CN102863869A - 一种地坪用亚光型防静电溶剂环氧面漆 - Google Patents

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杨建明
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Abstract

本发明公开了一种地坪用亚光型防静电溶剂环氧面漆，其包括环氧树脂、二甲苯、甲基异丁酮、填料、色浆、消泡剂等助剂、导电粉、亚光助剂和聚酰胺环氧树脂固化剂，所述环氧树脂、二甲苯、甲基异丁酮、填料、色浆、消泡剂等助剂、导电粉、亚光助剂和聚酰胺环氧树脂固化剂的质量份比是30～50、5～15、5～15、5～15、15～25、1～3、5～15、0.5～2和20～40。通过上述方式，本发明能够使地面色泽统一，美观，防静电堆积产生安全事故，适用于半导体产业和精密行业，特别适合不需要反光作业的场所。

Description

一种地坪用亚光型防静电溶剂环氧面漆
技术领域
本发明涉及涂料生产技术领域，特别是涉及一种地坪用亚光型防静电溶剂环氧面漆。
背景技术
随着有机化学的技术发展，油漆制作调和技术也在不断地进步。根据一些使用场合和效果要求的不同，对油漆的制作要求也越发的高了。环氧面漆是由环氧树脂、颜料及有机溶剂研磨后加入配套固化剂而制成的双组份漆。普通的环氧面漆附着力不够，干涸后容易剥落；虽然抗腐，但能力相对差点；面对较强光线照射时极易反光。面对一些特殊的效果要求，例如：高机械性能，防静电等，普通的环氧面漆就远远达不到。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种地坪用亚光型防静电溶剂环氧面漆，能够地面色泽统一，美观，防静电堆积产生安全事故，适用于半导体产业和精密行业，特别适合不需要反光作业的场所。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种地坪用亚光型防静电溶剂环氧面漆，其包括环氧树脂、二甲苯、甲基异丁酮、填料、色浆、消泡剂等助剂、导电粉、亚光助剂和聚酰胺环氧树脂固化剂，所述环氧树脂、二甲苯、甲基异丁酮、填料、色浆、消泡剂等助剂、导电粉、亚光助剂和聚酰胺环氧树脂固化剂的质量份比是30～50、5～15、5～15、5～15、15～25、1～3、5～15、0.5～2和20～40。
优选的是，所述环氧树脂是601树脂。
优选的是，所述填料是重质碳酸碱。
优选的是，所述聚酰胺环氧树脂固化剂是115固化剂。
本发明的有益效果是：本发明一种地坪用亚光型防静电溶剂环氧面漆，能够地面色泽统一，美观，防静电堆积产生安全事故，适用于半导体产业和精密行业，特别适合不需要反光作业的场所。
具体实施方式
下面对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
本发明实施例包括：
一种地坪用亚光型防静电溶剂环氧面漆，其包括601树脂、二甲苯、甲基异丁酮、重质碳酸碱、色浆、消泡剂等助剂、导电粉、亚光助剂和115固化剂，所述601树脂、二甲苯、甲基异丁酮、重质碳酸碱、色浆、消泡剂等助剂、导电粉、亚光助剂和115固化剂的质量份比是30～50、5～15、5～15、5～15、15～25、1～3、5～15、0.5～2和20～40。
本发明一种地坪用亚光型防静电溶剂环氧面漆，能够地面色泽统一，美观，防静电堆积产生安全事故，适用于半导体产业和精密行业，特别适合不需要反光作业的场所。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (4)

1.一种地坪用亚光型防静电溶剂环氧面漆，其特征在于：其包括环氧树脂、二甲苯、甲基异丁酮、填料、色浆、消泡剂等助剂、导电粉、亚光助剂和聚酰胺环氧树脂固化剂，所述环氧树脂、二甲苯、甲基异丁酮、填料、色浆、消泡剂等助剂、导电粉、亚光助剂和聚酰胺环氧树脂固化剂的质量份比是30～50、5～15、5～15、5～15、15～25、1～3、5～15、0.5～2和20～40。
2.根据权利要求1所述的一种地坪用亚光型防静电溶剂环氧面漆，其特征在于：所述环氧树脂是601树脂。
3.根据权利要求1所述的一种地坪用亚光型防静电溶剂环氧面漆，其特征在于：所述填料是重质碳酸碱。
4.根据权利要求1所述的一种地坪用亚光型防静电溶剂环氧面漆，其特征在于：所述聚酰胺环氧树脂固化剂是115固化剂。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105368247A (zh) * 2015-10-15 2016-03-02 苏州拓科装饰工程有限公司 一种亚光防静电环氧漆

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C06 Publication
PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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