CN103071641A - 一种光学晶体的清洗方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种光学晶体的清洗方法，包括步骤：选取洁净的容器，按照重量百分比计，放入丙二醇正丁醚5%-10%、丙二醇甲醚5%-10%、乙醇10%-20%、异丙醇20%-30%、水40%-50%，充分混匀；将待清洗的光学晶体放入上述容器内清洗2~3分钟；将光学晶体取出，用水清洗1~2分钟；反复以上步骤操作3~5次；将光学晶体烘干。本发明的优点在于，能够有效去除，沥青，松香，石蜡等凝胶物，氢氟酸、石蜡、沥青、松香等各种附着物，清洗速度快，效率较高；同时本发明的清洗液低毒，对人体伤害小，使用方便，清除污迹快捷，清洗洁净度高。

Description

一种光学晶体的清洗方法
技术领域
本发明涉及一种清洗方法，尤其是光学晶体的清洗方法。
背景技术
目前，光学晶体加工清洗剂，是采用玻璃，多种晶体的通用简单的清洗剂，不能满足光学晶体加工需要，不能快速达到清洁度，操作不方面。通常光学晶体的加工面粘附物有无机物，和有机物，无机物比较好去除，附着有机物主要有，沥青，松香，石蜡等凝胶物；氢氟酸对晶体器件有腐蚀；石蜡，不容与水，稀释酒精；沥青，不容与水，稀释酒精；松香，不容与水，冷却后不易粘接，残留物颗粒状。主要溶解去除石蜡和沥青附着物，（松香粉末很容易去），去掉有机附着物，可以很快达到洁净度。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种光学晶体的清洗方法，能够有效迅速去除光学晶体表面的附着物。
本发明是通过以下技术方案来实现的。
一种光学晶体的清洗方法，包括步骤：
（1）选取洁净的容器，按照重量百分比计，放入丙二醇正丁醚5%-10%、丙二醇甲醚5%-10%、乙醇10%-20%、异丙醇20%-30%、水40%-50%，充分混匀；
（2）将待清洗的光学晶体放入上述容器内清洗2~3分钟；
（3）将光学晶体取出，用水清洗1~2分钟；
（4）反复步骤（2）（3）操作3~5次；
（5）将光学晶体烘干。
进一步地，上述步骤（1）中，水为去离子水。
进一步地，上述步骤（1）中，先放入去离子水、丙二醇正丁醚，混匀，添加丙二醇甲醚，混匀后，再添加乙醇，混匀后，最后再添加异丙醇，充分混匀。
进一步地，上述步骤（5）中，将光学晶体在70°C~80°C烘干3~5分钟。
本发明的有益效果：
本发明提供的清洗方法，能够有效去除，沥青，松香，石蜡等凝胶物，氢氟酸、石蜡、沥青、松香等各种附着物，清洗速度快，效率较高；同时本发明的清洗液低毒，对人体伤害小，使用方便，清除污迹快捷，清洗洁净度高。
具体实施方式
下面根据实施例对本发明作进一步详细说明。
实施案例1：
光学晶体的清洗方法，包括步骤：
（1）选取洁净的容器，按照重量百分比计，放入丙二醇正丁醚5%、丙二醇甲醚10%、乙醇20%、异丙醇25%、去离子水40%，充分混匀；
具体是先放入去离子水、丙二醇正丁醚，混匀，添加丙二醇甲醚，混匀后，再添加乙醇，混匀后，最后再添加异丙醇，充分混匀；
（2）将待清洗的光学晶体放入上述容器内清洗2~3分钟；
（3）将光学晶体取出，用水清洗1~2分钟；
（4）反复步骤（2）（3）操作3~5次；
（5）将光学晶体在70°C~80°C烘干3~5分钟。
实施案例2：
光学晶体的清洗方法，包括步骤：
（1）选取洁净的容器，按照重量百分比计，放入丙二醇正丁醚10%、丙二醇甲醚5%、乙醇10%、异丙醇25%、去离子水50%，充分混匀；
具体是先放入去离子水、丙二醇正丁醚，混匀，添加丙二醇甲醚，混匀后，再添加乙醇，混匀后，最后再添加异丙醇，充分混匀；
（2）将待清洗的光学晶体放入上述容器内清洗2~3分钟；
（3）将光学晶体取出，用水清洗1~2分钟；
（4）反复步骤（2）（3）操作3~5次；
（5）将光学晶体在70°C~80°C烘干3~5分钟。
实施案例3：
光学晶体的清洗方法，包括步骤：
（1）选取洁净的容器，按照重量百分比计，放入丙二醇正丁醚5%、丙二醇甲醚5%、乙醇20%、异丙醇30%、去离子水40%，充分混匀；
具体是先放入去离子水、丙二醇正丁醚，混匀，添加丙二醇甲醚，混匀后，再添加乙醇，混匀后，最后再添加异丙醇，充分混匀；
（2）将待清洗的光学晶体放入上述容器内清洗2~3分钟；
（3）将光学晶体取出，用水清洗1~2分钟；
（4）反复步骤（2）（3）操作3~5次；
（5）将光学晶体在70°C~80°C烘干3~5分钟。
实施案例4：
光学晶体的清洗方法，包括步骤：
（1）选取洁净的容器，按照重量百分比计，放入丙二醇正丁醚5%、丙二醇甲醚10%、乙醇15%、异丙醇20%、去离子水50%，充分混匀；
具体是先放入去离子水、丙二醇正丁醚，混匀，添加丙二醇甲醚，混匀后，再添加乙醇，混匀后，最后再添加异丙醇，充分混匀；
（2）将待清洗的光学晶体放入上述容器内清洗2~3分钟；
（3）将光学晶体取出，用水清洗1~2分钟；
（4）反复步骤（2）（3）操作3~5次；
（5）将光学晶体在70°C~80°C烘干3~5分钟。
本发明，光学晶体的清洗方法，能够有效去除，沥青，松香，石蜡等凝胶物，氢氟酸、石蜡、沥青、松香等各种附着物，清洗速度快，效率较高；同时本发明的清洗液低毒，对人体伤害小，使用方便，清除污迹快捷，清洗洁净度高。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此领域技术的人士能够了解本发明内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。

