CN102917780A - 用于静态混合或者弥散的混合元件或者弥散元件以及用于静态混合或者弥散的方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种混合元件或者弥散元件（1、10、30、40、50、60、70），其包括通道（2），在所述通道中布置有包含泡沫结构的插入元件（3、4、33、34）。除了用于微混合或者弥散的插入元件（3、4、33、34），在通道（2）中还布置有用于宏混合或者用于预弥散或者用于宏弥散的静态混合元件（5、6、35、36）。此外本发明还描述了一种用于利用这种混合元件或者弥散元件产生弥散的方法。

Description

用于静态混合或者弥散的混合元件或者弥散元件以及用于静态混合或者弥散的方法

本发明涉及一种静态混合元件或弥散元件以及一种用于混合和/或弥散液体、悬浮液、气体或者液体和气体的方法。

在不同的使用情况中必须将液体和/或气体进行混合和/或弥散。具有根据文献DE 22 05 371或者根据文献CH 642 564设计的静态混合元件的静态混合器以公开的方式很好地适合于这一方法步骤。

静态混合器由定向布置的粗结构化的混合结构，如接片、通道和板构成。所述静态混合器在液体、悬浮液和气体流过时通过形成涡流以及形成层而产生混合作用和弥散作用。当具有任意布置的横截面的混合结构的截面数量最多为20时，将这种混合结构称之为粗结构化的。横截面垂直于静态混合器的纵轴，也就是垂直于主流动方向布置。

为了利用静态混合器实现良好的混合效果和/或弥散效果，以及特别是在反应时实现良好的物质转换，根据所期望的结果需要一定数量的混合元件、一定的停留时间和一定的剪切输入（Schereintrag）。这些于是形成了需要的结构长度和需要的能量输入。当然对于给定的任务来说，无论是能量输入还是静态混合器的结构长度都应保持尽可能地小。纯静态混合器的能量输入和结构长度取决于它们的几何形状。在所有的情况中，能量输入以及结构长度对于相应的混合任务来说相对较大。

为了使这样的静态混合器的结构长度和能量输入最优化，也建议将混合器与不同比例尺寸的混合元件相组合，这例如在文献WO 201 1066 6457中示出。虽然通过此措施混合器的效率有所改善，但是由于必须制造多个不同的混合元件而费用很高，特别是当混合元件具有小规模的混合结构时。

为了进行混合、弥散并且为了进行热交换也建议提供敞开气孔的、非结构化的和精细网格的泡沫结构，像例如在文献DE 103 27 986 A1中所公开的那样。这些结构的突出之处在于，每体积单元具有大的表面。取决于大的接触表面，在微区域中的混合、弥散和热交换非常良好并且有效。所谓微区域应理解为混合器横截面的一部分，这一部分的特征在于局部地限定在微区域上的混合作用。通常微区域小于横截面的25%。所谓宏区域应理解为整个混合器横截面，该混合器横截面的特征在于在整个混合器横截面上扩展的混合作用。

然而泡沫结构的一大缺点在于，不定向的结构会产生很差的横向输送，并且只能不足地并且缓慢地降低如此大空间的浓度差和温度差。当要在整个横截面上实现均匀的混合、弥散、乳化（Emulsion）和温度时，则需要相对较长的大容积的安装元件，所述安装元件也产生相对较高的压力损失。在这种情况中，不同的气孔尺寸的泡沫结构的组合也可以改进效率，其中，横向交换不足的基本问题仍然没有得到解决。

本发明的任务是，以尽可能小的能量输入和尽可能短的结构长度实现液体、悬浮液、气体或者液体和气体的混合、弥散或者反应。

本发明的任务通过一种混合元件或者弥散元件来解决，所述元件包括通道，在所述通道中布置有包括泡沫结构的插入元件。附加地在该通道中还布置有用于宏混合或者预弥散或者用于宏弥散的静态混合元件，其中，该静态混合元件优选至少部分地布置在插入元件的上游。

