CN103075886B - 牙科炉 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种用于牙齿修复件的牙科炉（10），包括：烘烧室，可向所述烘烧室中、明确地说是在炉底部分（14）与炉上部（12）之间引入牙齿修复件，明确地说是在隔焰炉内；以及传感器，与用于牙科炉（10）的控制装置（52）连接，其特征在于，传感器、明确地说是温度传感器（22）布置在烘烧室外部且包括同样在烘烧室外部延伸的检测范围（40）。

Description

牙科炉
技术领域
本发明涉及一种根据权利要求1的导言的用于牙齿修复件的牙科炉。
背景技术
很久以前人们就知道具有温度控制装置的牙科炉。
因此，例如在DE1160777中已提供牙科炉以维持隔焰炉（muffle）内温度不变。这种隔焰炉用于在炉中烧制牙齿修复零件，隔焰炉包括将得到的牙齿修复零件的凹模。在所说明的解决方案中，在实际烘烧室下方提供预热室，且通过直流变压器控制或驱动局部烘烧室加热的热力。可视作PID控制器前身的所谓斩波控制器控制热力。
如果必须为牙齿修复零件提供短循环时间且从人机工程学角度上优化工作流程，所提及的专利说明书中描述的解决方案就会相当复杂或繁琐。另一方面，这种情况是归因于以下事实：在烘烧室集成预热区使得冷的隔焰炉通常必须仅在预热区进行加热，之后隔焰炉才能借助于插入到压力室中来经受燃烧循环。
然而，在此解决方案中，炉头置于固定炉柱上且保持静止，而敏感的牙齿修复零件必须移动，这一点极为不利。此解决方案的确相当廉价，但其无法满足较高品质标准，除非达成极长循环时间，在所述循环时间内，牙科炉完全冷却直到燃烧循环结束。
然而，在现代牙科炉的情况下，同样在浇铸或压制多单元牙桥时也必须实现较短循环时间。尤其是，压力炉实现在短循环时间内产生高品质的牙齿修复零件，在压力炉中，压制印模（pressstamp）或柱塞将生坯压入隔焰炉的炉道中且一旦压制件或毛坯（亦称为生坯）液化，便可在凹模中产生牙齿修复零件。
几十年来，基本上无变化地使用牙科技术中的燃烧炉和压力炉的温度控制技术。将提及结合温度控制器使用热电偶元件的另一实例DE2656316。
DE10136584A1同样说明包括隔焰炉的牙科炉，在此情况下特殊的特征为温度传感器准穿透隔焰炉且将检测隔焰炉的温度的事实。然而，为此需要一种特殊形式的隔焰炉，其与市售的隔焰炉不兼容。此外，当在隔焰炉内实现特定凹槽时，需注意以下事实：用于牙齿修复零件的空腔不可与所述凹槽过于接近，这是因为在压制印模或柱塞之对应高压制力下，由于接近位置处之弱化，隔焰炉可在此位置处形成裂痕。
因此，采用根据DE102005015435A1的解决方案可更好地达成精确温度控制，在DE102005015435A1中，与隔焰炉基本上间隔开的温度传感器可（例如）根据高温计的类型测量隔焰炉的温度。在与面向加热元件的表面明显间隔开的位置处进行温度测量，使得可检测到真实隔焰炉温度。
另一方面，本发明仍基于生产根据技术方案1的导言的用于牙齿修复件的牙科炉的目标，所述炉在所述炉的处置和循环时间方面进一步得到改进。
此目标是借助于技术方案1来发明性地实现。有利的其它发展自附属权利要求呈现。
发明内容
根据本发明，除了导向牙齿修复零件的温度传感器或其替代传感器之外，同样提供布置于烘烧室外部且检测接近牙科炉的物体的温度的温度传感器是极为有利的。为此，温度传感器包括给定检测范围，即，对比室温高的温度作出回应且用信号通知具有高温的物体位于此处的范围。
在例如热的牙齿修复零件或已在预热炉中预热过的隔焰炉的热物体接近时，可发明性地使用此简单的令人吃惊的方法打开牙科炉，打开准许插入牙齿修复零件或隔焰炉。
牙科炉优选地包括可适应牙科炉的加热的炉罩以及布置成静止的炉底部分。炉罩通过自身已知的炉枢转布置与炉底部分连接。
在热物体接近时，此时通过电动机快速提起炉罩，使得牙科技师或牙科医生可视情况立即将例如预热后的隔焰炉的物体安置或放置到烘烧室底面上。
尽管具有可移动炉罩的布置为优选的，但应了解，保持炉罩静止且使烘烧室底面降低而不作其它改变的替代布置也是可能的。也可以想到提供烘烧室的门的自动打开，可接着通过打开插入隔焰炉，然而，其中在最后提及的实施例中，关于炉之处置情况明显较差。
根据本发明，温度传感器或探针的检测范围在与牙科炉相距显著距离处就已经开始是极为有利的。优选地，对检测范围进行定向，使得其在炉罩前方倾斜地横向延伸。在热的隔焰炉流畅或平稳地移动以接近的情况下，则保留足够时间直至借助于发动机致动来打开炉罩。举例来说，打开可在一秒内发生，且牙科技师将热的隔焰炉倾斜地向炉罩移动（例如）80cm时，所需的时间仅为一秒。
当牙科技师可能以目标方式将热的隔焰炉移入所述检测范围中以便打开牙科炉时，当在垂直以及水平方向两者上考虑时，检测范围可容易地为极窄的。
应理解，可替代地实现遍及90度或90度以上二面角的检测范围；在邻近布置牙科炉的情况下，应理解，有利地将检测范围的扩展区域减小至明显较小（例如，减小至50度），以防无意间用热的隔焰炉同时触发若干牙科炉。
