CN202390582U - 改进的石墨坩埚 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了改进的石墨坩埚，包括坩埚本体，其特征在于：所述坩埚本体的侧表面设有凹槽，所述坩埚本体的底部设有一层保温层，所述坩埚本体的底部设有排气孔。本实用新型的优点是：结构合理、传热效率高、加热迅速、使用寿命久。
Description
改进的石墨坩埚
技术领域
[0001] 本实用新型涉及改进的石墨坩埚。
背景技术
[0002] 生长硅单晶的装置一般是采用保持原料硅熔体的石英坩埚，其中该坩埚被石墨坩 埚包围，该石墨坩埚用来支撑石英坩埚并实现对石英坩埚进行均匀加热，但是现有的石墨坩埚由于结构简单，存在着传热效率低，加热缓慢，加热时间长，能耗消耗大，浪费资源等缺点，不能满足使用者的使用需求。因此，应该提供一种新的技术方案解决上述问题。
实用新型内容
[0003] 本实用新型的目的是：针对上述不足，提供一种结构合理、传热效率高、加热迅速的改进的石墨坩埚。
[0004] 为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：改进的石墨坩埚，包括坩埚本体，所述坩埚本体的侧表面设有凹槽，所述坩埚本体的底部设有ー层保温层，所述坩埚本体的底部设有排气孔。
[0005] 所述凹槽间隔均匀设置于坩埚本体的侧表面。
[0006] 所述排气孔至少为I个。
[0007] 所述排气孔为2个。
[0008] 本实用新型改进的石墨坩埚，坩埚本体的侧表面设有凹槽，设置凹槽是通过增加石墨坩埚外表面积来提高传热面积，可使石墨坩埚的外表面积增加一倍，达到加大传热量，快速加热的目的。坩埚本体的底部设有ー层保温层，它对坩埚本体的侧面和底部均起到保温作用，使坩埚内部的材料温度达到一致，从而提高坩埚内材料产品的品质。坩埚本体的底部设有排气孔，其可以排出坩埚内部产生的有害气体，避免其发生变形，延长其使用寿命。
[0009] 本实用新型的优点是：结构合理、传热效率高、加热迅速、使用寿命久。
附图说明
[0010] 下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进ー步详细叙述。
[0011] 图I为本实用新型结构示意图。
[0012] 其中：1、坩埚本体，2、凹槽，3、保温层，4、排气孔。
具体实施方式
[0013] 如图I所示，本实用新型改进的石墨坩埚，包括坩埚本体1，坩埚本体I的侧表面设有凹槽2，坩埚本体I的底部设有ー层保温层3，坩埚本体I的底部2个设有排气孔4，凹槽2间隔均匀设置于坩埚本体I的侧表面。
[0014] 本实用新型改进的石墨坩埚，坩埚本体I的侧表面设有凹槽2，设置凹槽2是通过増加石墨坩埚外表面积来提高传热面积，可使石墨坩埚的外表面积增加一倍，达到加大传热量，快速加热的目的。坩埚本体的底部设有ー层保温层3，它对坩埚本体I的侧面和底部均起到保温作用，使坩埚内部的材料温度达到一致，从而提高坩埚内材料产品的品质。坩埚 本体I的底部设有排气孔4，其可以排出坩埚内部产生的有害气体，避免其发生变形，延长其使用寿命。
Claims (4)
1.改进的石墨坩埚，包括坩埚本体，其特征在于：所述坩埚本体的侧表面设有凹槽，所述坩埚本体的底部设有ー层保温层，所述坩埚本体的底部设有排气孔。
2.根据权利要求I所述的改进的石墨坩埚，其特征是：所述凹槽间隔均匀设置于坩埚本体的侧表面。
3.根据权利要求I所述的改进的石墨坩埚，其特征是：所述排气孔至少为I个。
4.根据权利要求I所述的改进的石墨坩埚，其特征是：所述排气孔为2个。
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