CN102804285A - 掺杂的石墨烯电子材料 - Google Patents

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罗德里克·A·海德
穆里尔·Y·伊什克瓦
乔丁·T·卡勒
克拉伦斯·T·特格林
丰国达志
理查德·N·扎尔
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Abstract

用一种或多种官能团对一个石墨烯衬底进行掺杂，以形成一种电子装置。

Description

掺杂的石墨烯电子材料
发明人：杰弗里A.鲍尔斯，罗德里克A.海德，穆里尔Y.石川，乔丁T.凯勒，克拉伦斯T.特格林，丰国达志，理查德N.扎尔
发明内容
在一个方面，一种电子装置包括一个石墨烯衬底，该石墨烯衬底包括一个第一界定区域和一个第二界定区域，该第二界定区域在至少一种电子特性（例如费米能级、能带结构、载流子群体、移动性、隧穿行为、或导电特征）方面与该第一界定区域不同。该第一界定区域用一种第一掺杂剂物质进行化学功能化，并且该第二界定区域用一种第二掺杂剂物质进行化学功能化。
该至少一种电子特性方面的不同可能是功能化的结果。该第一和该第二界定区域可以形成一个半导电结，并且可以是一个组件（如二极管、晶体管、开关、电阻器、电容器、感应器、传感器、或连接体）的部件。该装置可以另外包括多个电连接到该第一和该第二界定区域上的连接体。该石墨烯衬底可以包括一个单层或一个多层。该第一和该第二区域可以是邻接的，并且任一者或两者都可以远离该石墨烯衬底的边缘。该装置可以另外包括一个第三界定区域，该第三界定区域在至少一种电子特性方面与该第一和该第二界定区域不同，该第三界定区域可以用一种第三掺杂剂物质进行功能化。该石墨烯衬底可以安置在一个基础衬底（例如石墨或一种包含非碳组分的晶体）上。该第一和该第二掺杂剂物质可以使该衬底的一个共同的表面或多个相对的表面功能化，并且任一者或两者都可以包括胺、亚胺、有机自由基、芳香族分子、氮、硼、金、铋、锑、溴、碘、重氮盐、氢、或烷基，并且可以不同或相同。该第一和该第二掺杂剂物质可以在浓度、与石墨烯衬底的附接模式或数密度方面不同。
任一种或两种掺杂剂物质都可以包括多个互混的掺杂剂子物质（subspecies），这些子物质可以包括相同或不同的子物质，并且可以在附接模式或相对浓度方面彼此不同。一种或多种掺杂剂子物质可以在该第一界定区域内在浓度方面变化。该第一掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第一结合的部分（moiety）和一个可去除地连接到该第一结合的部分上的第一自由的部分，在这种情况下，该电子特性方面的不同可能随该自由的部分的特性而变化。该第二掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第二结合的部分和一个可去除地连接到该第二结合的部分上的第二自由的部分，在这种情况下，该第一和该第二结合的部分可以相同或不同。该第一掺杂剂物质可以吸附在该石墨烯衬底上（例如化学吸附或物理吸附）、化学结合到该衬底上（例如共价结合）、或插入在该石墨烯衬底中。该第一掺杂剂物质可以在该第一界定区域内在浓度或附接模式方面变化。该第二界定区域可以包围该第一界定区域。
在另一个方面，一种电子装置包括一个石墨烯衬底，该石墨烯衬底包括一个第一界定区域和一个第二界定区域，该第二界定区域在至少一种电子特性（例如费米能级、能带结构、载流子群体、移动性、隧穿行为、或导电特征）方面与该第一界定区域不同。该第一区域用一种第一掺杂剂物质进行化学功能化，并且远离该石墨烯衬底的任何边缘。
该第二界定区域可以用一种第二掺杂剂物质进行化学功能化，该第二掺杂剂物质可以与该第一掺杂剂物质不同。该第一和该第二掺杂剂物质可以在浓度、在石墨烯衬底的附接模式或数密度方面不同。任一种或两种掺杂剂物质都可以包括多个互混的掺杂剂子物质，这些子物质可以包括相同或不同的子物质，并且可以在附接模式或相对浓度方面彼此不同。一种或多种掺杂剂子物质可以在该第一界定区域内在浓度方面变化。该第一和该第二掺杂剂物质可以使该衬底的一个共同的表面或多个相对的表面功能化，并且任一者或两者都可以包括胺、亚胺、有机自由基、芳香族分子、氮、硼、金、铋、锑、溴、碘、重氮盐、氢、或烷基，并且可以不同或相同。
该至少一种电子特性方面的不同可能是功能化的结果。该第一和该第二界定区域可以形成一个半导电结，并且可以是一个组件（如二极管、晶体管、开关、电阻器、电容器、感应器、传感器、或连接体）的部件。该装置可以另外包括多个电连接到该第一和该第二界定区域上的连接体。该石墨烯衬底可以包括一个单层或一个多层。该第一和该第二区域可以是邻接的，并且任一者或两者都可以远离该石墨烯衬底的边缘。该装置可以另外包括一个第三界定区域，该第三界定区域在至少一种电子特性方面与该第一和该第二界定区域不同，该第三界定区域可以用一种第三掺杂剂物质进行功能化。该石墨烯衬底可以安置在一个基础衬底（例如石墨或一种包含非碳组分的晶体）上。该第一掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第一结合的部分和一个可去除地连接到该第一结合的部分上的第一自由的部分，在这种情况下，该电子特性方面的不同可能随该自由的部分的特性而变化。该第二界定区域可以用一种第二掺杂剂物质进行化学功能化，该第二掺杂剂物质包括一个附着到该石墨烯衬底上的第二结合的部分和一个可去除地连接到该第二结合的部分上的第二自由的部分，在这种情况下，该第一和该第二结合的部分的组成可以相同或不同。该第一掺杂剂物质可以吸附在该石墨烯衬底上（例如化学吸附或物理吸附）、化学结合到该衬底上（例如共价结合）、或插入在该石墨烯衬底中。该第一掺杂剂物质可以在该第一界定区域内在浓度或附接模式方面变化。该第二界定区域可以包围该第一界定区域。