在发明性上特别优选的布置中，用于温度辐射的反射器布置于炉罩处，所述反射器相对于温度传感器的光轴以倾斜角延伸。
反射器可易于由一些种类的金属带材形成，牙科技师可将金属带材略微弯曲成所要形状，以便调整检测范围以满足其个人需求。应了解，选择反射器使得其极其良好地反射红外线辐射，即，在约800nm之波长区域内的辐射。
替代地，也可容易地将温度传感器附接到牙科燃烧炉的不同位置处。举例来说，温度传感器可附接到炉罩外部且可包括横向延伸以远离炉罩的探测范围。或者，温度传感器可附接到炉底部分，且如果相对于牙科炉的垂直轴线来考虑探测范围，那么探测范围实质上分别纵向向上或倾斜向外/向上延伸。
反射器之布置主要具有如下优点：本质上较好地保护了温度传感器，尤其在（例如）热成分溅出的情况下也是如此，这是因为热成分接着仅撞击由金属带材或金属板形成的反射器。
此外，此解决方案也实现温度传感器的多功能使用。如果以固定方式支撑温度传感器（即，其与炉底部分固定连接）且使其导向炉内部，那么其在炉罩关闭的情况下可用作接近传感器，这是因为由反射器反射之热辐射接着照射到温度感测器上。
然而，如果打开了炉罩，那么温度传感器的检测范围导向炉内部，例如，导向位于炉中的隔焰炉或牙齿修复零件，使得接着可容易地检测到隔焰炉或牙齿修复零件的温度。
市售的红外线传感器可用作温度传感器，其检测热的隔焰炉（即，温度超过例如500℃的隔焰炉）的接近。或者，也有可能使用热成像摄影机或在红外线范围中敏感的任何其它摄影机。还有可能使用对在大约300℃与大约850℃之间的隔焰炉温度做出回应的红外线敏感二极管的阵列。
如果选择温度检测元件通过固定到炉罩的反射器检测在检测范围中的温度的配置，那么在已打开炉罩的情况下保护温度检测元件免受烘烧室余热是重要的。此目标可借助于以下手段来实现：选择温度检测元件与炉罩的各别合适距离，或挡板，其以热绝缘方式起作用且仅包括相当小的开口，挡板在红外线传感器前方与其略微间隔开，以检测范围的角度延伸且阻挡由已打开炉罩在朝向温度传感器之方向上发射的炉辐射。
根据本发明，极为有利的是，在本发明的辅助下，当将要打开牙科炉时，可首次且实际上准确地接着以目标方式实现无接触操作。
在修改的实施例中，传感器形成为接近传感器，其准许在隔焰炉接近时将炉打开。在此配置的情况下，至少一个其它区别性特征（例如，条形码、用户的虹膜或其它类似特征）使得能够与无意接近物体进行识别及区分为极其优选的。
在一项有利布置中，情形是：控制装置在基于温度传感器的输出信号打开牙科炉之前验证烘烧室是否包括用于容纳物体（尤其容纳隔焰炉）的足够温度。
在另一有利实施例中，情形是：将牙科炉形成为用于牙齿修复零件之隔焰炉压力炉，且烘烧室适用于容纳隔焰炉且将在检测范围中检测的物体是隔焰炉压力炉的隔焰炉。
在另一有利实施例中，情形是：如果隔焰炉或牙齿修复零件，明确地说是在载体上的隔焰炉或牙齿修复零件，到达温度传感器的检测范围，那么控制装置执行特定控制功能。
在另一有利实施例中，情形是：控制功能包括与开始牙科炉的燃烧操作相关的功能，例如，接通牙科炉，而明确地说是打开牙科炉。
在另一有利实施例中，情形是：如果将温度传感器的检测范围视为从温度传感器开始，那么检测范围在横向于温度传感器的方向上展开，且检测范围倾斜于牙科炉的侧表面而延伸。
在另一有利实施例中，情形是：温度传感器的检测范围沿着炉上部延伸，明确地说，温度传感器的检测范围实质上水平延伸或倾斜向上延伸或倾斜向下延伸，且覆盖到炉上部的侧面的范围。
在另一有利实施例中，情形是：温度传感器附接到炉底部分，且传感器的检测范围围绕传感器的光轴延伸，明确地说是向上延伸。
在另一有利实施例中，情形是：温度传感器的从炉底部分开始的检测范围沿着炉上部向上或倾斜向上延伸。
在另一有利实施例中，情形是：温度传感器之光轴面朝炉，且温度传感器的光轴撞击反射器，所述反射器以合适方式形成，用于反射照射到温度传感器上的热辐射。
在另一有利实施例中，情形是：温度传感器的光轴与炉上部中之烘烧室的垂直轴线相交，或以与连接垂直轴线和温度传感器之直线偏离至多15℃的角度延伸。
在另一有利实施例中，情形是：温度传感器具有一个光谱敏感度，它的焦点处于红外线波长范围中且对位于检测范围内且具有高温的物体作出回应，高温即显著高于室温的温度，明确地说超过100℃，且明确地说优选地超过300℃。
在另一有利实施例中，情形是：温度传感器是根据热成像摄影机的类型形成，在位于检测范围内的所述物体呈现高温的情况下，所述热成像摄影机检测所述物体的图像信息。
在另一有利实施例中，情形是：当温度传感器检测到在检测范围中存在具有高温的物体时，控制装置打开牙科炉。
在另一有利实施例中，情形是：温度传感器包括再分为两个子检测范围的检测范围，且当温度传感器在距离炉较远的第一子检测范围中首先检测到物体且随后在距离炉较近的检测范围中检测到所述物体，即，温度传感器检测到物体向炉有一定的接近时，控制装置打开牙科炉。
