CN102822730A - 用于表面显示的增强的观看亮度 - Google Patents

Abstract

显示面板包括布置于衬底上的折射元件阵列。定位该阵列以接收第一强度轮廓的光并配置其以第二强度轮廓透射至少一些接收的光。显示面板还包括漫射体，其定位成接收由折射元件阵列透射的光并配置成以第三强度轮廓透射至少一些接收的光。第二强度轮廓比第一强度轮廓具有更低的正交于衬底的相对强度。

Description

用于表面显示的增强的观看亮度

背景技术

根据显示面板相对于一个或多个观看者的取向，可以从各种角度观看它。在观看显示面板的很多应用中，这样的取向落在可预见的范围之内。对于电视观看和计算机监视而言，例如，观看者可以直接坐在显示面板前方，或至少眼睛与显示面板同一高度。因此，可以将这些应用中使用的显示面板配置成在与显示面板表面正交的方向上发射最大光强，随着视角增大，强度各向同性地或各向异性地下降。不过，这样的配置在观看者眼睛不和显示面板平齐或未直接坐在显示面板前方的应用中可能分布可用光能的效率很低。

发明内容

因此，一个实施例提供了一种显示面板，包括布置于衬底上的折射元件阵列。定位该阵列以接收第一强度轮廓的光并配置其以第二强度轮廓透射至少一些接收的光。在这一实施例中，第二强度轮廓比第一强度轮廓具有更低的正交于衬底的相对强度，更高的斜交于衬底的相对强度。

将要理解，提供以上发明内容是为了以简化形式介绍稍后在具体实施方式中进一步描述的概念选择。并非要识别所要求保护主题的关键或必要特征，其范围由具体实施方式之后的权利要求界定。此外，所要求保护的主题不限于解决这里所述任何缺点的实施方式。

附图说明

图1示意性示出了涉及观看者和垂直取向的显示面板的参考布置。

图2示意性示出了根据本公开实施例，涉及观看者和水平取向大型显示面板的范例布置。

图3示出了根据本公开的实施例由显示面板发射的光的期望强度轮廓的曲线图。

图4示意性示出了根据本公开实施例用于显示面板的范例光学系统的各方面。

图5示意性示出了根据本公开实施例的光学系统角度扩展层的垂直截面。

图6示出了根据本公开实施例的光学系统的范例微结构折射器。

图7和8示出了根据本公开实施例的光学系统其他范例角度扩展层的垂直截面。

图9示意性示出了根据本公开实施例用于显示面板的另一范例光学系统的各方面。

具体实施方式

现在通过举例并参考某些例示的实施例描述本公开的主题。统一标识在一个或多个实施例中可能基本类似的部件。不过，将要指出，统一标识的部件也可能在某种程度上不同。进一步要指出，本公开中包括的附图是示意性的，一般不是按比例绘制的。相反，可以蓄意地改变图中所示的各种绘图比例、高宽比和部件数量以使某些特征或关系更容易看到。

图1示意性示出了涉及观看者10和垂直取向的显示面板12的参考布置。在图1中，观看者坐在显示面板的正前方。因此，可以针对垂直取向优化显示面板发射的光的强度轮廓。这里使用术语“强度轮廓”表示作为视角函数的光功率或通量。具体而言，可以将显示面板配置成正交于其前表面，即在相对于表面法线的0度，发射最大光强。这种配置能够通过将发射引导到可能被观看的角度范围中而有效利用可用光能。在这样的配置中，光强可能根据高斯或Lambertian轮廓或Lambertian轮廓的各向异性积随着视角增大而下降。例如，在垂直方向上，光强可能随着视角增大而急剧下降，在水平方向上随着视角增大更缓慢地下降。这是因为观看者正常情况下可能会从左侧或右侧观看垂直取向的显示面板，但不太可能从上方或下方观看。

原则上，可以将显示面板12用于它未垂直取向的应用中，即使针对垂直取向优化其照明轮廓。不过，显示面板相对于观看者的一些替代取向可能导致观看显示面板的角度范围上光强更低，使得可用光能的利用效率低。在图2中通过举例示出了这样的取向。