在本申请中，所谓宏混合应理解为在混合元件或者弥散元件的横截面的大部分中所发生的大规模的混合。至少一种不可混合的第二流体分布在第一流体中就叫做弥散（Dispergierung）。第一流体形成第一相，第二流体形成第二相。所谓的预弥散（Vordispergierung）可理解为将不可混合的第二相分解为典型地大于1毫米的相对较大的液滴，这些液滴分布在混合元件或者弥散元件的整个横截面上。所谓的宏弥散可以理解为所存在的液滴均匀地分布在混合元件或者弥散元件的整个横截面上。

优选将静态混合元件设计为第一静态混合元件，并且将至少一个第二静态混合元件布置在插入元件的下游。

为了实现更好的弥散，可在第二静态混合元件的下游布置至少一个第二插入元件。

按照一种替代的实施例所述静态混合元件中的至少一个包括插入元件。

在插入元件之间或者所述第一或第二插入元件中的至少一个与静态混合元件之间可以形成间隙。

特别是插入元件可以包括泡沫结构，所述泡沫结构是敞开气孔的。所谓的敞开气孔的泡沫结构在下面应理解为这样一种泡沫结构，即在这种泡沫结构中单个的气孔不是通过壁彼此隔开的。这些气孔可看作孔或者空腔。在相邻的气孔之间存在着大的开口，流体可流过这些开口。对于敞开气孔的泡沫结构来说，实际上完全取消了气孔之间的壁。在这些壁中的开口是如此大，从而壁还只剩下接片，所述接片形成相邻的气孔的边缘边界。当然可以布置多个接片。

泡沫结构可以包括金属、金属合金、特别是铝合金、陶瓷、玻璃、碳和/或塑料。这种泡沫结构具有如下优点：其具有很大的内表面，所述大的内表面能够用于破碎和粉碎相界。

泡沫结构可以具有直至包括100 PPI在内的气孔尺寸。PPI是用于表示泡沫结构的气孔尺寸的通常尺度。它是“Pores per lnch”（每英寸的气孔）的缩写。特别优选所述气孔尺寸处于10PPI直到包括100 PPI在内的范围中。

用于弥散元件的泡沫结构的自由容积比例为40%直到97%，优选从50%直到95%。

可借助不同的方法制造泡沫结构。例如在第一方法步骤中，可将敞开气孔的聚氨酯泡沫（Polyurethanschaum）用作模具（Vorlage）。使用聚氨酯泡沫的主要优点在于，能够工业制造地定义最为不同的形状和气孔尺寸。在第二方法步骤中可以由聚氨酯泡沫以去除的形式制造用于轻金属铸件铸模。这种铸模包括所期望的泡沫结构。在用于生产泡沫结构的工业中也使用了CVD技术或者其它以作为先导方法的聚氨酯泡沫为基础的方法。此外其它不同的、用于制造敞开气孔的泡沫结构的方法也在研发之中，或者已经投入使用。替代地泡沫结构也可由计算机支持地借助快速制造技术由不同的材料、特别是由上述材料制成。所谓快速制造可以理解为一种工艺过程，在这种工艺过程中空间几何形状是通过一层一层地构造实现的，其中，所述层优选是通过熔化粉末产生的。

令人惊讶地，通过使用泡沫结构并结合用于混合和/或弥散的静态混合器，与传统的静态混合器相比所必需的输入的功率和输入能量最多可减少80%。由此可以制造出紧凑的混合元件或者弥散元件。其中紧凑意味着，与纯静态混合元件的长度相比较可减小混合元件或者弥散元件的长度。长度的减小能够处于10%和60%之间。所得到的泡沫结构优选具有长度L和直径D，其中，L/D之比小于5、优选小于3、特别优选小于2。令人惊讶地，利用小于5的L/D之比并结合静态混合元件成功地产生与利用由现有技术公开的静态混合元件一样的相同质量的混合和弥散。

混合元件或者弥散元件特别适合产生混合、乳化、弥散或者起泡。在本申请中弥散的概念是用于以下的系统，即在这样的系统中液滴和/或气泡的尺寸大于大约50至100微米。乳化的概念用于具有更小的液滴和/或气泡的系统。

每个插入元件可以含有具有不同气孔尺寸的泡沫结构。所述泡沫结构优选包括金属、金属合金、陶瓷、玻璃、碳和/或塑料。

按照前述实施例中任一个所述的混合元件或者弥散元件也可包含调温介质。例如通道就能够配备调温介质，或者被调温介质包围。

混合元件或者弥散元件的至少一部分可设计为催化器表面、特别是设计为水解催化剂表面。

混合元件或者弥散元件或者能够用于处理已经预混合的或者预弥散的流体系统，或者能够在处理时对有待混合的或者有待弥散的液体进行配量。如果对所述有待混合的或者有待弥散的流体进行配量，能够将至少一个配量元件通入到布置有混合元件或者弥散元件的通道中。所述配量元件用于将流体输入到在通道中流动的第一液体中。所述流体可以是气体或者第二液体。特别是所述流体和第一液体以相同流动方向流过通道。

配量元件有利地布置在弥散元件的上游。也可将配量元件安装到弥散元件中。为了均匀地分布待弥散的相也可以将多个配量元件通入到所述通道中或者安装在所述弥散元件中。

配量元件可设计成具有配量开口的管道。配量开口例如可设计为喷嘴。在配量开口的区域中可以设置弯曲部，这样，有待弥散的相就可最佳地分布在弥散元件中。为了使有待弥散的相能更好地分布，输入管道可以提供多个配量元件，从而就可以提高布置在通道中的、用于有待弥散的相的供给点的数量。

根据本发明的用于产生混合或者弥散的方法包括下述步骤：在第一步骤中同时将第一流体和第二流体导入到通道中；其中，在第二步骤中在混合元件或弥散元件中第一流体与第二流体接触；其中，所述混合元件或弥散元件包含用于微混合或者弥散的插入元件，所述插入元件包含泡沫结构，所述泡沫结构布置在通道中，以及附加地在通道中布置有用于宏混合或者用于预弥散或者用于宏弥散的静态混合元件；并且其中，所述第一流体和第二流体同流向地流过混合元件或者弥散元件以及插入元件，由此使所述第二流体和第一流体混合或者弥散。

所述第一流体可以是第一液体或者第一气体，并且所述第二流体可以是第二液体或者第二气体。

用于产生混合或者弥散的方法例如对于产生弥散或者乳化来说使用在食品、家用产品或者化妆品中。对于产生用于反应的较大的表面、在液体中溶解气体、例如像通过臭氧对水进行处理来说，也需要弥散。本方法也特别适合于具有较大粘度差和/或具有显著不同的体积流量比例的液体的混合，或者适合于具有较差浸湿度的液体的混合。气体可以通过添加洗涤液进行有效的净化，且压力损失也很低。也可以借助喷嘴将液体喷射到气流中，并且利用一种装置快速而全部地被汽化。

下面借助附图对本发明进行解释。附图示出：

图1是具有泡沫结构的插入元件的示意图；

图2是按照第一实施例根据图1的、具有插入元件的混合元件或弥散元件；

图3是插入元件的敞开气孔的泡沫结构的细节图；

图4是按照第二实施例的混合元件或者弥散元件的剖面图；

图5是按照第三实施例的混合元件或者弥散元件的剖面图；

图6是按照第四实施例的混合元件或者弥散元件的剖面图；

图7是按照第五实施例的混合元件或者弥散元件的剖面图；

图8是按照第六实施例的混合元件或者弥散元件的剖面图。

根据图1的混合元件或者弥散元件1包括通道2，在所述通道中布置有包含泡沫结构的插入元件3。在图1中部分剖开地示出所述通道，从而可以看到插入元件。根据图1的插入元件全部由泡沫结构构成。必要时泡沫结构可以由外罩元件包围，以便容易地安装到通道2中。

根据图1的通道2是作为具有圆形的横截面的管道示出的。当然所述通道也可以具有任意其它的横截面形状、特别是可以设计为矩形。

在图2中示出了混合元件或者弥散元件10。所述混合元件或者弥散元件同样包括通道2，在所述通道中布置有第一和第二插入元件3、4。在所述第一和第二插入元件3、4之间设置有第一静态混合元件5，所述静态混合元件是按照文献CH 642 564设计的。此外还示出了第二静态混合元件6，它的内装部件（Einbauten）基本与文献DE 22 05 371相对应。第一静态混合元件5直接与第一以及第二插入元件邻接地布置。第二静态混合元件6与第二插入元件4间隔距离地布置。

在图中未示出将流体引入到流过通道2的液体中的配量元件。例如在文献EP 1 956 206 A2中示出了这种类型的配量元件。

这个实施例只是示例性地示出了混合元件或者弥散元件以及用于形成混合单元或者弥散单元的静态混合元件的一种可能的结构，但是绝不能将本发明视为仅局限于这个实施例。

图3示出了泡沫结构的一个实施例，这个泡沫结构是敞开气孔的。在图3中所示出的截取区段例如可以集成到根据图1或图2的泡沫结构其中之一中。所述气孔是孔或者空腔，在图3中通过角点11、12、13、14、15、16、17、18、19、20限定这些孔。各个气孔不是通过壁彼此分开的。例如将表面设计为开口21，所述表面是由角点11、12、13、14、15撑起的。该开口21位于上述的气孔和在图中未示出的、位于图纸平面前面的气孔之间。流体可通过这些孔流过相邻的气孔。开口21通过接片22、23、24、25、26限定，这些接片形成相邻的气孔的边缘限定部。

实践表明，在同向流动运行时使用用于微混合和/或弥散的泡沫结构几乎不会出现固有的分布不均匀现象（Maldistribution），并且泡沫结构的大的内表面导致非常有效的微混合和弥散。微混合被定义为一种限定在微区域上的混合作用。所谓微混合因此可以理解为一种带状（zonar）限定的混合，这种混合不在混合元件或者弥散元件的整个横截面上发挥作用。其中不均匀的分布应理解为不均匀的混合。当人们切开弥散部件的横截面时可以看到在充分混合的区域中夹杂有混合不足的区域。也就是说，对于该横截面的一些部分来说其混合程度在期望值以下，也就是说这个区域是混合程度不足的区域，对于该横截面的另一些部分来说，其混合程度是符合期望值的或者超过期望值，也就是说它是一个具有足够混合度的区域。

仅仅利用泡沫结构不能实现大规模的混合，因为泡沫结构是不定向的。所谓大规模的混合在此可以理解为一种混合过程，在这种混合过程中流体或者气体通过较大的距离垂直于主流动方向运动，并且通过流体或者气体的这种运动可均衡在垂直于主流动方向的平面中、在流体或者气体中的各个组分的分布的不均匀性。因此，用于大规模的混合和预弥散的经典静态混合元件和用于微混合和精细弥散的泡沫结构的组合是有利的。所谓精细弥散可理解为微弥散的效果，也就是说存在一种弥散或者乳化，在这种弥散或者乳化中弥散的相位的最大的滴尺寸为小于2毫米、优选小于1毫米。通过不同的气孔尺寸的泡沫结构的组合也不能实现足够大规模的混合。

也可以使用球形填料，所述球形填料同样是敞开气孔的。球形填料和前面所述的泡沫结构的主要区别在于，球形填料通常具有25%到40%的自由容积，并且因此具有明显更差的相对于表面的体积比例，以及更大的压力损失。所述的泡沫结构具有从40%直到包括97%在内的自由容积。

图4示出按照本发明的第二实施例的混合元件或者弥散元件30，所述混合元件或者弥散元件具有静态混合元件5和插入元件3。流动通道2为此沿着它的纵轴线被切开地示出。静态混合元件5包括接片元件的第一结构7和接片元件的第二结构8。每两个相邻的接片元件或者是属于第一结构7，或者是属于第二结构8。每个第一或者第二结构可包含多个接片元件，这些接片元件表示流体流动的障碍物，流体围绕着所述接片元件流动，由此流体流动会发生偏转和/或形成涡流。通过流动的这种偏转和/或形成涡流进行充分的混合。特别是可按照文献CH 642 564或者文献EP 0 526 392 A1设计这些接片元件。穿流方向根据使用情况可首先穿过混合元件，然后穿过泡沫结构，或者所述穿流方向沿相反方向穿过。

在静态混合元件的下游布置插入元件3，所述插入元件按照图1到图3其中之一进行设计。

图5示出本发明的第二实施例的混合元件或者弥散元件40，所述混合元件或者弥散元件具有静态混合元件5和插入元件3。所述插入元件3布置在静态混合元件5的下游。在插入元件3的下游布置有另一静态混合元件6。所述静态混合元件6可以具有和静态混合元件5相同的构造。所述静态混合元件特别是能够如图4中那样设计。替代地，静态混合元件6和/或静态混合元件5也可以具有其它的结构形式，例如像在图2中所示出的静态混合元件6那样。

图6示出本发明的第四实施例的混合元件或者弥散元件50。所述混合元件或者弥散元件具有第一静态混合元件5和第一插入元件3。所述插入元件布置在第一静态混合元件5的下游。紧接着第一插入元件3、也就是在其下游布置有第二静态混合元件6。在静态混合元件6的下游布置有第二插入元件4。在第二插入元件4的下游布置有第三静态混合元件35，并且在该第三静态混合元件的下游布置有第三插入元件33。当然，也能够以分别交替的次序布置其它静态混合元件和/或插入元件。也能够形成至少两个为一组的插入元件，这些插入元件可紧接着一个或者至少两个为一组的静态混合元件布置。

当然，这些静态混合元件中的至少一个也可以相对于其它静态混合元件其中之一成一定角度地布置。特别是第一静态混合元件的位置可以相对于第二静态混合元件围绕通道的纵轴线旋转90°地布置。

图7示出本发明的第五实施例的混合元件或弥散元件60。该弥散元件具有与图6所示的静态混合元件5、6、35相同的结构以及具有与图6所示的插入元件3、4、33相同的结构。然而，插入元件33距静态混合元件35有间距。为了在所述静态混合元件的下游提供更长的混合段，设置这种类型的间距能够是有利的，从而混匀各个流体支路，所述流体支路通过流体流动的、沿着所述接片元件的第一和第二结构7、8的表面的偏转形成。

当然，所述间距也可以设置在混合元件或弥散元件60的每个其它的位置上。也可在前面所述的实施例的混合元件或者弥散元件1、10、30、50中或者说在下面所述的实施例的弥散元件70中设置相应的间距。

图8示出了根据本发明的第七实施例的混合元件和弥散元件70。所述混合元件或弥散元件70包括四个串联布置的静态混合元件5、6、35和36。这些混合元件中的一个、在此是静态混合元件36，安装到插入元件34中。流体混合物由此同时流过所述静态混合元件36和插入元件34。由此将静态混合元件的作用方式和插入元件的作用方式组合起来，也就是说，同时出现由于布置静态混合元件的接片元件而使流动发生大规模的转换，并且出现由于插入元件34所造成的微混合或者弥散。

图8附加地示出通道9，调温介质27可在所述通道中流动。通道9包围着流体混合物流过的通道2。通道9特别是可以环形地设计。也就是说，所述通道作为另一壳体元件31包围着壳体元件29的外壳表面。在此，壳体元件29和壳体元件31优选设计为管道。替代地为此能够在限定通道2的壳体元件29的外壳表面上布置多个通道，在图中未示出这样的实施例。

根据图8调温介质27相对于流体混合物28反流向流动，替代地也可以同流向流动或者交叉流动。

所示出的是，混合元件与具有敞开气孔的泡沫结构的插入元件的组合会形成非常短的并且高效能的装置，以进行用于弥散和乳化的混合以及用于热交换的混合。这些装置按照其设计任务（Aufgabenstellung）可明显地更短，并且也具有与仅仅静态混合元件或者仅仅由敞开的泡沫结构构成的插入元件相比明显更小的压力损失。其中，按照前述的实施例其中之一的弥散元件的第一部分在此优选通过在整个横截面上混合的静态混合元件构成。所述静态混合元件或者多个静态混合元件引起配量给流体流或者气体流组分的大规模的第一次混合或者弥散，以形成流体混合物。

优选使用1个到5个静态混合元件。然后，所述混合元件或者弥散元件1、10、30、40、50、60、70的插入元件优选由敞开气孔的精细格状的泡沫构成。在这种泡沫中流体混合物的预混合的或者预弥散的混合在较短的段上在微区域中强化地进一步混合或者弥散。所使用的泡沫结构优选具有大于70%、80%、90%的自由体积比例。

将混合元件或者弥散元件专门用于弥散时使用另一静态混合元件或者多个静态混合元件能够是有益的，以便能在整个通道横截面上均匀地分布形成的精细的气泡或者液滴。根据使用情况，例如在热交换或者在进行化学反应时布置多列静态混合元件和泡沫结构是有意义的。于是例如热交换器可以由具有双层外壳的管道构成，在这种管道中载热液体在其中循环。然后热能通过管壁输入或者排出。在由金属构成的泡沫结构布置在管道中的区域中，取决于良好的导热装置和泡沫结构的大的表面因此具有很高的热传导能力。在包含一个或者多个静态混合元件的区域中所产生的温度梯度又可在整个横截面上得到补偿，并且于是又提高了驱动的温度降。然后在接下来的具有泡沫结构的部段中这又导致很有效的热交换。对于热交换来说，混合元件也可以由载热介质流过的管道构成。

当在混合元件或者弥散元件中应进行化学反应时，多个串联布置的泡沫结构和静态混合元件会导致很短的停留时间和高的反应收获量（Reaktionsausbeute）。特别有利的是可将混合元件或者弥散元件用于气体/液体反应，所述反应在至少两个相中进行。所谓相在此应理解为各个组分的聚集态（Aggregatzustand）。一种组分例如可以是气态的、也就是气相，而另一种组分能够以液体的聚集态存在、也就是液相。

在所有的实施例中，泡沫结构的气孔尺寸优选小于两个相邻的接片元件之间的间距、板间距或者通道间距的1/5、特别是小于间距的1/10、特别优选小于间距的1/20。接片元件、板元件或者通道分别属于静态混合元件的第一结构7或者说第二结构8。

原则上，在相同的部段中也能够将静态混合元件与泡沫结构相组合，其中，混合元件中的中间腔室的至少一部分通过附加的泡沫结构进行填充。在混合元件和/或泡沫结构的各个段之间也可以存在空腔。不同气孔尺寸的泡沫结构的组合以及不同的混合元件以及不同标度的混合元件能够相组合。所述泡沫结构和混合元件可由不同的材料，例如金属、陶瓷、塑料制成。

所描述的混合元件或者弥散元件适用于混合、用于形成乳化、弥散、起泡和用于热交换。混合元件和泡沫结构的制造可通过传统方法进行，也可通过快速制造（Rapid Manufacturing）进行。所描述的混合元件或者弥散元件也能够非常成本低廉地制造。相对于根据现有技术的静态混合器，通过使用泡沫结构能够显著地减少静态混合元件的数量，这也明显地导致更小的压力损失。静态混合元件可附加地用作泡沫结构的支撑结构和固定结构。这特别是对于直径大于10厘米是有利的，因为在那里与管道直径相比泡沫结构可能相对较薄，并且应相应地进行支撑。优选最简单的办法是通过支撑元件进行固定。

Claims (15)

1.混合元件或者弥散元件（1、10、30、40、50、60、70），其包括通道（2），插入元件（3、4、33、34）布置在所述通道中，所述插入元件包含泡沫结构，其特征在于，用于宏混合或者用于预弥散或者用于宏弥散的静态混合元件（5、6、35、36）与至少一个用于微混合或者弥散的插入元件（3、4、33、34）组合地布置在所述通道（2）中。

2.按照权利要求1所述的混合元件或者弥散元件，其中，所述静态混合元件至少部分地布置在所述用于预混合和预弥散的插入元件的上游。

3.按照权利要求2所述的混合元件或者弥散元件，其中，所述静态混合元件构造为第一静态混合元件（5），并且至少一个第二静态混合元件（6、35、36）布置在所述插入元件（3、4、33、34）的下游。

4.按照权利要求3所述的混合元件或者弥散元件，其中，至少一个第二插入元件（4、33、34）布置在所述第二静态混合元件（6、35、36）的下游。

5.按照前述权利要求中任一项所述的混合元件或者弥散元件，其中，所述静态混合元件（36）中的至少一个包含插入元件（34）。

6.按照前述权利要求中任一项所述的混合元件或者弥散元件，其中，在所述插入元件（3、4、33、34）中的至少一个与所述静态混合元件（5、6、35、36）之间设计有间距。

7.按照前述权利要求中任一项所述的混合元件或者弥散元件，其中，所述泡沫结构的气孔尺寸小于所述混合元件的两个相邻的接片元件、板或者通道之间的间距的1/5、特别是小于间距的1/10、特别优选小于间距的1/20。

8.按照前述权利要求中任一项所述的混合元件或者弥散元件，其中，所述泡沫结构包括金属、金属合金、陶瓷、玻璃、碳和/或塑料。

9.按照前述权利要求中任一项所述的混合元件或者弥散元件，其中，所述泡沫结构具有直到包括100 PPI在内的平均气孔尺寸、优选具有从10PPI直到包括100 PPI在内的平均气孔尺寸。

10.按照前述权利要求中任一项所述的混合元件或者弥散元件，其中，所述泡沫结构具有从40%直到97%的、优选从50%到95%的自由容积。

11.按照前述权利要求中任一项所述的混合元件或者弥散元件，所述混合元件或者弥散元件包含调温介质。

12.按照前述权利要求中任一项所述的混合元件或者弥散元件，所述混合元件或者弥散元件至少部分地构造为催化器表面、特别是构造为水解催化器表面。

13.按照前述权利要求中任一项所述的混合元件或者弥散元件，其中，设置至少一个配量元件以将流体输入到所述通道（2）中。

14.按照权利要求13所述的混合元件或者弥散元件，其中，所述配量元件布置在所述插入元件（3、4）的上游。

15.用于产生弥散的方法，其中，在第一步骤中同时将第一流体和第二流体导入到通道中；其中，在第二步骤中在混合元件或者弥散元件中所述第一流体与所述第二流体接触；其中，所述混合元件或者弥散元件包含用于微混合或者弥散的插入元件，所述插入元件包含泡沫结构，所述泡沫结构布置在所述通道中，以及附加地，在所述通道中布置有用于宏混合或者用于预弥散或者用于宏弥散的静态混合元件；并且其中，引导所述第一流体和所述第二流体同流向地流过所述混合元件或者弥散元件以及流过所述插入元件，由此使所述第二流体和第一流体混合或者弥散。

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