在另一有利实施例中，情形是：温度传感器体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且温度传感器布置于距离烘烧室至少十厘米处。
在另一有利实施例中，传感器布置于烘烧室外部且包括同样在烘烧室外部延伸的检测范围，且传感器进一步形成为接近传感器，且明确地说，至少一个其它传感器检测并辨识正在接近的物体和/或牙科炉的用户。
附图说明
自结合图式的示范性实施例的以下描述呈现其它优点、细节和特征，其中：
图1所示为一个示范性实施例中的发明性牙科炉的示意图；以及
图2所示为根据本发明的牙科炉的另一实施例的侧视图。
具体实施方式
图1中所示的牙科炉10包括炉罩12作为炉上部，以及炉底部分14。牙科炉经配置为隔焰炉压力炉，且环形炉罩12以自身已知的方式在内部形成烘烧室，烘烧室之直径同样足以容纳类似环形且实质上圆柱形的隔焰炉。
炉底部分包括支撑触敏式显示器18的倾斜平面16，可通过触敏式显示器18致动发明性牙科炉10。
通过提升/枢转装置以炉罩12自身已知的方式将炉罩12支撑于炉底部分14上，使得可将炉罩12提离炉底部分且借助于留出间隙而回转打开。同样以自身已知的方式，炉可借助于在炉罩关闭时接通炉罩中的加热元件且借助于在加热隔焰炉时将压制印模或柱塞插入到隔焰炉中来执行燃烧操作。所述压制印模或柱塞将隔焰炉中的牙齿修复材料压入准备好的模具空腔中。
根据本发明，情形是：温度传感器22以支撑方式附接到炉底部分，所述传感器导向牙科炉的垂直轴线24。直接将温度传感器22之支撑实行于炉底部分14的上侧26上，即，在炉罩12的下端处。
另外，反射器30附接到炉罩14的外部周边，与温度传感器22邻接。
反射器30形成为金属带材（例如，由铝箔形成），或形成为一些其它金属板且适合于反射热辐射。反射器以微小角度（例如，以45°）延伸从而远离炉罩。应了解，准确定向可适应于广泛范围内的要求。
在反射器之倾斜角为45°的情况下，检测范围40相对于温度传感器22的光轴42以90°的角度延伸。应了解，检测范围40以自身已知的方式成圆锥形地加宽或展开。优选地，提供在距离较远的情况下也可实现对温度的极敏感检测的强度相当大的检测束。也可根据凹透镜的类型形成反射器30，从而改进检测束。
在所说明的示范性实施例中，示意性地说明隔焰炉50处于特定位置处，此时由隔焰炉发射的热辐射在温度检测器22的检测范围40内。
隔焰炉已于之前在预热炉中加热至700℃且其外部仍具有大约500℃的温度。由隔焰炉发射的热辐射此时在检测范围40中通过反射器30照射到温度传感器22上。温度传感器22电连接到控制装置52，控制装置52优选地收纳于炉底部分14内。在热的隔焰炉50接近的情况下，控制装置触发用于提升/枢转装置20的开启信号，借助于所述信号启动的提升/枢转装置20将炉罩12提起且使得隔焰炉50能够放置于炉底部分上处于光轴42下方，且事实上所述动作一次完成，即，隔焰炉50向牙科炉移动时不需要减速。
应了解，可以任何合适方式形成温度传感器22与控制装置52之间的连接。事实上，温度传感器22固定地安装于基座上，优选地附接到牙科炉，但以任何合适方式（例如，借助于无线电、蓝牙或通过红外线连接或以自身已知的方式通过电线）电连接到控制装置。
应了解，可以任何合适方式实行检测范围的定向。必要时，例如，也可按照标准以及用于温度传感器22之若干可能附接位置将若干反射器30附接到炉罩12。牙科技师（例如，甚至也包括左撇子）可接着以任何合适方式安装温度传感器22，且可在隔焰炉50接近牙科炉10时自动开始打开炉罩。
图2图示为牙科炉的修改实施例。相同元件符号指示相同或对应组件。
与根据图1的实施例相对比，温度传感器22的检测范围40实质上垂直对准。温度传感器22的从炉底部分14开始的光轴42（例如）在炉罩12侧前方以倾斜角垂直向上延伸。
应了解，在此情况下，必要时也可提供温度传感器22的若干附接可能性，从而使得能够根据牙科技师的选项修改检测范围。同样在此情况下，可借助于如下事实来实行温度感测器22的触发：隔焰炉50至少部分进入检测范围40，且由隔焰炉50发射的热辐射通过炉底部分中的控制装置52将炉罩12提起。

Claims (80)

1.一种用于牙齿修复件的牙科炉，包括炉底部分和炉上部，所述牙科炉进一步包括烘烧室，所述牙齿修复件、明确地说是在隔焰炉内的，可引入到所述烘烧室中；以及传感器，其与用于所述牙科炉的控制装置连接，其特征在于，所述传感器、明确地说是温度传感器(22)布置于所述烘烧室外部且包括同样在所述烘烧室外部延伸的检测范围(40)，所述温度传感器检测物体向所述炉有一定的接近。
2.根据权利要求1所述的牙科炉，其特征在于，所述牙科炉(10)形成为用于牙齿修复零件之隔焰炉压力炉，且所述烘烧室适用于容纳隔焰炉(50)，且将在所述检测范围(40)内检测的物体为所述隔焰炉压力炉的隔焰炉。