图2示意性示出了涉及观看者和显示面板的另一布置。在图2中，观看者10坐在大型水平取向的显示面板14旁边。显示面板的尺寸使得观看者通常相对于表面法线从倾斜的视角观看。在一个范例中，对于坐在舒适高度，距显示面板舒适距离处的平均身材的成年观看者而言，概率最大的视角可能是51度。当然，视角将随着观看者的身高和部署而变化——对于更高的观看者和站在显示面板旁边的观看者，小于51度，对于身材小的观看者，大于51度。在一个范例中，在考虑一定范围的观看者和观看者部署时，适当的视角可能落在20到70度范围中。因此，如下文进一步所述，显示面板14可以被配置成在这样的倾斜角度或角度范围发射最大光强。通过这种方式，可以优化显示面板以在水平取向时有效利用可用光能。将要理解的是，这里列举的数值和范围仅仅是范例，其他值和范围完全符合本公开。

图3的曲线图示出了范例强度轮廓，其可能是针对显示面板14发射的光所希望的轮廓。图示的强度轮廓是环形和扩散的，在距法线0度具有局部极小值，在距法线±，在本范例中±40度具有局部极大值。此外，强度轮廓之内的局部极大值大致是高斯型的，具有45度半高全宽（FWHM）。此外，从图3将注意到，在距法线90度处光强接近消失。为了避免显示面板部件中的反向散射和全内反射（TIR），这种特征是可取的，否则会引起照明伪像，例如“模糊现象”或“光晕”。当然，各种其他形状的期望强度轮廓也完全符合本公开。例如，另一种期望的强度轮廓可能没有局部极小值，而是在0度附近区间基本平坦。这样的强度轮廓可能允许水平和垂直形状因子之间有可行的性能折衷，以使得同一显示面板可能在两种情况下都一定程度上可高效率地使用。

相对于针对垂直取向优化的显示面板强度轮廓，图3中所示的强度轮廓在更大视角处提供了增加的相对强度。这种更大的视角在如图2所示取向的显示面板14的预期范围之内。在50和70度视角处，相对强度分别可以是针对垂直取向优化的显示面板的1.3和1.5倍。此外，图3中所示的强度轮廓在非常尖锐的视角提供了更小相对强度，不太可能从这样的角度观看显示面板14。例如，在0度视角处，相对强度可以是针对垂直取向优化的显示面板的0.1倍。

现在返回图2，显示面板14包括光学系统16。光学系统包括配置成在显示面板上形成显示图像的电子和光学部件的组件。此外，光学系统可以利用具有如上所述强度轮廓的光形成显示图像。图2还示出了操作性耦合到光学系统16的计算机系统18。可以配置计算机系统以向显示面板提供数据，用于形成显示图像。

在一些实施例中，光学系统16还可以包括配置成感测位于显示面板14上或附近的对象的成像堆栈。因此，计算机系统可以被配置成从成像堆栈接收输入数据。通过这种方式，光学系统可以为计算机系统18提供至少一些输入功能。在图2所示的实施例中，计算机系统包含在基座20之内，基座位于显示面板14下方；合起来，基座和显示面板包括控制台22。在其他实施例中，计算机系统的全部或部分可以位于远方并通过有线或无线通信链路操作性耦合到光学系统。在还其他的实施例中，计算机系统和光学系统都可以位于显示面板之内。

图4示意性示出了一个实施例中的光学系统16的各方面。光学系统包括图像投影仪24，其中布置了光源26。在一个实施例中，光源可以包括波长选择性元件，例如旋转棱镜或色盘，与任何适当的白光源组合，所述白光源例如弧光灯、白炽灯或冷阴极荧光灯（CCFL）。在其他实施例中，光源可以包括多个窄带光源，例如激光器或发光二极管（LED）。

图像投影仪24还包括布置成从光源接收光的图像形成矩阵28。图像形成矩阵可以是配置成在空间和时间上调制光以形成显示图像的任何适当部件。在图4所示的实施例中，图像形成矩阵是数字光处理（DLP）矩阵，其将来自光源的波长选择光分到多个像素中，有选择地将一些光从像素引导到成像光学系统30，并有选择地引导其他光从像素离开成像光学系统。其他实施例可以包括多个图像形成矩阵，配置成从多个窄带光源接收和引导光。在还其他的实施例中，图像形成矩阵可以包括与滤色器配对的光阀阵列。在这样的实施例中，图像形成矩阵可以被配置成有选择地透射来自像素的一些光，并有选择地吸收来自像素的其他光，由此形成显示图像。

