CN103011617A - 一种不浸润表面薄膜的化学制备方法 - Google Patents
一种不浸润表面薄膜的化学制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103011617A CN103011617A CN2013100061903A CN201310006190A CN103011617A CN 103011617 A CN103011617 A CN 103011617A CN 2013100061903 A CN2013100061903 A CN 2013100061903A CN 201310006190 A CN201310006190 A CN 201310006190A CN 103011617 A CN103011617 A CN 103011617A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- film
- whirl coating
- chemical preparation
- directly
- preparation process
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
本发明属于不浸润表面薄膜化学制备技术领域,提供了一种不浸润表面薄膜的化学制备方法,该化学制备方法首先在固体表面先制备一层亲油疏水的薄膜,在薄膜表面高速甩胶的同时利用热风直接吹表面,将溶液挥发直接在表面形成一层凝固层再通过退火等工艺成膜,在亲油疏水薄膜表面高速甩胶的同时,还可利用光辐射快速加热、样品台快速加热的方式来快速加热挥发溶剂,在甩胶制膜的过程中引入热风,甩胶过程中直接挥发溶剂,溶质在表面直接成膜,方法简单,对设备的要求低,表面破坏小,实用性强,具有较强的推广与应用价值。
Description
技术领域
本发明属于不浸润表面薄膜的化学制备技术领域,尤其涉及一种不浸润表面薄膜的化学制备方法。
背景技术
运用化学方法制备薄膜,主要是利用溶液在固体表面的浸润性,这样通过匀胶机高速旋转,大部分溶液被甩出去,而在固体表面留下非常薄的一层液体薄膜,这层液体再干燥后煅烧即可形成一层非常薄的薄膜,但是这样的方法无法将表面不浸润的液体通过甩胶的方法制备薄膜。
发明内容
本发明提供了一种不浸润表面薄膜的化学制备方法,旨在解决运用现有化学方法制备薄膜时,无法将表面不浸润的液体通过甩胶的方法制备薄膜的问题。
本发明的目的在于提供一种不浸润表面薄膜的化学制备方法,该化学制备方法首先在固体表面先制备一层亲油疏水的薄膜,在亲油疏水表面高速甩胶的同时利用热风直接吹表面,将溶液挥发直接在表面形成一层凝固层。
进一步,在亲油疏水表面高速甩胶的同时,还可利用光辐射快速加热、样品台快速加热的方式来快速加热挥发溶剂。
进一步,在甩胶制膜的过程中引入热风,甩胶过程中直接挥发溶剂,溶质在亲油疏水表面直接成膜。
本发明提供的不浸润表面薄膜的化学制备方法,该化学制备方法首先在固体表面先制备一层亲油疏水的薄膜,在亲油疏水表面高速甩胶的同时利用热风直接吹表面,将溶液挥发直接在表面形成一层凝固层,在亲油疏水表面高速甩胶的同时,还可利用光辐射快速加热、样品台快速加热的方式来快速加热挥发溶剂,在甩胶制膜的过程中引入热风,甩胶过程中直接挥发溶剂,溶质在表面直接成膜,方法简单,对设备的要求低,表面破坏小,实用性强,具有较强的推广与应用价值。
附图说明
图1是本发明实施例提供的在亲油疏水的teflon表面甩胶的同时引入热风的产品加工示意图;
图2是本发明实施例提供的光刻后制备的显示阵列的示意图;
图3是本发明实施例提供的显示阵列的显示效果示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步的详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定发明。
本发明的目的在于提供一种不浸润表面薄膜的化学制备方法,该化学制备方法首先在ITO玻璃表面先制备一层亲油疏水的Teflon薄膜,在teflon表面高速甩胶的同时利用热风直接吹表面,将溶液挥发直接在表面形成一层凝固层。
在本发明实施例中,在teflon表面高速甩胶的同时,还可利用光辐射快速加热、样品台快速加热的方式来快速加热挥发溶剂。
在本发明实施例中,在甩胶制膜的过程中引入热风,甩胶过程中直接挥发溶剂,溶质在表面直接成膜。
下面结合附图及具体实施例对本发明的应用原理作进一步描述。
在ITO玻璃表面先制备一层Teflon薄膜,这一层薄膜是亲油疏水的,为了能在teflon表面制备光刻胶薄膜,将在teflon表面高速甩胶的同时利用电吹风等设备,用热风直接吹表面,将溶液挥发直接在表面形成一层凝固层,从而避免在匀胶机停止旋转后液体立刻收缩的弊端,从而形成一层薄膜。
在甩胶制膜的过程中引入热风,甩胶过程中直接挥发溶剂,溶质在表面直接成膜,克服了不浸润带来的无法制备薄膜的困难,有望应用于电润湿显示器件的制备等领域。图1是本发明实施例提供的在teflon表面甩胶的同时引入热风的产品加工示意图;图2是本发明实施例提供的光刻后制备的显示阵列的示意图;图3是本发明实施例提供的显示阵列的显示效果示意图。
目前一般来说是对不浸润的表面通过氧等离子体等处理,改变其浸润特性,然后甩胶制膜,在完成后再退火等处理恢复表面的不浸润特性。相比传统的方法,该方法更简单,对设备的要求更低,对表面的破坏更小。
除了利用热风,其它快速加热挥发溶剂的方法也都属于本申请被保护的内容,比如利用光辐射快速较热,样品台快速加热等。
本发明实施例提供的不浸润表面薄膜的化学制备方法,该化学制备方法首先在ITO玻璃表面先制备一层亲油疏水的Teflon薄膜,在teflon表面高速甩胶的同时利用热风直接吹表面,将溶液挥发直接在表面形成一层凝固层,在teflon表面高速甩胶的同时,还可利用光辐射快速加热、样品台快速加热的方式来快速加热挥发溶剂,在甩胶制膜的过程中引入热风,甩胶过程中直接挥发溶剂,溶质在表面直接成膜,方法简单,对设备的要求低,表面破坏小,实用性强,具有较强的推广与应用价值。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (3)
1.一种不浸润表面薄膜的化学制备方法,其特征在于,该化学制备方法首先在固体表面先制备一层亲油疏水的薄膜,在薄膜表面高速甩胶的同时利用热风直接吹表面,将溶液挥发直接在表面形成一层凝固层。
