CN103008213B - 自粘性聚偏二氯乙烯乳液的无底胶涂布方法及实施该方法的涂布系统 - Google Patents

自粘性聚偏二氯乙烯乳液的无底胶涂布方法及实施该方法的涂布系统 Download PDF

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本发明提供一种自粘性聚偏二氯乙烯乳液的无底胶涂布方法及实施该方法的涂布系统,面涂采用吻式涂布,并且在面涂工序中的面涂料自粘性PVDC乳液中加入适量的蜡乳液、二氧化硅抗粘剂。使所得涂布膜具有高阻隔、热封性且能通过UV胶与纸盒复合的特点,且其表面具有滑爽性,容易在设备上走机,薄膜在涂布设备上走机时不需要更大的张力,经过烘箱加热后也不会有明显的收缩变形,不会影响产品的性能。

Description

自粘性聚偏二氯乙烯乳液的无底胶涂布方法及实施该方法的涂布系统
技术领域
本发明涉及一种自粘性聚偏二氯乙烯乳液的无底胶涂布方法及实施该方法的涂布系统。 
背景技术
在塑料涂布行业,在涂布功能性涂料前,需要先涂一层底胶以增强涂层与塑料基材膜的粘结力。在生产阻隔型涂布膜时,选用市场上阻氧性非常好的PVDC涂料,亦必须借助于底胶层才能使PVDC涂层牢牢粘在塑料薄膜上。 
专利CN03263561涉及涂布机逆(反)向凹版辊吻式涂布装置,由支架板、传动齿轮、压辊、冷却辊、涂布辊、调节辊构成,其中,压辊、冷却辊、涂布辊两端安装在支架板上,在支架板的上端装有压辊紧压着下部位置固定的冷却辊,在支架板的下端即冷却辊的下方装有的涂布辊,涂布辊的旁边装有调节辊。 
专利CN201020665364涉及包装封口黏合剂涂布设备,具有一个包装输送装置,一个粘合剂第一涂布装置,该粘合剂第一涂布装置包括一个用来给包装上黏合剂的第一凹版涂布辊、一个用来对涂布辊圆周表面进行清理的第一刮片以及一个将包装封口涂布面压紧在凹版涂布辊上的第一压印辊,其中:还包括一个粘合剂第二涂布装置,该粘合剂第二涂布装置包括一个用来给包装上黏合剂的第二凹版涂布辊、一个用来对涂布辊圆周表面进行清理的第二刮片以及一个将包装封口涂布面压紧在凹版涂布辊上的第二压印辊;该粘合剂第一涂布装置和粘合剂第二涂布装置之间由包装输送装置连接;在粘合剂第一涂布装置和粘合剂第二涂布装置之间包装输送装置传输线上设有一个烘干装置;在烘干装置和粘合剂第二涂布装置之间的包装输送装置传输线上设有一个包装封口涂布面反转装置。 
本公司专利CN03206906或CN03149871涉及微波干燥涂布生产系统,包括收卷装置、电晕处理装置、底涂装置、底涂烘干装置、面涂装置、面涂烘干装置、反转装置及收卷装置,其特征在于:所述的底涂烘干装置或/和面涂烘干装置采用微波加热烘干装置。 
专利CN200420043926涉及卷筒材料双工位收放料装置,包括两根用于装卷筒材料的料 轴、两块在两侧支撑两根料轴的壁板,以及支撑壁板的墙板,其中,在两根料轴中间的上下方分别设有一连接两壁板的支撑件,在两壁板的外侧中心处各设有一与壁板紧固连接的短轴,这两根短轴同轴并将壁板支承在墙板上。 
本公司专利CN03265702涉及薄膜涂布装置,包括放卷装置、收卷装置,其中,在收卷装置与放卷装置之间有分别对基材两面进行底涂及面涂的两组涂胶涂布装置,每组涂胶涂布装置依次由单面涂底胶装置、底涂烘干箱、涂功能材料的面涂装置、红外加热装置及面涂烘干箱构成。 
现市场上出现一种涂布用且具有自粘性的PVDC乳液,不仅在涂布后具有很好的阻氧性能,满足食品包装的要求,还可以使涂布膜工艺减少一道涂布工序,省去底胶费用,大大降低成本,促进塑料涂布行业的发展。但是由于具有自粘性的PVDC乳液具有一定的粘性,在涂布过程中容易出现粘辊或薄膜涂布面间的粘连现象,这样对涂布膜的外观、质量及其他物理机械性能如阻隔性能、力学性能造成不良的影响。也会导致涂布过程中张力及薄膜的走机的控制比较困难,从而导致薄膜经过烘箱加热后有明显的收缩变形,另外对乳液涂布量的控制也造成了一定的难度。 
针对以上提出的缺点,本发明提供一种自粘性聚偏二氯乙烯乳液的无底胶涂布方法及实施该方法的涂布系统。 
发明内容
为克服上述提出的问题,本发明提供一种自粘性聚偏二氯乙烯乳液的无底胶涂布方法及实施该方法的涂布系统。该涂布方法的涂布均匀性高,涂层与基材的附着力高。所得涂布膜表面具有优良的滑爽性,并且薄膜在设备上走机容易,且需要的张力更小,使得涂布过程更容易控制,薄膜经过烘箱加热后也不会有明显的收缩变形。 
本发明提供的涂布方法依次包括以下工序:放卷工序、电晕处理工序、面涂工序、面涂烘干工序、收卷工序。其具体步骤如下: 
1.放卷工序:在10~30N的恒定放卷张力下,把卷筒形薄膜如BOPP、BOPET、BOPA薄膜平整地展放成连续、而又能稳定地运行;并采用两个工位互相交替工作的主动放卷轴以及由程序控制的自动拼接机构;以实现生产的连续性,可以实现不停机连续放卷; 