Claims (4)

1.一种光学晶体的清洗方法，其特征在于，包括步骤：
（1）选取洁净的容器，按照重量百分比计，放入丙二醇正丁醚5%-10%、丙二醇甲醚5%-10%、乙醇10%-20%、异丙醇20%-30%、水40%-50%，充分混匀；
（2）将待清洗的光学晶体放入所述容器内清洗2~3分钟；
（3）将光学晶体取出，用水清洗1~2分钟；
（4）反复步骤（2）（3）操作3~5次；
（5）将光学晶体烘干。
2.根据权利要求1所述的光学晶体的清洗方法，其特征在于，所述步骤（1）中，水为去离子水。
3.根据权利要求2所述的光学晶体的清洗方法，其特征在于，所述步骤（1）中，先放入去离子水、丙二醇正丁醚，混匀，添加丙二醇甲醚，混匀后，再添加乙醇，混匀后，最后再添加异丙醇，充分混匀。
4.根据权利要求1所述的光学晶体的清洗方法，其特征在于，所述步骤（5）中，将光学晶体在70°C~80°C烘干3~5分钟。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105802752A (zh) * 2016-04-22 2016-07-27 福建福晶科技股份有限公司 一种去除bbo晶体热胶及其残留物的清洗剂
CN109604245A (zh) * 2018-12-04 2019-04-12 芜湖通潮精密机械股份有限公司 一种有机玻璃表面污染物清洗处理方法
CN112275715A (zh) * 2019-07-24 2021-01-29 国宏华业投资有限公司 一种激光陀螺光学元件的清洗方法

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CN109604245A (zh) * 2018-12-04 2019-04-12 芜湖通潮精密机械股份有限公司 一种有机玻璃表面污染物清洗处理方法
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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
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