3.根据权利要求2所述的牙科炉，其特征在于，隔焰炉(50)或牙齿修复零件、明确地说是在载体上的，到达所述温度传感器(22)的所述检测范围(40)，所述控制装置(52)执行特定控制功能。
4.根据权利要求3所述的牙科炉，其特征在于，所述控制功能包括与开始所述牙科炉的燃烧操作相关的功能，例如，接通所述牙科炉，而明确地说是打开所述牙科炉(10)。
5.根据前述权利要求中任一权利要求所述的牙科炉，其特征在于，如果将所述温度传感器(22)的所述检测范围(40)视为从所述温度传感器开始，那么所述检测范围(40)将在横向于所述温度传感器的方向上展开，且所述检测范围(40)倾斜于所述牙科炉(10)的侧表面而延伸。
6.根据前述权利要求1-4中任一权利要求所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述检测范围(40)沿着所述炉上部(12)延伸，明确地说，所述温度传感器(22)的所述检测范围(40)实质上水平延伸或倾斜向上延伸或倾斜向下延伸，且覆盖到所述炉上部(12)的侧面的区域。
7.根据前述权利要求5所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述检测范围(40)沿着所述炉上部(12)延伸，明确地说，所述温度传感器(22)的所述检测范围(40)实质上水平延伸或倾斜向上延伸或倾斜向下延伸，且覆盖到所述炉上部(12)的侧面的区域。
8.根据前述权利要求1-4中任一权利要求所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)附接到所述炉底部分(14)，且所述传感器的所述检测范围(40)围绕所述传感器的光轴(42)延伸，明确地说是向上延伸。
9.根据前述权利要求5所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)附接到所述炉底部分(14)，且所述传感器的所述检测范围(40)围绕所述传感器的光轴(42)延伸，明确地说是向上延伸。
10.根据前述权利要求6所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)附接到所述炉底部分(14)，且所述传感器的所述检测范围(40)围绕所述传感器的光轴(42)延伸，明确地说是向上延伸。
11.根据前述权利要求7所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的从所述炉底部分(14)开始的所述检测范围(40)沿着所述炉上部(12)向上或倾斜向上延伸。
12.根据前述权利要求1-4中任一权利要求所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的从所述炉底部分(14)开始的所述检测范围(40)沿着所述炉上部(12)向上或倾斜向上延伸。
13.根据前述权利要求5所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的从所述炉底部分(14)开始的所述检测范围(40)沿着所述炉上部(12)向上或倾斜向上延伸。
14.根据前述权利要求6所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的从所述炉底部分(14)开始的所述检测范围(40)沿着所述炉上部(12)向上或倾斜向上延伸。
15.根据前述权利要求7所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的从所述炉底部分(14)开始的所述检测范围(40)沿着所述炉上部(12)向上或倾斜向上延伸。
16.根据前述权利要求8所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的从所述炉底部分(14)开始的所述检测范围(40)沿着所述炉上部(12)向上或倾斜向上延伸。
17.根据前述权利要求9所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的从所述炉底部分(14)开始的所述检测范围(40)沿着所述炉上部(12)向上或倾斜向上延伸。
18.根据前述权利要求10所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的从所述炉底部分(14)开始的所述检测范围(40)沿着所述炉上部(12)向上或倾斜向上延伸。
19.根据前述权利要求1-4中任一权利要求所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)之光轴(42)面朝所述炉，且所述温度传感器的所述光轴撞击反射器(30)，所述反射器(30)以合适方式形成，用于反射照射于所述温度传感器(22)上的热辐射。
