩埚本体1的侧表面设有凹槽2,设置凹槽2是通过增加石墨坩埚外表面积来提高传热面积,可使石墨坩埚的外表面积增加一倍,达到加大传热量,快速加热的目的。坩埚本体的底部设有一层保温层3,它对坩埚本体1的侧面和底部均起到保温作用,使坩埚内部的材料温度达到一致,从而提高坩埚内材料产品的品质。坩埚本体1的底部设有排气孔4,其可以排出坩埚内部产生的有害气体,避免其发生变形,延长其使用寿命。

Claims (4)

1.改进的石墨坩埚,包括坩埚本体,其特征在于:所述坩埚本体的侧表面设有凹槽,所述坩埚本体的底部设有一层保温层,所述坩埚本体的底部设有排气孔。
2.根据权利要求1所述的改进的石墨坩埚,其特征是:所述凹槽间隔均匀设置于坩埚本体的侧表面。
3.根据权利要求1所述的改进的石墨坩埚,其特征是:所述排气孔至少为1个。
4.根据权利要求1所述的改进的石墨坩埚,其特征是:所述排气孔为2个。
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Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20130508