继续参考图4，光学系统16包括准直层32。准直层可以是布置成从图像投影仪24接收光并准直其接收的光的任何适当光学层。在一个实施例中，准直层可以包括聚合物膜上支持的菲涅耳透镜或菲涅耳透镜阵列。在图4所示的实施例中，将准直层定位于图像投影仪24和角度扩展层34之间，从而以准直的形式将接收到准直层中的光引导到角度扩展层中。可以定位角度扩展层以从准直层接收准直光；可以配置它以期望的强度轮廓（例如图3中所示的强度轮廓）再次透射这样的光。

图5示意性示出了一个范例实施例中的角度扩展层34的垂直截面。角度扩展层包括微结构折射器36和漫射体38。微结构折射器被定位成接收第一强度轮廓的光（即来自准直层32的准直光）并被配置成以第二强度轮廓透射至少一些接收的光。

图6更详细地示出了微结构折射器36的一个实施例。在图示的实施例中，微结构折射器包括旋转三棱镜阵列，即六边形堆砌圆锥小透镜40的阵列。在本公开的各实施例中，阵列的节距，以及因此密度，可能会不同，并且可能取决于成像堆栈（参见下文）是否包括在光学系统中。具体而言，选择的节距可以足够小，以最小程度地干扰成像堆栈，同时不导致伪像，例如伪信号产生，出现在显示内容中。在一个实施例中，微结构折射器可以包括每平方厘米（cm²）600个圆锥形小透镜。这种小透镜密度可以适于提供显示像素尺寸d量级的节距，其中d=0.43mm；因此，在d=0.43mm时，可以使用320/cm²的小透镜密度。在将节距设置成显示像素尺寸三分之一的实施例中，小透镜密度可以高达5000/cm²。

在一个实施例中，每个圆锥形小透镜40都包含直立圆锥，其高度为h，并具有定义为椎体任何两条genatrix线之间的最大角度的孔径。在一个具体实施例中，h可以是0.46mm，可以是66.5度。更一般地，可以基于期望的最终光强轮廓，基于形成角度扩展层的材料折射率，基于漫射体38的光漫射能力，确定针对微结构折射器各元件的适当度量。通过这种方式，微结构折射器可以非常有效率地对其接收的光进行再分布。

继续参考图6，微结构折射器36的圆锥形小透镜40可以布置于，受支持于，并且在某些例子中形成于衬底层42上（中）。衬底层可以具有任何适当厚度t。在某些实施例中，整个微结构折射器（折射元件加衬底层）可以包括事先形成的聚合物膜。在一个具体实施例中，可以将这样的膜层压到漫射体38上。如图6中所示，圆锥形小透镜40的顶点取向远离衬底。更一般地，微结构折射器的任何折射元件的顶点都可以取向成远离衬底。

微结构折射器36透射其接收的光的第二强度轮廓与第一强度轮廓相比，可以具有正交于衬底层42更低的相对强度。因此，与第一强度轮廓相比，它可能具有斜交于衬底层的更高的相对强度。在一个实施例中，第二强度轮廓可以是环形的。此外，微结构折射器可以引导透射光通过明确的焦点；在一些实施例中可以利用这种性质增强显示面板拒绝环境光的能力，如下文进一步所述。

现在回到图5，漫射体38是定位成接收微结构折射器36透射的光并配置成以第三强度轮廓透射至少一些接收光的光学层。在第二强度轮廓是环形的实施例中，第三强度轮廓可以是漫射和环形的。通过这种方式，离开漫射体的光可以获得诸如图3所示的强度轮廓，其中斜交于显示面板14的强度是最强的强度。此外，漫射体可以带给角度扩展层34期望的环境光拒绝质量。这样的质量可以有效地隐藏光学系统16的各种内部结构，并可以减少来自环境光源的镜面反射。漫射体38可以通过任何适当方式耦合到微结构折射器36；例如，可以将其膜层压到微结构折射器，利用光学粘合剂、紫外线（uv）浇铸来结合，或通过多片模制来形成。

在图5所示的实施例中，漫射体38是体型漫射体，其中在三维体积之内分布多个折射和/或光散射元件。在一个范例中，体型漫射体可以包括柔性膜，其中分布并固定了密度受控的光散射元件，例如颗粒。通过这种方式配置，体型漫射体可以根据Henyey-Greenstein因子扩展所接收光的强度轮廓，它可以用相同的Henyey-Greenstein因子扩散入射的环境光。一种这样的体型漫射体是Fusion Optix公司的产品ADF4040（40度FWHM情况）。在其他实施例中，体型漫射体可以结合受控量的着色剂（即染料或其他可见光吸收物质），以用于增强对环境光的排斥。在还其他的实施例中，体型漫射体可以支持粗糙或带凹痕的上表面（即，面对观察者的表面），以进一步限制镜面反射并排斥环境光。

