CN102989736B - 一种排风装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及硅片湿法清洗领域，尤其涉及一种排风装置。该排风装置包括底腔、兆声波装置盛液槽、兆声波装置盛液槽固定支架、夹层及排风调整单元，所述底腔固定于所述夹层顶部，所述兆声波装置盛液槽通过兆声波装置盛液槽固定支架固定于所述夹层上，夹层将整个工艺腔室的工艺区和电气区分隔开，所述排风调整单元与夹层连接，用于调整工艺腔体内部排风流量、工艺腔体外部排风流量以及电气区的排风流量。这样排风调整单元可通过有效的调整排风量以保证工艺腔室内部流场的均匀性；通过夹层能将工艺腔室的工艺区和电气区完全隔离开来，以防止工艺区的化学液挥发的雾气挥发至电气区对电气部件造成损害。
Description
技术领域
本发明涉及硅片湿法清洗领域，尤其涉及一种排风装置。
背景技术
目前在湿法清洗工艺中单片清洗设备的应用越来越广泛，工艺腔室是单片清洗设备的核心部件，整个硅片的清洗工艺都是在工艺腔室内部的工艺区完成的，工艺过程中还要用到多种碱性或酸性化学药液以及兆声波装置等，湿法处理设备的腔室顶部设有吹风及过滤系统，腔室内部设有排风系统。
目前，腔室排风系统普遍存在的两个问题，一是腔室内部流场的均匀性难以保证；二是腔室工艺区与电气区不能严格的分隔开。这样，如果在清洗工艺过程中腔室内部流场不稳定，存在局部的扰流、紊流等，则会在硅片清洗工艺时带动一些微小的颗粒、污染物至硅片表面，降低清洗的效率，甚至达不到清洗工艺的要求。此外，由于化学液的应用，使得工艺腔室工艺区存在大量化学药液的挥发雾气，如果工艺区和电气区不能完全分隔开，在清洗工艺过程当中就会使得工艺区的部分化学雾气进入到工艺腔室的电气区，从而对电气元气件造成化学腐蚀，长期作用甚至会损害电气元件，造成整个机台的停机，影响设备的生产效率。
因此，针对以上不足，本发明提供了一种排风装置。
发明内容
（一）要解决的技术问题
本发明的目的是解决排风量不能调整，工艺腔室内部流场的均匀性难以保证，以及工艺区的化学液挥发的雾气挥发至电气区对电气部件造成损害的问题。
（二）技术方案
为了解决上述技术问题，本发明提供了一种排风装置，该排风装置包括底腔、兆声波装置盛液槽、兆声波装置盛液槽固定支架、夹层及排风调整单元，所述底腔固定于所述夹层顶部，所述兆声波装置盛液槽通过兆声波装置盛液槽固定支架固定于所述夹层上，所述夹层将整个工艺腔室的工艺区和电气区分隔开，所述排风调整单元与所述夹层连接，用于调整工艺腔体内部排风流量、工艺腔体外部排风流量以及电气区的排风流量。
其中，所述夹层的材质为具有耐酸碱腐蚀性的塑料，其包括顶板、侧板、内侧环、底板和主排风口，所述内侧环位于顶板和底板之间，所述主排风口位于所述底板上，且所述主排风口的顶部高度高于底板的顶部。
其中，所述顶板为凹槽状结构，且其上设有排风孔。
其中，所述顶板上还设有第一联结孔、第二联结孔、第三联结孔、第四联结孔及第五联结孔，通过所述第一联结孔将夹层与工艺区壳体联结，通过所述第二联结孔将夹层与电气区固定架联接，通过所述第三联结孔将夹层与所述底腔固定联接，通过所述第四联结孔将兆声波装置固定于夹层顶板上，通过所述第五联结孔将维修孔遮挡盖固定于夹层顶板上。
其中，所述底板的顶部有斜度，一端为高位，另一端为低位，在低位处设有排液口，用于将流至底部的液体排走。
其中，所述顶板上设有第一通孔及第二通孔，所述底板上设有与所述第一通孔及第二通孔相对应的孔。
其中，还包括喷淋臂、喷淋臂遮挡环及旋紧接头，所述喷淋臂穿过所述第一通孔及底板上相应的孔，并用所述喷淋臂遮挡环密封，兆声波装置盛液槽的供液管和排液管穿过所述第二通孔及底板上相应的孔，在贯穿处用所述旋紧接头密封。
其中，所述排风调整单元包括：夹层排风口连接管、工艺腔体排风口联接管、排风管卡紧件、夹层排风量调整机构、工艺腔体排风量调整机构、总排风腔体及电气区进风口排风风量调整板；所述夹层排风口连接管的一端通过所述工艺腔体排风口联接管与总排风腔体联接，另一端通过所述排风管卡紧件与所述夹层紧固联接，所述夹层排风量调整机构及工艺腔体排风量调整机构设于所述工艺腔体排风口联接管进入总排风腔体的通道上，所述电气区进风口排风风量调整板位于总排风腔体的一侧。