20.根据前述权利要求5所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)之光轴(42)面朝所述炉，且所述温度传感器的所述光轴撞击反射器(30)，所述反射器(30)以合适方式形成，用于反射照射于所述温度传感器(22)上的热辐射。
21.根据前述权利要求6所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)之光轴(42)面朝所述炉，且所述温度传感器的所述光轴撞击反射器(30)，所述反射器(30)以合适方式形成，用于反射照射于所述温度传感器(22)上的热辐射。
22.根据前述权利要求7所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)之光轴(42)面朝所述炉，且所述温度传感器的所述光轴撞击反射器(30)，所述反射器(30)以合适方式形成，用于反射照射于所述温度传感器(22)上的热辐射。
23.根据前述权利要求8所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)之光轴(42)面朝所述炉，且所述温度传感器的所述光轴撞击反射器(30)，所述反射器(30)以合适方式形成，用于反射照射于所述温度传感器(22)上的热辐射。
24.根据前述权利要求9所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)之光轴(42)面朝所述炉，且所述温度传感器的所述光轴撞击反射器(30)，所述反射器(30)以合适方式形成，用于反射照射于所述温度传感器(22)上的热辐射。
25.根据前述权利要求10所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)之光轴(42)面朝所述炉，且所述温度传感器的所述光轴撞击反射器(30)，所述反射器(30)以合适方式形成，用于反射照射于所述温度传感器(22)上的热辐射。
26.根据前述权利要求11所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)之光轴(42)面朝所述炉，且所述温度传感器的所述光轴撞击反射器(30)，所述反射器(30)以合适方式形成，用于反射照射于所述温度传感器(22)上的热辐射。
27.根据前述权利要求12所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)之光轴(42)面朝所述炉，且所述温度传感器的所述光轴撞击反射器(30)，所述反射器(30)以合适方式形成，用于反射照射于所述温度传感器(22)上的热辐射。
28.根据前述权利要求13所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)之光轴(42)面朝所述炉，且所述温度传感器的所述光轴撞击反射器(30)，所述反射器(30)以合适方式形成，用于反射照射于所述温度传感器(22)上的热辐射。
29.根据前述权利要求14所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)之光轴(42)面朝所述炉，且所述温度传感器的所述光轴撞击反射器(30)，所述反射器(30)以合适方式形成，用于反射照射于所述温度传感器(22)上的热辐射。
30.根据前述权利要求15所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)之光轴(42)面朝所述炉，且所述温度传感器的所述光轴撞击反射器(30)，所述反射器(30)以合适方式形成，用于反射照射于所述温度传感器(22)上的热辐射。
31.根据前述权利要求16所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)之光轴(42)面朝所述炉，且所述温度传感器的所述光轴撞击反射器(30)，所述反射器(30)以合适方式形成，用于反射照射于所述温度传感器(22)上的热辐射。
32.根据前述权利要求17所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)之光轴(42)面朝所述炉，且所述温度传感器的所述光轴撞击反射器(30)，所述反射器(30)以合适方式形成，用于反射照射于所述温度传感器(22)上的热辐射。
33.根据前述权利要求18所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)之光轴(42)面朝所述炉，且所述温度传感器的所述光轴撞击反射器(30)，所述反射器(30)以合适方式形成，用于反射照射于所述温度传感器(22)上的热辐射。
34.根据前述权利要求21所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)之光轴(42)面朝所述炉，且所述温度传感器的所述光轴撞击反射器(30)，所述反射器(30)以合适方式形成，用于反射照射于所述温度传感器(22)上的热辐射。