2.电晕处理工序:将放卷出来的膜通过电晕处理装置产生和放出的高频、高压、脉冲电流,使电极间的空气等离子化,强迫被处理薄膜表面状态发生改变,如产生极性基团,析出低分子物,表面产生微观凹凸,其中,电晕处理功率设定5-10kW,电极 采用双电极或三电极; 
3.面涂工序:经过电晕处理的薄膜进入面涂工序,采用逆向凹版涂布,通过涂布辊与刮刀的配合,使面涂料自粘性PVDC乳液从料槽中通过涂布辊转移到薄膜表面,其中涂布辊用的是30-120线/㎝六边棱台形陶瓷网纹辊,不锈钢刮刀采用高耐腐蚀性,宽度10mm的不锈钢刮刀;涂布过程通过涂布辊转移到薄膜表面涂料控制在1.5-5.0g/m2,涂层厚度1~3μm之间,涂布薄膜张力控制在10~50N;其中,在面涂料自粘性PVDC乳液中加入蜡乳液、二氧化硅抗粘剂;其中PVDC乳液与蜡乳液、二氧化硅抗粘剂的干重比为:100:2:0.5。; 
4.面涂烘干工序:面涂烘干分为两部分即远红外干燥和烘箱热空气干燥,薄膜进入烘箱后先进行红外烘干,再热空气烘干,红外加热的光波波长为1~3μm,温度90-140℃,薄膜在红外烘干部分的烘干时间为0.5-1.5秒,烘箱热空气干燥再把PVDC涂层里的水分烘干,烘干时间为1.5-4.5秒,温度90~140℃,在烘干过程中,薄膜必须有一定的张力控制,张力大小原则是:满足薄膜拉直拉平的前提下尽可能小,张力控制范围:60N~150N之间; 
5.收卷工序:收卷必须将材料收卷成理想的卷筒,卷筒的不圆度会明显影响产品的外观;为防止涂布膜在固化过程中收缩而使卷筒变紧引起材料产生不规则的近似圆柱体的多折边柱体,收卷时的张力、收卷压辊的压力都一定要仔细地控制,张力、压力由大变小的过程有一最佳衰减率,工艺过程一定要根据基膜类别、涂布量大小、薄膜宽度、厚度作精细的设定;收卷张力50N~150N,衰减率30~60%。 
其中,底涂和面涂均采用吻式涂布。 
本发明的另一个目的是提供一种自粘性聚偏二氯乙烯乳液的涂布系统,包括:放卷装置、电晕处理、面涂装置、面涂烘干装置、收卷装置,其中面涂装置采用吻式涂布装置。 
本发明的有益效果:由于放卷工序采用了两个工位互相交替工作的主动放卷轴以及由程序控制的自动拼接机构,实现了生产的连续性即不停机连续放卷;由于采用了电晕处理,提高了涂料在薄膜上的附着力;由于在面涂烘干过程中采用红外烘干,红外线干燥可在最短的时间内提高整个涂层温度,避免涂料在进入烘箱时出现结皮现象,热空气干燥使得涂布膜干燥和固化更彻底;涂布方式由于采用吻式涂布,所得涂布膜均匀性非常好;所得涂布膜具有高阻隔、热封性的特点。由于在面涂过程中的乳液中加入适量的蜡乳液、二氧化硅抗粘剂,使涂层表面具有滑爽性,容易在设备上走机,薄膜在涂布设备上走机时不需要更大的张力,且不会对涂层与基材薄膜的粘结力造成影响,经过烘箱加热后也不会有明显的收缩变形,不 会影响产品的性能。第一面涂工序中涂布量为3.5g/m2时,氧气透过率为9cc/m2/24h。 
附图说明
图1.使用本涂布系统生产的涂布膜结构示意图。 
图中:1为薄膜基材、2自粘性PVDC涂层。 
具体实施方式
实施例1: 
1.放卷工序:在15N的恒定放卷张力下,把厚度为19μm的BOPP卷筒形薄膜平整地展放成连续、而又能稳定地运行; 
2.电晕处理工序:电晕处理功率设定6.0kW,处理后的基膜的电晕值达到41dyn/cm; 
3.面涂工序:经过电晕处理的薄膜进入面涂工序,采用逆向凹版涂布,通过涂布辊与刮刀的配合,使面涂料PVDC乳液从料槽中通过涂布辊转移到薄膜表面,其中涂布过程通过涂布辊转移到薄膜表面涂料控制在2.5g/m2,涂层厚度2μm,涂布薄膜张力控制在80N;其中在面涂料阻氧型PVDC乳液中加入蜡乳液、二氧化硅抗粘剂;其中PVDC乳液与蜡乳液、二氧化硅抗粘剂的干重比为:100:2:0.5。; 
4.面涂烘干工序:薄膜进入烘箱后先进行红外烘干,再热空气烘干,红外烘干的光波波长为2μm,红外功率为72kW,温度140℃,薄膜在红外烘干部分的烘干时间为1秒,热空气烘干时间为3秒,温度120℃,张力控制为90N; 
5.收卷工序:收卷张力80N,衰减率50%。 
实施例2: 
1.放卷工序:在30N的恒定放卷张力下,把厚度为12μm的BOPET卷筒形薄膜平整地展放成连续、而又能稳定地运行; 
2.电晕处理工序:电晕处理功率设定6kW,处理后的基膜的电晕值达到41dyn/cm; 
3.面涂工序:经过涂底胶的涂布膜进入面涂工序,采用逆向凹版涂布,通过涂布辊与刮刀的配合,使面涂料PVDC乳液从料槽中通过涂布辊转移到薄膜表面,其中涂布过程通过涂布辊转移到薄膜表面涂料控制在3.0g/m2,涂层厚度为2μm,涂布薄膜张力控制在80N;其中在面涂料阻氧型PVDC乳液中加入蜡乳液、二氧化硅抗粘剂;其中PVDC乳液与蜡乳液、二氧化硅抗粘剂的干重比为:100:2:0.5。; 
4.面涂烘干工序:薄膜进入烘箱后先进行红外烘干,再热空气烘干,红外烘干的光波波长为3μm,红外功率为72KW,温度130℃;薄膜在红外烘干部分的烘干时间为1 秒,热空气烘干时间为3秒,温度125℃,张力控制为120N; 
5.收卷工序:收卷张力为110N,衰减率50%。 

