CN102958644A - 制备边缘强化制品的方法 - Google Patents

Abstract

一种制备边缘强化制品的方法包括利用磁流变精整法对具有第一边缘强度的制品边缘进行抛光，制品在抛光之后具有第二边缘强度，所述第二边缘强度大于第一边缘强度。

Description

制备边缘强化制品的方法

本申请根据35U.S.C.§119要求2010年6月25日提交的美国临时申请系列第61/358611号的优先权，并根据35U.S.C.§120要求2011年5月20日提交的美国申请系列第13/112498号的优先权，上述申请的内容是本申请的基础并通过参考完整地结合于此。

背景

技术领域

本公开内容的实施方式一般涉及对脆性材料制成的制品的边缘进行精整和强化的方法。

背景技术

机械分离是切割玻璃片的方法的一个例子。机械分离通常包括对玻璃片进行机械划线，在玻璃片中形成划痕线，然后沿着划痕线断开玻璃片。机械划线和断开导致玻璃片具有粗糙/锐利的边缘，这是不利的，使玻璃片容易开裂。可从粗糙/锐利的边缘除去材料，从而使边缘变光滑/变钝，减小玻璃片容易开裂的弱点。可利用磨料磨削，以机械方式从玻璃片的粗糙/锐利的边缘除去材料。磨料磨削包括使用具有微米级磨粒的金属磨削工具除去材料，所述磨粒可固定在该工具上，也可不固定在该工具上。据认为，使用磨料磨削除去材料的机理涉及破裂。结果，在磨削之后，边缘上可能出现破裂部位。磨削中使用的磨粒越大，在磨削之后可能出现在边缘上的破裂部位越大。这些破裂部位有效地变成应力集中部位和破裂引发部位，导致成品玻璃片比初始玻璃片具有更低的边缘强度。磨粒更小的磨削工具和/或机械抛光工具可用来减小破裂部位的尺寸。机械抛光工具可以是金属轮或聚合物轮。机械抛光也包括使用磨粒，但该磨粒不固定在抛光工具上。通过激光分离法切割玻璃片可避免粗糙边缘。但是，通过激光分离法切割的玻璃片通常不可避免地具有锐利的边缘。激光划线产生锐利的边缘和转角，所述边缘和转角非常容易发生冲击损伤，因此需要进一步对激光划线的边缘进行形状精整。通常，可利用由一系列硬结合磨料（hard bound abrasive）制成的抛光轮和/或使用精研机与稀浆料消除锐利的激光划线边缘，例如斜切边缘或者将边缘修圆。通常需要几个抛光步骤来除去锐利的边缘，这会显著增加成品玻璃片的成本。

发明内容

一个实施方式是制备边缘强化制品的方法，包括利用磁流变精整法（magnetorheological finishing）对具有第一边缘强度的制品边缘进行抛光，制品在抛光之后具有第二边缘强度，所述第二边缘强度大于第一边缘强度。

另一个实施方式是磁流变抛光流体，包含液体载剂、悬浮在液体载剂中的可磁化粒子以及悬浮在液体载剂中的磨粒，其中液体载剂含有pH≤5的蚀刻剂。

另一个实施方式是磁流变抛光流体，包含液体载剂、悬浮在液体载剂中的可磁化粒子以及悬浮在液体载剂中的磨粒，其中液体载剂含有pH≥10的蚀刻剂。

在以下的详细描述中列出了本发明的附加特征和优点，其中的部分特征和优点对本领域的技术人员而言由所述描述即容易理解，或按文字描述和其权利要求书以及附图中所述实施本发明而被认识。