35.根据前述权利要求8所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
36.根据前述权利要求9所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
37.根据前述权利要求10所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
38.根据前述权利要求10所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
39.根据前述权利要求11所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
40.根据前述权利要求12所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
41.根据前述权利要求13所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
42.根据前述权利要求14所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
43.根据前述权利要求15所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
44.根据前述权利要求16所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
45.根据前述权利要求17所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
46.根据前述权利要求18所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
47.根据前述权利要求20所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
48.根据前述权利要求21所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
49.根据前述权利要求22所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
50.根据前述权利要求23所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
51.根据前述权利要求24所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)的所述光轴(42)与所述炉上部(12)中的所述烘烧室的垂直轴线(24)相交，或以与连接所述垂直轴线(24)和所述温度传感器(22)之直线偏离至多15℃的角度延伸。
52.根据前述权利要求1-4中任一权利要求所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)具有一个光谱敏感度，它的焦点处于红外线波长范围中并且对位于所述检测范围(40)内且具有高温的物体作出回应，所述高温即显著高于室温的温度，明确地说超过100℃，且明确地说优选超过300℃。
53.根据前述权利要求1-4中任一权利要求所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)具有一个光谱敏感度，它的焦点处于红外线波长范围中并且对位于所述检测范围(40)内且具有高温的物体作出回应，所述高温即显著高于室温的温度，明确地说超过100℃，且明确地说优选超过300℃。
54.根据前述权利要求7所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)是根据热成像摄影机的类型形成，在位于所述检测范围(40)内的所述物体呈现高温的情况下，所述热成像摄影机检测所述物体的图像信息。
55.根据前述权利要求1-4中任一权利要求所述的牙科炉，其特征在于，当所述温度传感器(22)检测到在所述检测范围(40)内存在具有高温的物体时，所述控制装置(52)打开所述牙科炉。
56.根据前述权利要求7所述的牙科炉，其特征在于，当所述温度传感器(22)检测到在所述检测范围(40)内存在具有高温的物体时，所述控制装置(52)打开所述牙科炉。
57.根据前述权利要求56所述的牙科炉，其特征在于，当所述温度传感器(22)检测到在所述检测范围(40)内存在具有高温的物体时，所述控制装置(52)打开所述牙科炉。
58.根据前述权利要求1-4中任一权利要求所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且所述温度传感器布置于距离所述烘烧室至少十厘米处。
