CN102998911B - 光敏ctp印版新型制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种光敏CTP印版新型制作方法，包括以下步骤：1）将印版放置到曝光机，受控激光光束将激光照射到需要曝光的版面位置上进行曝光；2）印版曝光完毕后，先对印版预加热；3）印版显影，显影后将空白部分冲洗掉，上胶保护；4）印版二次光聚合反应：将印版送入LED UV曝光单元，连续曝光3min；5）取出印版，集版器把板放置好。所述步骤1）受控激光光束功率为15mw，所述步骤2）印版预加热的温度为110°～115°，所述步骤4）印版在曝光单元内连续曝光时间3min。通过增加印版二次光聚合反应工序，能够降低曝光工序的激光束功率，能够输出≤10μm的细线；分辨率高，清晰度高，提高了产品质量和耐印率。

Description

光敏CTP印版新型制作方法
技术领域
本发明涉及光敏CTP印版制作技术领域，尤其涉及一种光敏CTP印版新型制作方法。
背景技术
现有技术的印版曝光方法包括利用激光束曝光、预加热、显影成像、涂胶保护等工序。这种方法的缺陷是，光敏CTP版药膜面光敏材料曝光反应是一种光能量的积累，曝光时间越长印版上化学物质反应越充分，造成网点边缘模糊，不锐利，网点越大，反应到印刷品上就是制版精度低。由于激光头到印刷版的距离较长，激光点发生变形，能量分布不均，造成曝光分辨率下降，阴线或字糊版。而要提高光敏CTP版的耐印率，必须增强版材药膜面中单体或齐聚物的聚合交联合反应，需要增加曝光时间和激光器的功率，但是这样就会影响制版精度，造成小字或细阴线糊版。为了提高制版精度，就要降低激光器曝光能量，减少曝光时间，但是会降低印版耐印率，增加生产成本，印版图文的稳定性降低。为解决提高制版精度和提高印版耐印率，降低印刷成本之间的矛盾，而进行本发明。通过此项发明技术的应用，一方面可以提高制版精度，制版精度由15μm提高到了10μm，同时印版的耐率提高了80%，达到20万印。
发明内容
本发明的目的就是为了解决现有技术存在的上述问题和不足；提供一种光敏CTP印版制作方法；通过增加印版二次光聚合反应工序，能够降低曝光工序的激光束功率，能够输出≤10μm的细线；分辨率高，清晰度高，提高了制版精度，提高了产品质量和印版耐印率，同时降低印刷成本。
为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：
一种光敏CTP印版新型制作方法，包括以下步骤：
1）将印版放置到曝光机，受控激光光束将激光照射到需要曝光的版面位置上进行曝光；
2）印版曝光完毕后，先对印版预加热；
3）印版显影，显影后将空白部分冲洗掉，上胶保护；
4）印版二次光聚合反应：将印版送入LED UV曝光单元，连续曝光；
5）取出印版，集版器把板放置好。
所述步骤1）受控激光光束功率为15mw。受控光束概率从原来的25mw降为15mw，一方面节约了电能，更重要的是提高了印版分辨率，避免了阴线或字糊版。
所述步骤2）印版预加热的温度为110°～115°。
所述步骤4）印版在曝光单元内连续曝光时间3min。
本发明的有益效果：1.通过印版二次光聚合反应进行连续曝光，不用通过加大曝光量来增强单体或齐聚物的聚合交联反应，从而导致材料的物理性能发生有意义的变化，提高了光敏CTP印版的耐印率。
2.解决了光敏技术存在的光衍射造成的不能生成＜15μm细线或0.6磅字的问题；LED UV寿命长，可靠性高，连续曝光时间长，能够输出≤10μm的细线；分辨率高，清晰度高，提高了产品质量和耐印率，同时降低印刷成本。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步说明。
一种光敏CTP印版新型制作方法，包括以下步骤：
1）将印版放置到曝光机，受控激光光束将激光照射到需要曝光的版面位置上进行曝光；
2）印版曝光完毕后，先对印版预加热；
3）印版显影，显影后将空白部分冲洗掉，上胶保护；
4）印版二次光聚合反应：将印版送入LED UV曝光单元，连续曝光；
5）取出印版，集版器把板放置好。
所述步骤1）受控激光光束功率为15mw。受控光束概率从原来的25mw降为15mw，一方面节约了电能，更重要的是提高了印版分辨率，避免了阴线或字糊版。
所述步骤2）印版预加热的温度为110°～115°。
所述步骤4）印版在曝光单元内连续曝光时间3min。
上述虽然对发明的具体实施方式进行了描述，但并非对本发明保护范围的限制，所属领域技术人员应该明白，在本发明的技术方案的基础上，本领域技术人员不需要付出创造性劳动即可做出的各种修改或变形仍在本发明的保护范围以内。

Claims (1)

1.一种光敏CTP印版新型制作方法，其特征是，包括以下步骤：
1）将印版放置到曝光机，受控激光光束将激光照射到需要曝光的版面位置上进行曝光；
2）印版曝光完毕后，对印版预加热；
3）印版显影，显影后将空白部分冲洗掉，上胶保护；
4）印版二次光聚合反应：将印版送入LED UV曝光单元连续曝光，不用通过加大曝光量来提高光敏CTP印版的耐印率；
5）取出印版，集版器把版放置好；
所述步骤1）受控激光光束功率为15mw；
所述步骤2）印版预加热的温度为110°～115°；
所述步骤4）印版在曝光单元内连续曝光时间3min。
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光敏CTP成像质量控制方法的研究;韩丽丽;《CNKI优秀硕士学位论文全文库》;20090401;第二章第4-7页 *

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