应理解，前面的一般性描述和以下的详细描述都只是本发明的示例，用来提供理解要求保护的本发明的性质和特性的总体评述或框架。

所包含的附图供进一步理解本发明，附图被结合在本说明书中并构成说明书的一部分。附图呈现了本发明的一个或多个实施方式，并与说明书一起用来解释本发明的原理和操作。

附图说明

仅通过以下详述或与附图一起可更好地理解本发明。

以下是对附图中各图的描述。为了清楚和简明起见，附图不一定按比例绘制，附图的某些特征和某些视图可能按比例放大显示或以示意图方式显示。

图1是说明制备边缘强化制品的方法的流程图。

图2是说明利用磁流变精整法抛光制品边缘的方法的示意图。

图3是机械精整边缘与根据示例性方法制备的MRF精整边缘的边缘强度比较图。

具体实施方式

在以下详细描述中，为了提供对本发明实施方式的透彻理解，陈述了许多具体的细节。但是，对本领域技术人员显而易见的是，本发明可以在没有这些具体细节中的一些细节或全部细节的情况下实施。在其他情况中，为了防止本发明重点不突出，没有详细描述众所周知的特征和/或工艺。此外，类似或相同的附图编号用于标识相同或类似的部件。

图1是说明根据一个实施方式制备边缘强化制品的方法的流程图。要通过所述方法制备的制品是用脆性材料做的。脆性材料的例子包括玻璃、玻璃-陶瓷、陶瓷、硅、半导体材料以及前述材料的组合。在一个实施方式中，所述方法包括抛光过程5，所述抛光过程包括利用磁流变精整法（MRF）抛光制品边缘。为了清楚起见，下面将抛光过程5描述为应用于单一制品。然而，通过例如将多个制品组成一组并像抛光单一制品那样抛光这些制品，可以在抛光过程5中同时处理多个制品。在本文中，术语制品的“边缘”是指制品的四周边缘或者周界（制品可具有任何形状，不一定是圆形）。边缘可包括直边缘部分、弯边缘部分、斜边缘部分、粗糙边缘部分和锐利边缘部分当中的一种或任意组合。制品边缘的抛光可包括抛光边缘的一部分或者抛光制品的整个边缘。制品在抛光过程5开始时具有第一边缘强度，在抛光过程5结束时具有第二边缘强度。在一个或多个实施方式中，抛光过程5结束时的第二边缘强度比抛光过程5开始时的第一边缘强度大得多。例如，已经观察到第二边缘强度高达第一边缘强度的5倍。此观察结果不是为了限制本发明。第二边缘强度也可能超过第一边缘强度的5倍。这表明抛光过程5所用的MRF在抛光制品的同时具有强化制品的有益效果。以下实施例表明，不管制品在抛光过程开始时的状况如何，边缘强度都有可能得到改善。

在抛光过程5中，MRF消除了被抛光表面上的损伤，同时不会给该表面带来新的损伤——这与机械工艺形成对照，机械工艺包括利用机械工具如垫、轮和带对表面施加磨料，其目的是从表面除去材料。MRF采用基于流体的顺应性工具进行抛光，所述工具称作磁流变抛光流体（MPF）。MPF可包含微米级可磁化粒子和悬浮在液体载剂中的微米级至纳米级磨粒。例如，可磁化粒子的尺寸可在1μm至100μm或更大的范围内，例如1-150μm，例如5-150μm，例如5-100μm，例如5-50μm，例如5-25μm，例如10-25μm，而磨粒的尺寸可在15nm-10μm的范围内。可磁化粒子可具有均一或不均一的粒度分布，相同或不同的形状，以及规则或不规则的形状。另外，可磁化粒子可由单一的可磁化材料或不同的可磁化材料的组合制成。可磁化材料的例子包括铁、氧化铁、氮化铁、碳化铁、羰基铁、二氧化铬、低碳钢、硅钢、镍、钴以及前述材料的组合。可磁化粒子也可例如用保护材料涂覆或包封。在一个实施方式中，保护材料是在液体载剂中保持化学稳定和物理稳定并且不与可磁化材料发生化学反应的材料。合适的保护材料的例子包括氧化锆、氧化铝和二氧化硅。类似地，磨粒可具有均一或不均一的粒度分布，相同或不同的形状，以及规则或不规则的形状。另外，磨粒可由单一的不可磁化材料或不同的不可磁化材料的组合制成。磨料的例子包括氧化铈、金刚石、碳化硅、氧化铝、氧化锆以及前述材料的组合。也可采用上面没有具体列出但已知可用于抛光表面的其他磨料。包含在MPF中的液体载剂可以是水性或非水性载剂。载剂的例子包括矿物油、合成油、水和乙二醇。载剂还可包含稳定剂和表面活性剂，所述稳定剂是例如抑制可磁化粒子腐蚀的稳定剂。