59.根据前述权利要求7所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且所述温度传感器布置于距离所述烘烧室至少十厘米处。
60.根据前述权利要求58所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且所述温度传感器布置于距离所述烘烧室至少十厘米处。
61.根据前述权利要求59所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且所述温度传感器布置于距离所述烘烧室至少十厘米处。
62.根据前述权利要求9所述的牙科炉，其特征在于，当所述温度传感器(22)检测到在所述检测范围(40)内存在具有高温的物体时，所述控制装置(52)打开所述牙科炉。
63.根据前述权利要求10所述的牙科炉，其特征在于，当所述温度传感器(22)检测到在所述检测范围(40)内存在具有高温的物体时，所述控制装置(52)打开所述牙科炉。
64.根据前述权利要求13所述的牙科炉，其特征在于，当所述温度传感器(22)检测到在所述检测范围(40)内存在具有高温的物体时，所述控制装置(52)打开所述牙科炉。
65.根据前述权利要求18所述的牙科炉，其特征在于，当所述温度传感器(22)检测到在所述检测范围(40)内存在具有高温的物体时，所述控制装置(52)打开所述牙科炉。
66.根据前述权利要求20所述的牙科炉，其特征在于，当所述温度传感器(22)检测到在所述检测范围(40)内存在具有高温的物体时，所述控制装置(52)打开所述牙科炉。
67.根据前述权利要求52所述的牙科炉，其特征在于，当所述温度传感器(22)检测到在所述检测范围(40)内存在具有高温的物体时，所述控制装置(52)打开所述牙科炉。
68.根据前述权利要求9所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且所述温度传感器布置于距离所述烘烧室至少十厘米处。
69.根据前述权利要求10所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且所述温度传感器布置于距离所述烘烧室至少十厘米处。
70.根据前述权利要求13所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且所述温度传感器布置于距离所述烘烧室至少十厘米处。
71.根据前述权利要求18所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且所述温度传感器布置于距离所述烘烧室至少十厘米处。
72.根据前述权利要求20所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且所述温度传感器布置于距离所述烘烧室至少十厘米处。
73.根据前述权利要求52所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且所述温度传感器布置于距离所述烘烧室至少十厘米处。
74.根据前述权利要求9所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且所述温度传感器布置于距离所述烘烧室至少十厘米处。
75.根据前述权利要求10所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且所述温度传感器布置于距离所述烘烧室至少十厘米处。
76.根据前述权利要求13所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且所述温度传感器布置于距离所述烘烧室至少十厘米处。
77.根据前述权利要求18所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且所述温度传感器布置于距离所述烘烧室至少十厘米处。
78.根据前述权利要求20所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且所述温度传感器布置于距离所述烘烧室至少十厘米处。
79.根据前述权利要求52所述的牙科炉，其特征在于，所述温度传感器(22)体现为红外线敏感二极管的一维或二维场，且所述温度传感器布置于距离所述烘烧室至少十厘米处。
80.一种用于牙齿修复件的牙科炉，其包括炉底部分和炉上部；烘烧室，所述牙齿修复件可引入到所述烘烧室中；以及传感器，其连接到用于所述牙科炉的控制装置，其特征在于，所述传感器布置于所述烘烧室外部且包括同样在所述烘烧室外部延伸的检测范围(40)，且特征在于，所述传感器形成为接近传感器且明确地说，至少一个其它传感器检测并辨识正在接近的物体和/或所述牙科炉(10)的用户。
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