其中，所述夹层排风量调整机构、工艺腔体排风量调整机构及电气区进风口排风风量调整板均可自动调整或手动调整排风量，调整范围从全开到全闭。
其中，所述底腔上设有盛液槽和缓冲腔，所述盛液槽分为高位和低位，所述缓冲腔上设有进风口，所述进风口为环形，并围绕底腔的中心均布设置，且所述进风口高于所述盛液槽的低位，所述缓冲腔底部设有用于腔体排风的排风口和用于排放冷凝液体的排液口，所述排风口顶部高度高于底板的顶部。
（三）有益效果
本发明的上述技术方案具有如下优点：由于夹层将整个工艺腔室的工艺区和电气区分隔开，所述排风调整单元与夹层连接，并可调整工艺腔体内部排风流量、工艺腔体外部排风流量以及电气区的排风流量。这样排风调整单元可通过有效的调整排风量以保证工艺腔室内部流场的均匀性；通过夹层能将工艺腔室的工艺区和电气区完全隔离开来，以防止工艺区的化学液挥发的雾气挥发至电气区对电气部件造成损害。
附图说明
图1是本发明实施例单硅片湿法处理设备工艺腔室的立体图；
图2是本发明实施例排风装置的立体示意图；
图3是本发明实施例排风装置的夹层的立体示意图；
图4是本发明实施例图3的C-C剖视图；
图5是本发明实施例图3背面的立体示意图；
图6是本发明实施例排风装置的底腔的立体示意图；
图7是本发明实施例图6的D-D的立体剖视图；
图8是本发明实施例排风装置的排风调整单元的立体示意图。
图中：1：夹层；2：喷淋臂遮挡环；3：底腔；4：兆声波装置盛液槽；5：兆声波装置盛液槽固定支架；6：维修孔遮挡盖；7：排风调整单元；8：旋紧接头；9：夹层排风口连接管；10：工艺腔体排风口联接管；11：排风管卡紧件；12：夹层排风量调整机构；13：工艺腔体排风量调整机构；14：总排风腔体；15：电气区进风口排风风量调整板；16：第一药液喷淋臂；17：第二药液喷淋臂；18：兆声波装置喷淋臂；19：工艺区壳体；20：电气区固定架；21：排风装置；101：顶板；102：侧板；103：内侧环；104：底板；105：主排风口；106：排风口；107：第一联结孔；108：第二联结孔；109：第三联结孔；110：第四联结孔；111：第一通孔；112：第二通孔；113：第五联结孔；114：高位；115：低位；116：排液口；301：盛液槽；302：缓冲腔；303：缓冲腔进风口；304：缓冲腔排风口；305：缓冲腔排液口；A：工艺区；B：电气区。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
如图1所示，本发明实施例提供的一种排风装置21，该排风装置21位于单硅片湿法处理设备工艺腔室中，整个工艺腔室还包含工艺区及电气区，整个排风装置介于工艺区和电气区之间。该工艺腔室还设有第一药液喷淋臂16、第二药液喷淋臂17、兆声波装置喷淋臂18、工艺区壳体19及电气区固定架20。这样排风装置21将工艺区和电气区分隔开，防止了工艺区的化学液挥发的雾气挥发至电气区对电气部件造成的损害。
如图2所示，排风装置21包括：夹层1、喷淋臂遮挡环2、底腔3、兆声波装置盛液槽4、兆声波装置盛液槽固定支架5、维修孔遮挡盖6、排风调整单元7及旋紧接头8。该排风装置21通过夹层1将整个工艺腔室的工艺区和电气区分隔开来，保证工艺腔室工艺区化学药液的雾气不能挥发至工艺腔室的电气区，从而降低工艺腔室电气区电气元件被损坏的风险，提高设备的可靠性。该装置可通过排风调整装置7分别调整工艺腔体内部排风流量、工艺腔体外部排风流量以及电气区的排风流量，使三者排风量处于一定比例，从而实现整个工艺腔室内部流场的均匀性。
如图3-5所示，排风装置21的夹层1为一完整壳体，所述夹层1的材质为具有耐酸碱腐蚀性的塑料，其包括顶板101、侧板102、内侧环103、底板104和主排风口105，所述内侧环103位于顶板101和底板104之间，所述主排风口105位于所述底板104上，且所述主排风口105的顶部高度高于底板104的顶部，优选的，高出尺寸应不低于5mm，这样可使得主排风口105与其他部件没有干涉，且所述主排风口105的尺寸≥50mm，这样可保证排风的风量以适应整个区域的工作需求。