图7示意性示出了包括微结构折射器和体型漫射体的另一角度扩展层44的垂直截面。图7中所示的角度扩展层是单片式的，因为（如上文所述的）微结构折射器的圆锥形小透镜是直接模制到体型漫射体的表面（即，背离观看者的表面）上的。于是，漫射体可以就是布置圆锥形小透镜或其他折射元件的衬底。例如，可以通过模压在角度扩展层中形成这样的元件。在一个实施例中，可以不均匀地分布角度扩展层的光散射元件，例如，至少与其中形成的圆锥形小透镜部分地分离。

图8示意性示出了一个实施例中的另一角度扩展层46的垂直截面。在这里，在衬底层42的表面上布置多个折射和/或光散射元件48，由此形成表面起伏型漫射体50。这样的光漫射表面特征在一个实施例中可以包括凹或凸小透镜、小凹痕或凸块的周期性或非周期性阵列。在一个实施例中，可以直接向衬底层42上模制表面特征。例如，适当的模制技术包括热模制和紫外浇铸。在另一实施例中，具有这种特征的膜可以被层压到衬底层上，在其上轧制（例如，通过热压辊），或通过丝网印刷形成。可以通过轧制或丝网印刷涂布的表面特征包括白点、微点或漫射衬垫。在一个实施例中，这样的特征可以漫射可见光，但在红外线区中基本透明。

通过这种方式配置，表面起伏型漫射体50可以根据高斯型因子扩展显示图像光的强度轮廓并可以用相同的高斯型因子扩散环境光。在图8中所示的实施例中，在衬底层42上与漫射体相对地布置微结构折射器36。一种这样的表面起伏型漫射体是来自加利福尼亚Torrance的Luminit LLC的产品L45E5光成形漫射体（提供45度FWHM角分散）。

为了进一步增强角度扩展层46对环境光的排斥，在衬底层42上，与光漫射特征48一起布置不透明元件51的阵列。在图8中所示的实施例中，定位不透明元件，与微结构折射器36的顶点对准，以使得微结构折射器的圆锥形小透镜的焦点（或模糊圈）位于漫射体50平面中或附近和相邻不透明元件之间。这种方法允许通过焦点低损耗地透射显示光，同时通过吸收照射这些区域的环境光，减少焦点之间环境光的反射。原则上，可以通过这种方式将总体环境光反射减少等于漫射体透明与不透明区比例的倍数，在某些范例中为1：4。因此，可以显著改善环境光的排斥，而不劣化照明强度。这种方法需要相对于微结构折射器的顶点精确定位不透明元件。可以通过图案化掩蔽工艺实现这样的精确度。可以通过任何适当的模制工艺形成掩模——在一个范例中为自对准荫罩工艺。

在一个实施例中，不透明元件51可以是黑色的。在另一实施例中，不透明元件可以对可见光不透明，但至少对红外光部分透明。这种变体尤其适于如下所述的光学系统实施例，其包括位于角度扩展层上方的基于红外线的成像堆栈。

在这些和其他实施例中，希望将角度扩展层34设计得足够厚以便相当鲁棒。为了维持平衡然而提高鲁棒性，可以将角度扩展层层压到更厚的衬底，该衬底可以充当接触表面，但这种衬底的厚度应当受到充分限制，以便限制接触位置和显示内容位置之间的视差量。一个范例会是0.5和1毫米（mm）厚，层压到化学方式硬化玻璃衬底的底侧的角度扩展层，衬底例如是2到5mm厚的Gorilla Glass（纽约Corning, Corning Inc.的产品）。菲涅耳透镜可以位于这种层压板下方，以向角度扩展层提供准直输入。可以在足够厚的板中模制菲涅耳透镜以保持其自重，同时由顶部厚玻璃衬底支撑层压的角度扩展层，在受到重量和跌落影响时提供显著的鲁棒性。可以为顶表面涂布抗反射涂层，以便减少环境反射。此外，可以增加硬涂层，或可以层压抗反射和硬涂布的额外膜，以便提供额外的寿命。在这种情形下，也可以使用环境排斥掩模，以使得显示面板堆栈包括：折射元件阵列、体漫射体、掩模、层压结合和玻璃衬底（其可以是带抗反射涂层的）。在这种情况下，菲涅耳透镜位于显示面板堆栈下方，具有空气隙，并会具有其自己的支撑，或者很厚，或者层压到适当厚度的衬底上以支撑其重量并防止下垂，菲涅尔沟槽向上面对显示面板堆栈的底部。