2.如权利要求1所述的化学制备方法,其特征在于,在亲友疏水表面高速甩胶的同时,还可利用光辐射快速加热、样品台快速加热的方式来快速加热挥发溶剂。
3.如权利要求1所述的化学制备方法,其特征在于,在甩胶制膜的过程中引入热风,甩胶过程中直接挥发溶剂,溶质在亲油疏水表面直接成膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2013100061903A CN103011617A (zh) | 2013-01-08 | 2013-01-08 | 一种不浸润表面薄膜的化学制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2013100061903A CN103011617A (zh) | 2013-01-08 | 2013-01-08 | 一种不浸润表面薄膜的化学制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103011617A true CN103011617A (zh) | 2013-04-03 |
Family
ID=47960787
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2013100061903A Pending CN103011617A (zh) | 2013-01-08 | 2013-01-08 | 一种不浸润表面薄膜的化学制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN103011617A (zh) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101299069A (zh) * | 2008-06-24 | 2008-11-05 | 四川大学 | 一种辐射变色膜剂量计的制备方法 |
CN102430495A (zh) * | 2011-07-22 | 2012-05-02 | 上海华力微电子有限公司 | 提高光刻胶膜与衬底表面粘合度的装置及其应用方法 |
CN102641823A (zh) * | 2012-05-14 | 2012-08-22 | 中国科学院微电子研究所 | 一种微波匀胶装置及匀胶方法 |
-
2013
- 2013-01-08 CN CN2013100061903A patent/CN103011617A/zh active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101299069A (zh) * | 2008-06-24 | 2008-11-05 | 四川大学 | 一种辐射变色膜剂量计的制备方法 |
CN102430495A (zh) * | 2011-07-22 | 2012-05-02 | 上海华力微电子有限公司 | 提高光刻胶膜与衬底表面粘合度的装置及其应用方法 |
CN102641823A (zh) * | 2012-05-14 | 2012-08-22 | 中国科学院微电子研究所 | 一种微波匀胶装置及匀胶方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104658700B (zh) | 一种银纳米线透明导电电极的制备方法 | |
CN104299723A (zh) | 一种高性能金属纳米线透明导电薄膜的制备方法 | |
CN104174445B (zh) | 用于富集和痕量检测的超亲水微井传感界面及其制备方法 | |
CN103985434A (zh) | 一种透明导电膜的制造方法及透明导电膜 | |
AU2021100456A4 (en) | Cross-ordered silver nanowire film and patterning method thereof | |
CN101752093A (zh) | 用于染料太阳能电池的光子晶体结构薄膜电极的制备方法 | |
CN104014805A (zh) | 一种银纳米线的制备方法 | |
CN104112544A (zh) | 一种防硫化氢气体腐蚀的银纳米线透明导电薄膜的制备方法 | |
CN104877164B (zh) | 一种贯通孔有序膜的制备方法 | |
CN103359949A (zh) | Tft玻璃基板单面蚀刻的方法 | |
CN109509574A (zh) | 一种高均匀性纳米银线柔性透明导电电极的制备方法 | |
CN101186766A (zh) | 一种石质文物防护涂液及其使用方法 | |
CN104119554B (zh) | 一种采用冷冻法制备有机多孔膜的方法 | |
CN104191803A (zh) | 一种石墨烯/衬底复合导电材料的制备方法 | |
CN107492454A (zh) | 一种微型超级电容器的制备工艺 | |
CN105381764B (zh) | 一种制备聚苯乙烯‑聚乙烯醇双层空心微球的方法 | |
CN107311164B (zh) | 一种运用含支链脂肪酸改性制备超疏水氧化石墨烯的方法 | |
CN103011617A (zh) | 一种不浸润表面薄膜的化学制备方法 | |
CN102503165A (zh) | 玻璃表面增透膜的制备方法 | |
CN107515243A (zh) | 靶板及其制备方法和质谱仪 | |
CN106601368A (zh) | 一种基于银纳米颗粒墨水在基材表面制备导电膜的方法 | |
CN104861791B (zh) | 一种蜂窝结构透明涂层的制备方法 | |
CN106847546B (zh) | 一种多孔五氧化二钒超级电容器材料的制备方法 | |
CN109985530A (zh) | 一种制备环氧热固性树脂超滤膜的方法 | |
CN105174248B (zh) | 一种不同片层数氧化石墨烯片/液晶/薄膜的制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C12 | Rejection of a patent application after its publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20130403 |