所述顶板101为凹槽状结构，且其上设有排风孔106，优选的，所述排风孔106的最大尺寸介于1mm-100mm之间，这样可保证足够的风量以保证工作区域的正常进行。所述顶板101上还设有第一联结孔107、第二联结孔108、第三联结孔109、第四联结孔110及第五联结孔113，通过所述第一联结孔107将夹层1与工艺区壳体19联结，通过所述第二联结孔108将夹层1与电气区固定架20联接，通过所述第三联结孔109将夹层1与所述底腔3固定联接，通过所述第四联结孔110将兆声波装置固定于夹层顶板101上，通过所述第五联结孔113将维修孔遮挡盖6固定于夹层顶板101上。
所述底板104的顶部有斜度，一端为高位114，另一端为低位115，在低位115处设有排液口116，用于将流至底部104的液体排走，设置有斜度可保证液体从高位114流直低位115，从而顺利的将流至底部104的液体排走。所述顶板101上还设有第一通孔111及第二通孔112，所述底板104上设有与所述第一通孔111及第二通孔112相对应的孔。所述第一药液喷淋臂16、第二药液喷淋臂17、兆声波装置喷淋臂18穿过所述第一通孔111及底板104上相应的孔，并用所述喷淋臂遮挡环2密封，兆声波装置盛液槽4的供液管和排液管穿过所述第二通孔112及底板104上相应的孔，在贯穿处用所述旋紧接头8密封。
如图8所示，所述排风调整单元7包括：夹层排风口连接管9、工艺腔体排风口联接管10、排风管卡紧件11、夹层排风量调整机构12、工艺腔体排风量调整机构13、总排风腔体14及电气区进风口排风风量调整板15；所述夹层排风口连接管9的一端通过所述工艺腔体排风口联接管10与总排风腔体14联接，另一端通过所述排风管卡紧件11与所述夹层1紧固联接，所述夹层排风量调整机构12及工艺腔体排风量调整机构13设于所述工艺腔体排风口联接管10进入总排风腔体14的通道上，所述电气区进风口排风风量调整板15位于总排风腔体14的一侧。所述夹层排风量调整机构12、工艺腔体排风量调整机构13及电气区进风口排风风量调整板15均可自动调整或手动调整排风量，调整范围从全开到全闭。
为调整工艺腔室内部流场，可通过分别独立的夹层排风量调整机构12、工艺腔体排风量调整机构13和电气区进风口排风风量调整板15，使得它们三者之间处于不同的比例来反复测试工艺腔室内部流场的均匀性，直到得到最理想的流场后，确定各调整装置的最终位置。
如图6和图7所示，所述底腔3上设有盛液槽301和缓冲腔302，所述盛液槽301用于盛接清洗完后的废液并将其排放，所述缓冲腔302用于工艺腔体内部的排风并对其缓冲；
所述盛液槽301分为高位和低位，所述缓冲腔302上设有进风口303，所述进风口303为环形，并围绕底腔3的中心均布设置，且所述进风口303高于所述盛液槽301的低位，所述缓冲腔302底部设有用于腔体排风的排风口304和用于排放冷凝液体的排液口305，所述排风口304顶部高度高于底板104的顶部，高出尺寸不低于5mm，这样可保证排风口304与其他部件不会出现干涉，且排风口304尺寸≥50mm，这样保证了有足够的排风量。
综上所述，由于夹层1将整个工艺腔室的工艺区和电气区分隔开，且所述排风调整单元7与夹层1连接，并可调整工艺腔体内部排风流量、工艺腔体外部排风流量以及电气区的排风量。这样排风调整单元7可通过有效的调整排风量以保证工艺腔室内部流场的均匀性；通过夹层1能将工艺腔室的工艺区和电气区完全隔离开来，以防止工艺区的化学液挥发的雾气挥发至电气区对电气部件造成损害。
以上所述仅是本发明的一种优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变型，这些改进和变型也应视为本发明的保护范围。
Claims (9)