在另一个实施方式中，提供能在抛光的同时进行蚀刻的MPF。蚀刻性MPF包含悬浮在含有蚀刻剂的液体载剂中的可磁化粒子和磨粒。蚀刻剂是能够蚀刻制品材料并根据制品材料选择的蚀刻剂。液体载剂还可包含用于蚀刻剂的溶剂。液体载剂还可包含稳定剂和表面活性剂。如上所述，液体载剂可以是水性或非水性载剂。可磁化粒子和磨粒如上面针对非蚀刻性MPF所述。如上所述，可磁化粒子可例如用保护材料涂覆或包封。当使用保护材料时，该保护材料是在液体载剂中的蚀刻剂及其他材料存在下具有化学稳定性和物理稳定性的材料。保护材料也是不与可磁化粒子反应的材料。保护材料的合适的例子是氧化锆和二氧化硅。

在一个实施方式中，蚀刻性MPF中所含的蚀刻剂的pH小于或等于5。在一个实施方式中，pH小于或等于5的蚀刻剂包含酸。在一个实施方式中，蚀刻剂是酸。酸可以液体形式存在，也可以溶解于合适的溶剂。合适的酸的例子包括但不限于氢氟酸和硫酸。液体载剂还可包含一种或多种稳定剂，例如抑制可磁化粒子腐蚀的稳定剂。液体载剂中使用的稳定剂应当在酸的存在下稳定，或者更一般地，在蚀刻剂存在下稳定。

在另一个实施方式中，蚀刻性MPF中所含的蚀刻剂的pH大于或等于10。在一个实施方式中，pH大于或等于10的蚀刻剂包含碱金属盐。在一个实施方式中，蚀刻剂是碱金属盐。这种碱金属盐的例子包括但不限于碱金属氢氧化物例如氢氧化钾、氢氧化钠，以及包含碱金属氢氧化物的配混物。例如，包含碱金属氢氧化物的洗涤剂可用作液体载剂中的碱金属盐。液体载剂可包含碱金属盐以外的其他材料，如可能存在于洗涤剂中的表面活性剂及其他材料。

以条带的形式将MPF沉积在载体表面上。载体表面通常是移动的表面，但载体表面也可以是固定的表面。载体表面可具有各种形状，例如球形、圆柱形或平坦表面。出于说明目的，图2显示了MPF条带8在转轮9上的端视图。在此情况下，转轮9的圆周表面10为MPF条带8提供移动的圆柱形载体表面。喷嘴12用来将MPF条带8递送到表面10的一端，喷嘴14用来从表面10的另一端收集MPF条带8。在MRF过程中，磁铁11对MPF条带8施加磁场。所施加的磁场促使可磁化粒子极化，导致可磁化粒子形成限制流动的链或柱状结构。这增大了MPF条带8的表观黏度，使MPF条带8从液态变成类固态。通过使制品15的边缘13接触硬化MPF条带8并使边缘13相对于硬化MPF条带8往复运动来对边缘13进行抛光——边缘13与MPF条带8之间的相对运动使得要抛光的边缘13的所有部分均在抛光过程中的某个时刻与硬化MPF条带8接触。在一个实施方式中，制品15的边缘13通过将边缘13浸入硬化MPF条带8来进行抛光。虽然已经就利用MRF抛光单一制品描述了抛光过程（图1中的5），但应当指出，在单一抛光过程中可同时抛光多个制品。抛光过程（图1中的5）也可包含多个MRF步骤。若在单一抛光过程中包含多个MRF步骤，则可调整和改变MRF步骤的参数，使得MRF步骤组合起来达到比单一MRF步骤更有效的目标。在一个实施方式中，制品15可移动，例如制品可绕相对于制品的中心轴旋转；制品可相对于转轮9竖直或水平移动；制品可相对于与转轮垂直的方向倾斜一个角度，例如正在抛光并与MPF接触的制品边缘可与转轮成90°或更小的角度。制品可向任意一边倾斜至偏离垂直方向。

MRF通过剪切从正在抛光的表面上除去材料。这与机械工艺如机械磨削所涉及的破裂机理形成对照。在这种机理下，MRF有机会在不给边缘引入新的破裂部位的情况下从边缘除去材料，新破裂部位的引入可能降低边缘强度。同时，MRF从边缘消除缺陷，导致边缘强度增大，即从第一边缘强度增大到第二边缘强度。此外，基于流体的MPF条带8能够顺应边缘的形状，而不管边缘多么复杂（例如就曲率或轮廓而言），这就导致边缘的完全、高质量抛光。MRF受几个参数控制，例如MPF的黏度，将MPF递送到移动表面上的速率，移动表面的速度，磁场强度，MPF条带的高度，边缘浸入MPF条带的深度，以及从边缘除去材料的速率。

回到图1，抛光过程5前面有提供步骤1，在此步骤中提供要进行边缘强化的制品。如上所述，提供步骤1中提供的制品由脆性材料制成。制品可以是平面（二维）制品或成形（三维）制品。在提供步骤1中可提供具有初始边缘强度的制品。在提供步骤1中可提供具有初始边缘形状的制品。若在提供步骤1与抛光步骤5之间没有中间过程，则第一边缘强度可与初始边缘强度相同。另一方面，若在提供步骤1与抛光过程5之间存在中间过程，则第一边缘强度可不同于初始边缘强度。例如，诸如切割、机械加工和离子交换之类的过程可导致第一边缘强度不同于初始边缘强度。

图1显示，在提供步骤1与抛光过程5之间可进行切割过程3。切割可通过与任务相适的许多工艺当中的任何工艺进行，例如机械分离、激光分离或超声分离。在机械分离中，制品通过机械方法划线，例如采用划线轮、水射流或磨料水射流。然后，沿着划痕线分离制品。在激光分离中，在边缘附近形成机械瑕疵，然后利用激光线源使机械瑕疵在热作用下横穿制品扩展，再利用通常由水喷雾产生的应力梯度将制品分离。在切割步骤3之后，可以有单一制品或多个制品。在后一种情况下，可在抛光过程5以及切割步骤3与抛光过程5之间的任何中间过程中处理所述多个制品中的一个或全部制品。每个制品将在具有第一边缘强度的情况下到达抛光过程5，所述第一边缘强度将被提高到第二边缘强度。

图1还显示，在提供步骤1与抛光过程5之间可进行修边过程7。在修边过程7中，可通过从边缘除去材料来修整制品边缘的形状和/或织构。在修边过程7中，可采用许多工艺中的任何工艺。例子包括但不限于研磨加工、磨料喷射加工、化学蚀刻、超声抛光、超声磨削、化学机械抛光。修边过程7可包括单一材料除去过程、一系列材料除去过程或者多个材料除去过程的组合。例如，修边过程7可包括一系列磨削步骤，其中对该系列步骤中每个步骤的磨削参数如磨削料的粒度加以改变，以便在每个步骤结束时得到不同的修边结果。由于下面给出的实施例中用到研磨加工工艺，研磨加工将在下文更详细地描述。

研磨加工可包括机械磨削、精研和抛光当中的一个或多个及其任意组合。在这些工艺涉及固体工具与处理表面之间接触的意义上，它们属机械工艺。磨削、精研和抛光各自可在一个或多个步骤中完成。磨削是固定磨料工艺，而精研和抛光是疏松磨料工艺。磨削可利用嵌在与金属轮粘合的金属或聚合物中的磨粒完成。或者，磨削可利用由研磨材料制成的可膨胀轮完成。在精研中，磨粒（通常悬浮在液体介质中）设置在精研机与制品边缘之间。精研机与制品边缘之间的相对运动从边缘上磨去材料。在抛光中，利用顺应性软垫或轮将磨粒（通常悬浮在液体介质中）施加到制品边缘。顺应性软垫或轮可用聚合物材料制成，例如丁基橡胶、硅树脂、聚氨酯和天然橡胶。研磨加工中使用的磨料可选自例如氧化铝、碳化硅、金刚石、立方氮化硼和浮石。

图1还显示，在提供步骤1与抛光过程5之间可进行化学强化过程19。代替在提供步骤1与抛光过程5之间进行化学强化过程，在提供步骤1中提供的制品可以是化学强化制品。在一个实施方式中，化学强化过程是离子交换过程。为了进行离子交换过程，在提供步骤1中提供的制品必须用可离子交换的材料制成。可离子交换的材料通常是包含碱金属的玻璃，其中较小的碱金属离子如Li⁺和/或Na⁺在离子交换过程中可被较大的碱金属离子例如K⁺交换。美国专利申请第11/888213号、第12/277573号、第12/392577号、第12/393241号和第12/537393号,以及美国临时申请第61/235767号和第61/235762号[全部转让给康宁有限公司（CorningIncorporated）]描述了合适的可离子交换玻璃的例子,这些文献的内容通过参考结合于此。这些玻璃可以在较低的温度下离子交换到至少30μm的深度。

例如，美国专利第5674790号（Araujo,Roger J.）描述了离子交换过程。该过程通常发生在不超过玻璃的转变温度的升高的温度范围内。通过以下方式进行该过程：将玻璃浸没在包含碱金属盐（通常是硝酸盐）的熔浴中，所述碱金属盐的离子大于所述玻璃中的主体碱金属离子。所述主体碱金属离子被交换为较大的碱金属离子。例如，可以将含Na⁺的玻璃浸在硝酸钾(KNO₃)熔浴中。熔浴中的较大K+将置换玻璃中的较小Na⁺。由于在之前被较小的碱金属离子占据的位点存在较大的碱金属离子，在玻璃表面处或表面附近产生压缩应力，在玻璃内部产生张力。在离子交换过程之后，将玻璃从熔浴中取出并冷却。离子交换深度（即侵入的较大碱金属离子渗入玻璃的深度）通常约为20-300μm，例如40-300μm，并通过玻璃组成和浸泡时间控制所述离子交换深度。

仅出于说明的目的提供以下实施例，这些实施例不构成对如上所述的本发明的限制。

实施例1

两步修边过程包括手工机械精研，然后用10μm氧化铝粒子进行机械抛光，共计进行1分钟。

实施例2

两步修边过程包括用800目金刚石粒子进行机械磨削，然后用3000目金刚石粒子进行机械磨削。

实施例3

三步修边过程包括用800目金刚石粒子进行机械磨削，然后用3000目金刚石粒子进行机械磨削，再用10μm氧化铝粒子进行机械抛光。

实施例4

四步修边过程包括用400目金刚石粒子进行机械磨削，接着用800目金刚石粒子进行机械磨削，再用1500目金刚石粒子进行机械磨削，然后进行3000目机械磨削，共计进行17分钟。

实施例5

五步修边过程包括用400目金刚石粒子进行机械磨削，接着用800目金刚石粒子进行机械磨削，再用1500目金刚石粒子进行机械磨削，再进行3000目机械磨削，然后用10μm氧化铝粒子进行机械抛光。

实施例6

抛光过程包括使用MPF进行MRF过程，所述MPF具有44-45cP（厘泊）的黏度，并且包含悬浮在液体介质中的羰基铁粒子和氧化铈粒子。其他工艺参数包括：MRF轮速为259rpm，电磁铁电流设定为18A，条带高度为1.5mm，边缘浸入深度为0.5-0.75mm。利用MRF除去材料的量约为每侧除去0.5μm材料。

实施例7

抛光过程包括使用MPF进行MRF过程，所述MPF具有44-45cP的黏度，并且包含悬浮在液体介质中的羰基铁粒子和金刚石粒子。其他工艺参数包括：MRF轮速为259rpm，电磁铁电流设定为18A，条带高度为1.5mm，边缘浸入深度为0.5-0.75mm。利用MRF除去材料的量约为每侧除去0.5μm材料。

实施例8

利用激光分离法切割市售离子交换玻璃片。每块初切玻璃片的尺寸为60.75mmx44.75。机械磨削之后、MRF之前得到的每块玻璃片的尺寸为60mmx44mm。通过激光分离法切割之后，每块玻璃片的平均边缘强度在600-900MPa的范围内。按照实施例5对玻璃片进行修边过程。每块玻璃片在修边之后的平均边缘强度（即第一边缘强度）在242-299MPa的范围内。修边之后，按照实施例6利用MRF将玻璃片抛光1、5或15分钟。玻璃片在MRF之后的边缘强度（即第二边缘强度）报告于下表1。通过水平四点弯曲法测量边缘强度。结果显示，MRF提高了玻璃片的边缘强度。

表1

实施例9

通过激光切割法将市售可离子交换玻璃片切割成多块玻璃片。每块初切玻璃片的尺寸为60.75mmx44.75。机械磨削之后、MRF之前得到的每块玻璃片的尺寸为60mmx44mm。激光切割之后，每块玻璃片的平均边缘强度在600-900MPa的范围内。按照实施例4对玻璃片进行修边过程。修边之后，按照实施例7利用MRF对小玻璃片进行抛光。玻璃片在研磨加工和MRF之后的边缘强度报告于下表2。通过水平四点弯曲法测量边缘强度。同样，玻璃片在MRF之后的边缘强度得到提高。

表2

实施例10

利用机械分离法切割市售离子交换玻璃片。按照实施例4对所得的玻璃片进行修边过程。修边之后，按照实施例7利用MRF对玻璃片进行抛光。玻璃片在修边和MRF之后的边缘强度报告于下表3。通过水平四点弯曲法测量边缘强度。同前面的实施例一样，MRF之后的边缘强度得到提高。

表3

实施例11

利用激光分离法切割市售离子交换玻璃片。按照实施例1对所得的玻璃片进行修边过程。修边之后，按照实施例7利用MRF对玻璃片进行抛光。玻璃片在修边和MRF之后的边缘强度分别报告于下表4。通过水平四点弯曲法测量边缘强度。

表4

实施例12

利用激光分离法切割市售离子交换玻璃片。按照实施例3对所得的玻璃片进行修边过程。修边之后，按照实施例7利用MRF对玻璃片进行抛光。玻璃片在修边和MRF之后的边缘强度分别报告于下表5。通过水平四点弯曲法测量边缘强度。

表5

实施例13

利用激光分离法切割市售离子交换玻璃片。按照实施例2对所得的玻璃片进行修边过程。修边过程之后，按照实施例7利用MRF对玻璃片进行抛光。玻璃片在修边和MRF之后的边缘强度分别报告于下表6。通过水平四点弯曲法测量边缘强度。

表6

实施例14

利用激光分离法切割市售离子交换玻璃片。激光分离之后，按照实施例7利用MRF对切割的玻璃片进行抛光。玻璃片在激光分离和MRF之后的边缘强度分别报告于下表7。通过水平四点弯曲法测量边缘强度。

表7

当在MRF之后观察到负面影响时，其可能的解释如下：在前面进行的任何机械边缘处理之后，MRF很有可能提供正面影响或没有影响。用来确定MRF处理之前的强度的样品用四点弯曲法进行了破坏性分析。因此，这些样品代表后续样品在用MRF处理之前的强度。在MRF步骤之前，同一批次样品中的强度变化很有可能造成MRF之前的未测强度较低，由此造成MRF步骤之后的强度较低。

所产生的MRF边缘如图3中数据22所示，显示了为如本文所述利用MRF方法获得高强度边缘而进行的工艺优化。所示数据的单位是MPa（兆帕）。在图3中，B10等于561MPa。对于按照示例性MRF方法制备的MRF边缘，30个数据点中有10个数据点大于1GPa（吉帕）。该过程包括用来最大程度减少与表面瑕疵有关的破裂的火焰表面处理，用于机械磨削的表皮涂覆，以及最大程度减少操作和精整瑕疵的软MRF卡盘接触。图3中的数据20说明了与图3中代表迄今为止边缘强度的最佳MRF输出结果的数据22一起输入的最佳机械结果。目前，示例性MRF方法产生了许多等于玻璃表面强度的边缘强度。

尽管已经就有限数量的实施方式描述了本发明,但是本领域技术人员在了解本发明的益处的基础上可以理解，在不偏离本文所揭示的本发明范围的前提下，可以设计出其他的实施方式。因此，本发明的范围应仅由所附权利要求书限定。

Claims (20)

1.一种制备边缘强化制品的方法，包括：

利用磁流变精整法对具有第一边缘强度的制品边缘进行抛光，其中制品在抛光之后具有第二边缘强度，所述第二边缘强度大于所述第一边缘强度。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述抛光包括多个磁流变精整步骤。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括在抛光之前提供具有初始边缘强度的制品，所述初始边缘强度不同于所述第一边缘强度，所述初始边缘强度与所述第一边缘强度的差异至少部分起因于以下操作之一：切割制品，修整制品边缘的形状和/或织构，对制品进行化学强化。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括在抛光之前切割制品。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括在抛光之前修整制品边缘的形状和/或织构。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括在抛光之前或之后对制品进行离子交换处理。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述抛光之前，对制品边缘进行切割，并在切割之后修整制品边缘的形状和/或织构，所述修整包括选自机械磨削和机械抛光的多个处理步骤。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，抛光制品边缘包括对磁流变抛光流体施加磁场，使磁流变抛光流体硬化；使所述边缘接触硬化的磁流变抛光流体；以及使所述边缘与所述硬化的磁流变抛光流体发生相对运动。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述磁流变抛光流体包含蚀刻剂。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述制品包含选自玻璃、玻璃陶瓷和陶瓷的材料。

11.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述制品包含选自玻璃、玻璃陶瓷、陶瓷、硅和半导体的材料。

12.一种磁流变抛光流体，包含：

包含pH≤5的蚀刻剂的液体载剂；

悬浮在所述液体载剂中的可磁化粒子；以及

悬浮在所述液体载剂中的磨粒。

13.如权利要求12所述的磁流变抛光流体，其特征在于，所述蚀刻剂包含酸。

14.如权利要求12所述的磁流变抛光流体，其特征在于，所述可磁化粒子包含尺寸在1-150μm范围内的粒子。

15.如权利要求12所述的磁流变抛光流体，其特征在于，所述可磁化粒子被包封。

16.一种磁流变抛光流体，包含：

包含pH≥10的蚀刻剂的液体载剂；

悬浮在所述液体载剂中的可磁化粒子；以及

悬浮在所述液体载剂中的磨粒。

17.如权利要求16所述的磁流变抛光流体，其特征在于，所述蚀刻剂包含碱金属盐。

18.如权利要求16所述的磁流变抛光流体，其特征在于，所述蚀刻剂是碱金属氢氧化物或者包含碱金属氢氧化物的配混物。

19.如权利要求18所述的磁流变抛光流体，其特征在于，所述可磁化粒子包含尺寸在1-150μm范围内的粒子。

20.如权利要求16所述的磁流变抛光流体，其特征在于，所述可磁化粒子被包封。

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