Claims (3)

1.一种自粘性聚偏二氯乙烯乳液的无底胶涂布方法,该方法依次包括: 
1)放卷工序:在10~30N的恒定放卷张力下进行放卷; 
2)电晕处理工序:其中,电晕处理功率设定5-10kW; 
3)面涂工序:经过电晕处理的薄膜进入面涂工序,采用逆向凹版涂布,通过30-120线/㎝六边棱台形陶瓷网纹辊的涂布辊与采用高耐腐蚀性、宽度10mm的不锈钢刮刀的配合,使面涂料自粘性PVDC乳液从料槽中通过涂布辊转移到薄膜表面,涂布量控制在2.5-5.0g/m2,涂层厚度为1~3μm,涂布薄膜张力控制在10~50N; 
4)面涂烘干工序:在60N~150N之间的张力控制下,薄膜进入烘箱后先进行红外烘干,再进行热空气烘干;其中红外干燥用光波波长为1~3μm,温度90-140℃,红外烘干时间为0.5-1.5秒,热空气烘干时间为1.5-4.5秒、温度为90~140℃;
5)收卷工序:收卷张力控制为50N~150N,张力衰减率控制为30~60%;其特征在于,面涂采用逆向凹版涂布,并且在面涂工序中的面涂料自粘性PVDC乳液中加入蜡乳液、二氧化硅抗粘剂,其中PVDC乳液与蜡乳液、二氧化硅抗粘剂的干重比为:100:2:0.5。 
2.根据权利要求1所述的自粘性聚偏二氯乙烯乳液的无底胶涂布方法,其特征在于,所述步骤1)中的卷筒形薄膜为BOPP薄膜、BOPET薄膜、或BOPA薄膜中的任意一种。 
3.实施权利要求1所述的自粘性聚偏二氯乙烯乳液的无底胶涂布方法的涂布装置,其特征在于,包括:放卷装置、电晕处理、面涂装置、面涂烘干装置、收卷装置,其中面涂装置采用逆向凹版涂布装置,放卷装置采用两个工位互相交替工作的主动放卷轴以及由程序控制的自动拼接机构。 
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