1.一种排风装置，其特征在于：包括底腔(3)、兆声波装置盛液槽(4)、兆声波装置盛液槽固定支架(5)、夹层(1)及排风调整单元(7)，所述底腔(3)固定于所述夹层(1)顶部，所述兆声波装置盛液槽(4)通过兆声波装置盛液槽固定支架(5)固定于所述夹层(1)上，所述夹层(1)将整个工艺腔室的工艺区和电气区分隔开，所述排风调整单元(7)与所述夹层(1)连接，用于调整工艺腔体内部排风流量、工艺腔体外部排风流量以及电气区的排风流量；
其中，所述夹层(1)的材质为具有耐酸碱腐蚀性的塑料，其包括顶板(101)、侧板(102)、内侧环(103)、底板(104)和主排风口(105)，所述内侧环(103)位于顶板(101)和底板(104)之间，所述主排风口(105)位于所述底板(104)上，且所述主排风口(105)的顶部高度高于底板(104)的顶部。
2.根据权利要求1所述的排风装置，其特征在于：所述顶板(101)为凹槽状结构，且其上设有排风孔(106)。
3.根据权利要求1所述的排风装置，其特征在于：所述顶板(101)上还设有第一联结孔(107)、第二联结孔(108)、第三联结孔(109)、第四联结孔(110)及第五联结孔(113)，通过所述第一联结孔(107)将夹层(1)与工艺区壳体(19)联结，通过所述第二联结孔(108)将夹层(1)与电气区固定架(20)联接，通过所述第三联结孔(109)将夹层(1)与所述底腔(3)固定联接，通过所述第四联结孔(110)将兆声波装置固定于夹层顶板(101)上，通过所述第五联结孔(113)将维修孔遮挡盖(6)固定于夹层顶板(101)上。
4.根据权利要求1所述的排风装置，其特征在于：所述底板(104)的顶部有斜度，一端为高位(114)，另一端为低位(115)，在低位(115)处设有排液口(116)，用于将流至底板(104)的液体排走。
5.根据权利要求1所述的排风装置，其特征在于：所述顶板(101)上设有第一通孔(111)及第二通孔(112)，所述底板(104)上设有与所述第一通孔(111)及第二通孔(112)相对应的孔。
6.根据权利要求5所述的排风装置，其特征在于：还包括喷淋臂(16，17，18)、喷淋臂遮挡环(2)及旋紧接头(8)，所述喷淋臂(16，17，18)穿过所述第一通孔(111)及底板(104)上相应的孔，并用所述喷淋臂遮挡环(2)密封，兆声波装置盛液槽(4)的供液管和排液管穿过所述第二通孔(112)及底板(104)上相应的孔，在贯穿处用所述旋紧接头(8)密封。
7.根据权利要求1所述的排风装置，其特征在于：所述排风调整单元(7)包括：夹层排风口连接管(9)、工艺腔体排风口联接管(10)、排风管卡紧件(11)、夹层排风量调整机构(12)、工艺腔体排风量调整机构(13)、总排风腔体(14)及电气区进风口排风风量调整板(15)；所述夹层排风口连接管(9)的一端通过所述工艺腔体排风口联接管(10)与总排风腔体(14)联接，另一端通过所述排风管卡紧件(11)与所述夹层(1)紧固联接，所述夹层排风量调整机构(12)及工艺腔体排风量调整机构(13)设于所述工艺腔体排风口联接管(10)进入总排风腔体(14)的通道上，所述电气区进风口排风风量调整板(15)位于总排风腔体(14)的一侧。
8.根据权利要求7所述的排风装置，其特征在于：所述夹层排风量调整机构(12)、工艺腔体排风量调整机构(13)及电气区进风口排风风量调整板(15)均可自动调整或手动调整排风量，调整范围从全开到全闭。
9.根据权利要求1所述的排风装置，其特征在于：所述底腔(3)上设有盛液槽(301)和缓冲腔(302)，所述盛液槽(301)分为高位和低位，所述缓冲腔(302)上设有进风口(303)，所述进风口(303)为环形，并围绕底腔(3)的中心均布设置，且所述进风口(303)高于所述盛液槽(301)的低位，所述缓冲腔(302)底部设有用于腔体排风的排风口(304)和用于排放冷凝液体的排液口(305)，所述排风口(304)顶部高度高于底板(104)的顶部。
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant |