CN102842562A - 一种基于基板的wlcsp单芯片封装件及其塑封方法 - Google Patents

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郭小伟
刘建军
崔梦
谢建友
李万霞
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    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
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    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16245Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic

Abstract

本发明涉及一种基于基板的WLCSP单芯片封装件及其塑封方法,属于集成电路封装技术领域,基板上与金属凸点焊接区域镀有锡膏层,IC芯片的压区表面镀金属凸点,金属凸点与基板上锡膏层采用倒装芯片的方式用焊料焊接在一起,基板上依次是锡膏层、焊料、金属凸点上、IC芯片,塑封体包围了基板、锡膏层、焊料、金属凸点、IC芯片构成了电路的整体,IC芯片、金属凸点、焊料、锡膏层、基板构成了电路的电源和信号通道。本发明采用不同于以往的镀金属凸点,同时,利用焊料将芯片与框架管脚焊接,不用打线,直接完成了芯片与管脚间的导通、互连,具有低成本、高效率的特点。

Description

一种基于基板的WLCSP单芯片封装件及其塑封方法
技术领域
本发明涉及一种基于基板的WLCSP单芯片封装件及其塑封方法,WLCSP单芯片封装件镀有Au或Cu金属凸点和锡膏层,属于集成电路封装技术领域。
背景技术
微电子技术的迅猛发展,集成电路复杂度的增加,一个电子系统的大部分功能都可能集成在一个单芯片内(即片上系统),这就相应地要求微电子封装具有更高的性能、更多的引线、更密的内连线、更小的尺寸或更大的芯片腔、更大的热耗散功能、更好的电性能、更高的可靠性、更低的单个引线成本等。芯片封装工艺由逐个芯片封装向圆片级封装转变,晶圆片级芯片封装技术——WLCSP正好满足了这些要求,形成了引人注目的WLCSP工艺。
晶圆片级芯片规模封装(Wafer Level Chip Scale Packaging,简称WLCSP),即晶圆级芯片封装方式,不同于传统的芯片封装方式(先切割再封测,而封装后至少增加原芯片20%的体积),此种最新技术是先在整片晶圆上进行封装和测试,然后才切割成一个个的IC颗粒,因此封装后的体积即等同IC裸晶的原尺寸。WLCSP的封装方式,不仅明显地缩小产品尺寸,而符合行动装置对于机体空间的高密度需求;另一方面在效能的表现上,更提升了数据传输的速度与稳定性。传统的WLCSP工艺中,采用溅射、光刻、电镀技术或丝网印刷在晶圆上进行电路的刻印。以下流程是对已经完成前道工艺的晶圆进行WLCSP封装的操作步骤:
(1)隔离层流程(Isolation Layer)
(2)接触孔流程(Contact Hole)
(3)焊盘下金属层流程(UBM Layer)
(4)为电镀作准备的光刻流程(Photolithography for Plating)
(5)电镀流程(Plating)
(6)阻挡层去除流程(Resist Romoval)
传统WLCSP制作过程复杂,对电镀和光刻的精确度要求极高,且成本较高。
发明内容
本发明是针对上述现有WLCSP工艺缺陷,提出一种基于基板的WLCSP单芯片封装件及其塑封方法,WLCSP单芯片封装件镀有Au或Cu金属凸点和锡膏层,采用不同于以往的化学镀金属凸点、溅射、光刻、电镀或丝网印刷工艺的压焊的方式在芯片压区金属Al或Cu表面生成金属凸点,同时,利用焊料将芯片各凸点与框架管脚焊接,压焊时,不用打线,直接完成了芯片与管脚间的导通、互连,本单芯片封装件具有低成本、高效率的特点。
本发明采用的技术方案:一种基于基板的WLCSP单芯片封装件,镀有Au或Cu金属凸点4和锡膏层2,包括基板1、基板上锡膏层2、焊料3、金属凸点4、IC芯片5、塑封体6;基板1上与金属凸点焊接区域镀有锡膏层2,IC芯片5的压区表面镀金属凸点4,金属凸点4与基板上锡膏层2采用倒装芯片的方式用焊料3焊接在一起,基板1上是锡膏层2、锡膏层2上是焊料3、焊料3上是金属凸点4、金属凸点4上是IC芯片5,对IC芯片5起到了支撑和保护作用的塑封体6包围了基板1、锡膏层2、焊料3、金属凸点4、IC芯片5构成了电路的整体,IC芯片5、金属凸点4、焊料3、锡膏层2、基板1构成了电路的电源和信号通道。
一种基于基板的WLCSP单芯片封装件的封装方法;晶圆减薄→压焊植金属凸点→划片→框架对应区域镀锡膏层→上芯→回流焊→塑封→后固化→锡化→打印→产品分离→检验→包装→入库。
第一步、晶圆减薄;
晶圆减薄的厚度为50μm~200μm,粗糙度Ra 0.10mm~0.30mm;
第二步、镀金属凸点;
在整片晶圆上芯片压区金属Au或Cu表面镀2~50um金属凸点4;
第三步、划片;
150μm以上的晶圆采用普通划片工艺;厚度在150μm以下的晶圆,采用双刀划片机及其工艺;
第四步、框架对应区域镀锡;
在基板1上PAD对应区域镀上一层2~50um的锡膏层2;
第五步、上芯;
把IC芯片5倒过来,采用Flip-Chip的工艺,将IC芯片5上的金属凸点4焊在框架上;
第六步、回流焊;
采用SMT之后的回流焊工艺,经过融锡处理,把IC芯片5压区上的焊线与基板1焊接在一起;
第七步、塑封、后固化、打印、产品分离、检验、包装等均与常规工艺相同;
第八步、锡化。
所述的框架采用镍钯金框架则不需要进行锡化处理。
本发明的有益效果:
(1)采用镀金属凸点,不同于以往的化学镀金属凸点、溅射、光刻、电镀或丝网印刷工艺,具有低成本、高效率的特点。
(2)采用Flip-Chip的工艺,不使用DAF膜粘接,而是采用焊料将芯片各凸点与框架管脚焊接,压焊时,不用打线,在上芯中就已经完成了芯片与管脚间的导通、互连。
附图说明
图1为本发明的结构示意图;
图中:1-基板、2-基板上锡膏层、3-焊料、4-金属凸点、5-IC芯片、6-塑封体。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明做进一步说明,以方便技术人员理解。
如图1所示:一种基于基板的WLCSP单芯片封装件,镀有Au或Cu金属凸点4和锡膏层2,包括基板1、基板上锡膏层2、焊料3、金属凸点4、IC芯片5、塑封体6;基板1上与金属凸点焊接区域镀有锡膏层2,IC芯片5的压区表面镀金属凸点4,金属凸点4与基板上锡膏层2采用倒装芯片的方式用焊料3焊接在一起,基板1上是锡膏层2、锡膏层2上是焊料3、焊料3上是金属凸点4、金属凸点4上是IC芯片5,对IC芯片5起到了支撑和保护作用的塑封体6包围了基板1、锡膏层2、焊料3、金属凸点4、IC芯片5构成了电路的整体,IC芯片5、金属凸点4、焊料3、锡膏层2、基板1构成了电路的电源和信号通道。
实施例1
一种基于基板的WLCSP单芯片封装件,镀有Au或Cu金属凸点4和锡膏层2,其封装方法:按照下面步骤进行:
第一步、晶圆减薄;
晶圆减薄的厚度为50μm,粗糙度Ra 0.10mmmm;
第二步、镀金属凸点;
在整片晶圆上芯片压区金属Au表面镀金属凸点4;
第三步、划片;
厚度在150μm以下的晶圆,采用双刀划片机及其工艺;
第四步、框架对应区域镀锡;
在基板1上PAD对应区域镀上一层2um的锡膏层2;
第五步、上芯;
把IC芯片5倒过来,采用Flip-Chip的工艺,将IC芯片5上的金属凸点4焊在框架上;
第六步、回流焊;
采用SMT之后的回流焊工艺,经过融锡处理,把IC芯片5压区上的焊线与基板1焊接在一起;
第七步、塑封、后固化、打印、产品分离、检验、包装等均与常规工艺相同;
第八步、锡化。
实施例2
一种基于基板的WLCSP单芯片封装件,镀有Cu金属凸点4和锡膏层2,其封装方法:按照下面步骤进行:
第一步、晶圆减薄;
晶圆减薄的厚度为130μm,粗糙度Ra 0.20mm;
第二步、镀金属凸点;
在整片晶圆上芯片压区金属Cu表面镀金属凸点4;
第三步、划片;
厚度在150μm以下的晶圆,采用双刀划片机及其工艺;
第四步、框架对应区域镀锡;
在基板1上PAD对应区域镀上一层25um的锡膏层2;
第五步、上芯;
把IC芯片5倒过来,采用Flip-Chip的工艺,将IC芯片5上的金属凸点4焊在框架上;
采用SMT之后的回流焊工艺,经过融锡处理,把IC芯片5压区上的焊线与基板1焊接在一起;
第七步、塑封、后固化、打印、产品分离、检验、包装等均与常规工艺相同;
第八步、锡化。
实施例3
一种基于基板的WLCSP单芯片封装件,镀有Au或Cu金属凸点4和锡膏层2,其封装方法:按照下面步骤进行:
第一步、晶圆减薄;
晶圆减薄的厚度为200μm,粗糙度Ra 0.30mm;
第二步、镀金属凸点;
在整片晶圆上芯片压区金属Al或Cu表面镀金属凸点4;
第三步、划片;
150μm以上的晶圆采用普通划片工艺;
第四步、框架对应区域镀锡;
在基板1上PAD对应区域镀上一层50um的锡膏层2;
第五步、上芯;
把IC芯片5倒过来,采用Flip-Chip的工艺,将IC芯片5上的金属凸点4焊在框架上;
第六步、回流焊;
采用SMT之后的回流焊工艺,经过融锡处理,把IC芯片5压区上的焊线与基板1焊接在一起;
第七步、塑封、后固化、打印、产品分离、检验、包装等均与常规工艺相同;第八步、锡化。
实施例4
一种基于基板的WLCSP单芯片封装件,镀有Au或Cu金属凸点4和锡膏层2,若为镍钯金框架则不用做锡化处理。

