CN103045100A - 用于晶体抛光的凝胶 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于晶体抛光的凝胶，以重量百分比计，包括骨胶10%~15%、石蜡15%~25%、水30%~40%、酒精5%~10%、冰糖20%~30%。上述用于晶体抛光的凝胶还包括红油5%~10%。本发明的优点在于，能够将晶体尤其是YVO4晶体粘附在抛光盘上，凝胶在固化过程中应力不会造成晶体平面变形，同时在抛光工序完成后，凝胶容易融解，清洗较易。

Description

用于晶体抛光的凝胶

技术领域

本发明涉及一种凝胶，尤其是用于晶体抛光的凝胶。

背景技术

晶体，尤其是YVO4晶体在进行抛光工艺时，通常需要使用凝胶将YVO4晶体粘附在抛光盘上，然后再进行抛光工序，而目前通常使用的凝胶存在以下问题：粘接牢固存在一定缺陷，而粘接不牢则会导致晶体位置偏移，影响抛光工序，若使用牢固度较高的凝胶，则会发生凝胶在固化过程中应力造成晶体平面变形的情况，并且，在完成抛光后，凝胶不易融解，清洗也成了难题。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种用于晶体抛光的凝胶，能够牢固地将晶体固定，并且不易造成晶体平面变形的情况。

本发明是通过以下技术方案来实现的。

一种用于晶体抛光的凝胶，以重量百分比计，包括骨胶10%~15%、石蜡15%~25%、水30%~40%、酒精5%~10%、冰糖20%~30%。

进一步地，上述用于晶体抛光的凝胶还包括红油5%~10%。

进一步地，上述石蜡为氯化石蜡。

进一步地，上述水为去离子水。

进一步地，上述冰糖为多晶冰糖。

本发明的有益效果：

本发明提供的凝胶，能够将晶体尤其是YVO4晶体粘附在抛光盘上，凝胶在固化过程中应力不会造成晶体平面变形，同时在抛光工序完成后，凝胶容易融解，清洗较易。

具体实施方式

下面根据实施例对本发明作进一步详细说明。

实施案例1：

用于晶体抛光的凝胶，以重量百分比计，包括骨胶10%、氯化石蜡15%、去离子水40%、酒精10%、多晶冰糖20%、红油5%。

实施案例2：

用于晶体抛光的凝胶，以重量百分比计，包括骨胶15%、氯化石蜡20%、去离子水30%、酒精5%、多晶冰糖20%、红油10%。

实施案例3：

用于晶体抛光的凝胶，以重量百分比计，包括骨胶10%、氯化石蜡15%、去离子水30%、酒精10%、多晶冰糖30%、红油5%。

实施案例4：

将YVO4晶体的一面涂上用于晶体抛光的凝胶，然后粘接牢固在抛光盘上，静置10分钟，待凝胶凝固，然后进行抛光，抛光结束后，用水冲洗抛光盘，将YVO4晶体取下，使用清洁液对YVO4晶体进行清洗，再使用水冲洗干净，烘干。

本发明，用于晶体抛光的凝胶，能够将晶体尤其是YVO4晶体粘附在抛光盘上，凝胶在固化过程中应力不会造成晶体平面变形，同时在抛光工序完成后，凝胶容易融解，清洗较易。

上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此领域技术的人士能够了解本发明内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。

Claims (5)

1.一种用于晶体抛光的凝胶，其特征在于，以重量百分比计，包括骨胶10%~15%、石蜡15%~25%、水30%~40%、酒精5%~10%、冰糖20%~30%。

2.根据权利要求1所述的用于晶体抛光的凝胶，其特征在于，所述用于晶体抛光的凝胶还包括红油5%~10%。

3.根据权利要求1或2所述的用于晶体抛光的凝胶，其特征在于，所述石蜡为氯化石蜡。

4.根据权利要求1或2所述的用于晶体抛光的凝胶，其特征在于，所述水为去离子水。

5.根据权利要求1或2所述的用于晶体抛光的凝胶，其特征在于，所述冰糖为多晶冰糖。