除了上述那些之外，设想了其他实施例。在一些实施例中，例如，角度扩展层可以根本不包括漫射体。在向角度扩展层中接收适当漫射（未完全准直）光时，或在角度扩展层的光学下游布置一个或多个光漫射部件时，这样的配置可能是合适的。在其他实施例中，微结构折射器可以包括其他折射元件，取代或补充旋转三棱镜阵列。这些包括顶点修圆或顶点平坦化的伪圆锥形小透镜阵列、锥形微柱阵列或受控的凹痕阵列，这种情况下，改变凹痕的大小和位置，使得照射这种特征区域的光实现角度扩展。为针对投影显示屏情况的一个替代实施例中，对折射器阵列的节距进行伪随机化，以便减小显示像素节距和阵列节距之间伪信号产生的可能性。此外，可以使用一维阵列中两个或更多层对准的棱镜元件取代旋转三棱镜阵列。在一个范例中，角度扩展层可以包括沿第一方向排列的第一棱镜阵列和沿正交于第一方向的第二方向排列的第二棱镜阵列。在另一个范例中，角度扩展层可以包括彼此间隔60度排列的第一、第二和第三棱镜阵列。

图9示意性示出了一个实施例中的另一范例光学系统52。该光学系统包括布置于背光封套56内部的多个灯54。例如，灯可以包括白炽灯、CCFL或LED。背光封套可以包括光逃逸的一侧上一个或多个开口（例如，图中的顶部）。背光封套还可以包括至少部分反射的内表面，用于重复利用未逃逸的光。漫射体58被示为耦合到背光封套的开口侧。漫射体的光漫射能力可以足以在背光封套开口侧上提供均匀照明；离开漫射体的光可以具有高斯型强度轮廓。

在图9中所示的实施例中，第一角度限制层60耦合到漫射体58，第二角度限制层62耦合到第一角度限制层。第一和第二角度限制层可以均被配置成透射在一定范围角度之内入射的光并反射该范围角度之外入射的光。在一个实施例中，第一和第二角度限制层均可以包括具有棱镜微结构或毫结构的层。第一角度限制阵列的棱镜元件可以沿第一方向取向，而第二角度限制层的棱镜元件可以沿与第一方向正交的第二方向取向。此外，限制透射光的入射角范围对于第一和第二角度限制层而言可以相同或不同。通过这种方式，第一和第二角度限制层可以被配置成透射各向同性或各向异性强度轮廓。在一个实施例中，第一和/或第二角度限制层可以包括光循环，亮度增强膜（BEF）；BEF可以将透射光的轮廓限制到例如40到50度的出口锥形。在其他实施例中，不过，可以省略角度限制层，导致更大视角处强度增大。

在图9所示的实施例中，光学系统52还包括成像堆栈64。该成像堆栈可以包括配置成对设置于显示面板14上或上方的一个或多个对象成像的电子和光学部件的组件。这样的对象可以包括手指或指示笔；对对象成像可以实现用于计算机系统（例如，图1的计算机系统18）的触摸或对象敏感的输入机构。成像堆栈布置于光学系统52中的背光上方，可以被配置成用于高可见透明度，尤其是在与显示面板表面正交的方向上。因此，成像堆栈可以采用窄带红外线照射源（图中未示出）并可以被配置成对从显示面板上或附近的对象反射的红外光成像。在图9中所示的具体实施例中，楔形光导66支撑着与显示面板观看表面相对的二向色转动膜，以及带镜面的端面。这个结构将反射红外光聚焦到摄像机68上，在此对对象成像。不过，将要理解，同样设想了其他相当不同的成像堆，一些采用了偏移成像方法。在这样的实施例中，成像堆栈可以反射与输入图像相关联的红外光，同时透射可见光，以用于形成显示图像。