Claims (3)

1.一种基于基板的WLCSP单芯片封装件,其特征在于:包括基板、基板上锡膏层、焊料、金属凸点、IC芯片、塑封体;基板上与金属凸点焊接区域镀有锡膏层,IC芯片的压区表面镀金属凸点,金属凸点与基板上锡膏层采用倒装芯片的方式用焊料焊接在一起,基板上是锡膏层、锡膏层上是焊料、焊料上是金属凸点、金属凸点上是IC芯片,对IC芯片起到了支撑和保护作用的塑封体包围了基板、锡膏层、焊料、金属凸点、IC芯片构成了电路的整体,IC芯片、金属凸点、焊料、锡膏层、基板构成了电路的电源和信号通道。
2.一种基于基板的WLCSP单芯片封装件的封装方法,其特征在于:封装方法具体按照下面步骤进行;
第一步、晶圆减薄;
晶圆减薄的厚度为50μm~200μm,粗糙度Ra 0.10mm~0.30mm;
第二步、镀金属凸点;
在整片晶圆上芯片压区金属Au或Cu表面镀2~50um金属凸点;
第三步、划片;
150μm以上的晶圆采用普通划片工艺;厚度在150μm以下的晶圆,采用双刀划片机及其工艺;
第四步、框架对应区域镀锡;
在基板上PAD对应区域镀上一层2~50um的锡膏层;
第五步、上芯;
把IC芯片倒过来,采用Flip-Chip的工艺,将IC芯片上的金属凸点焊在框架上;
第六步、回流焊;
采用SMT之后的回流焊工艺,经过融锡处理,把IC芯片压区上的焊线与基板焊接在一起;
第七步、塑封、后固化、打印、产品分离、检验、包装等均与常规工艺相同;
第八步、锡化。
3.根据权利要求2所述的一种基于基板的WLCSP单芯片封装件的封装方法,其特征在于:采用镍钯金框架不需要做锡化处理。
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Citations (3)

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CN102263078A (zh) * 2011-06-13 2011-11-30 西安天胜电子有限公司 一种wlcsp封装件
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