继续参考图9，光学系统52包括角度扩展层46，布置于成像堆栈62上方并基本如上所述配置。光学系统还包括图像形成矩阵70，布置成从角度扩展层接收光，并通过对光进行空间和时间调制来形成显示图像。在一个实施例中，图像形成矩阵包括多个光阀，例如液晶显示器（LCD）矩阵。光学系统还包括耦合到图像形成层的漫射体72，其被配置成透射显示图像，同时散射环境光并掩蔽光学系统的结构部件。

还设想了其他实施例。在一个实施例中，可以直接在角度限制层或背光组件层上方布置一个或多个角度扩展层。在这里，可以将成像堆栈与非常接近显示面板顶侧或底侧层压的漫射体一起使用，此外，漫射体可以包括可切换漫射体，例如聚合物分散的液晶（PDLC）。在这种情况下，可以包括基于光导的前向光（图中未示出）以便在显示面板上方提供红外线照射。或者，可以省去成像堆栈，或可以利用所谓的“像素中传感器”（SIP）技术将其集成到图像形成矩阵中。在这种情况下，角度扩展层可以位于背光单元上方，漫射体或漫射体层可以位于SIP面板正下方。在另一实施例中，可以直接在背光组件上方布置角度扩展层，可以省去第一和第二角度限制层。这种配置将进一步增强在相对于显示面板法线的更大视角提供的光强。在另一实施例中，使用BEF膜将背光的光输出包含在期望的40到50度扩展之内，没有视觉系统可以不需要漫射体，因为BEF的输出近似为漫射体会提供的期望角分散。这样的实施例可以包括旋转三棱镜阵列或两个或三个交叉的一维棱镜阵列，以提供期望的光强度轮廓。

此外，在使用LED阵列用于可见显示光以及红外成象照明时，可以使用旋转三棱镜阵列和/或交叉棱镜阵列的堆栈来实现高的角度偏置，可以使用离开一定距离的漫射体来隐藏正好位于SIP/LCD面板下方的腔。

最后，显然这里描述的物品、系统和方法本质上是示范性的，这些具体实施例或范例不应被视为限制性的，因为设想了众多变化。因此，本公开包括这里公开的各种系统和方法的所有新颖和不显然的组合和子组合以及其任何等价组合。

Claims (15)

1. 一种显示面板，包括：

布置于衬底上的折射元件阵列，定位成接收第一强度轮廓的光，并配置成以第二强度轮廓透射至少一些接收的光，所述第二强度轮廓相对于所述第一强度轮廓具有较低的正交于衬底的相对强度，以及较高的斜交于衬底的相对强度。

2. 根据权利要求1所述的显示面板，还包括漫射体，定位成接收由折射元件阵列透射的光并配置成以第三强度轮廓透射至少一些接收的光。

3. 根据权利要求1所述的显示面板，其中斜交于所述衬底的强度是所述第三强度轮廓的最强强度。

4. 根据权利要求1所述的显示面板，其中所述折射元件阵列包括多个顶点，且其中所述顶点取向远离所述衬底。

5. 根据权利要求1所述的显示面板，其中所述折射元件阵列包括两个或更多棱镜阵列。

6. 根据权利要求1所述的显示面板，其中所述折射元件阵列包括圆锥形小透镜的阵列。

7. 根据权利要求6所述的显示面板，其中所述圆锥形小透镜阵列是六边形堆砌的。

8. 根据权利要求1所述的显示面板，其中所述漫射体包括多个分布于漫射体体积之内的折射和/或光散射元件。

9. 根据权利要求1所述的显示面板，其中所述漫射体包括表面层，其上布置多个折射和/或光散射元件。

10. 根据权利要求1所述的显示面板，其中所述漫射体还包括着色剂和不透明元件阵列中的一种或多种。

11. 根据权利要求1所述的显示面板，其中所述漫射体是其上布置折射元件阵列的衬底。

12. 根据权利要求1所述的显示面板，其中所述衬底和折射元件阵列包括膜。

13. 根据权利要求12所述的显示面板，其中所述膜层压到所述漫射体。

14. 根据权利要求1所述的显示面板，还包括图像投影仪和准直层，其中所述准直层位于所述图像投影仪和折射元件阵列之间，且其中将光从所述准直层接收到所述折射元件阵列中。

15. 根据权利要求14所述的显示面板，还包括光阀，其中从所述折射元件阵列或从所述漫射体透射的光被接收到所述光阀中。

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