在另一个方面，一种电子电路包括一个石墨烯衬底，该石墨烯衬底包括一个第一装置和一个第二装置。该第一装置包括一个第一界定区域和一个第二界定区域，该第二界定区域在至少一种第一电子特性（例如费米能级、能带结构、载流子群体、移动性、隧穿行为、或导电特征）方面与该第一界定区域不同，其中该第一区域用一种第一掺杂剂物质进行化学功能化。该第二装置包括一个第三界定区域和一个第四界定区域，该第四界定区域在至少一种第二电子特性（例如费米能级、能带结构、载流子群体、移动性、隧穿行为、或导电特征）方面与该第三界定区域不同，其中该第三区域用一种第二掺杂剂物质进行化学功能化。
该第一和该第二掺杂剂物质可以相同或不同。该第一和该第二装置具有实质上相同的电子特征。该电路可以另外包括该石墨烯衬底的一个第五界定区域，该第五界定区域充当该第一和该第二装置之间的一个连接体。该至少一种第一电子特性和该至少一种第二电子特性可以包括一种共同的电子特性。该至少一种第一电子特性方面的不同可能是该第一和该第二界定区域功能化的结果，或者该至少一种第二电子特性方面的不同可能是该第三和该第四界定区域功能化的结果。该第一和该第二界定区域、或该第三和该第四界定区域可以形成一个半导电结。该第一或该第二装置可以是二极管、晶体管、开关、电阻器、电容器、感应器、传感器、或连接体。
该石墨烯衬底可以包括一个单层或一个多层。该第一界定区域与该第二界定区域，或该第三界定区域与该第四界定区域可以是邻接的。该第一或该第二界定区域可以不包括该石墨烯衬底的边缘。该石墨烯衬底可以安置在一个基础衬底（例如石墨或一种包含非碳组分的晶体）上。该第一掺杂剂物质和该第二掺杂剂物质可以使该石墨烯衬底的一个共同的表面或多个相对的表面功能化，并且该第一装置和该第二装置可以定位在该石墨烯衬底的多个相对的表面上。该第一或该第二掺杂剂物质可以包括以下各物中的至少一者：胺、亚胺、有机自由基、芳香族分子、氮、硼、金、铋、锑、溴、碘、重氮盐、氢、或烷基。
该第二掺杂剂物质可以与该第一掺杂剂物质不同。该第一和该第二掺杂剂物质可以在浓度、与石墨烯衬底的附接模式或数密度方面不同。这些掺杂剂物质中的任一者都可以包括多个互混的掺杂剂子物质，这些子物质可以包括相同或不同的子物质，并且可以在附接模式或相对浓度方面彼此不同。一种或多种掺杂剂子物质可以在该第一界定区域内在浓度方面变化。该第一掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第一结合的部分和一个可去除地连接到该第一结合的部分上的第一自由的部分，在这种情况下，该电子特性方面的不同可能随该自由的部分的特性而变化。该第二掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第二结合的部分和一个可去除地连接到该第二结合的部分上的第二自由的部分，在这种情况下，该第一和该第二结合的部分可以相同或不同。该第一掺杂剂物质可以吸附在该石墨烯衬底上（例如化学吸附或物理吸附）、化学结合到该衬底上（例如共价结合）、或插入在该石墨烯衬底中。该第一掺杂剂物质可以在该第一界定区域内在浓度或附接模式方面变化。该第二界定区域可以包围该第一界定区域。
在另一个方面，一种在石墨烯衬底上形成电子装置的方法包括用一种第一掺杂剂物质对该石墨烯衬底的一个第一界定区域进行功能化，并且用一种第二掺杂剂物质对该石墨烯衬底的一个第二界定区域进行功能化。该功能化的第一区域在一种电特性（例如费米能级、能带结构、载流子群体、移动性、隧穿行为、或导电特征）方面与该功能化的第二界定区域不同。
对该第一界定区域进行功能化可以包括将该第一区域选择性地暴露于一种化学溶液中，以光刻方式用掩模遮蔽该石墨烯衬底，向该石墨烯衬底施加一个空间上模式化（patterned）的电势，或向该石墨烯衬底中引入一个缺陷。该第一界定区域和该第二界定区域可以同时功能化，或该第一界定区域可以在该第二界定区域之前功能化。该第二界定区域可以与该第一界定区域重叠。对该第二界定区域进行功能化可以包括使该第二掺杂剂物质与该第一掺杂剂物质共沉积。该第一掺杂剂物质可能排斥该第二掺杂剂物质而使其不沉积在该石墨烯衬底上。该第二界定区域可以包围该第一界定区域，或该第一界定区域可以包围该第二界定区域。
在另一个方面，一种在石墨烯衬底上形成电子装置的方法包括用一种第一掺杂剂物质对该石墨烯衬底的一个第一界定区域进行功能化。该功能化的第一区域在一种电特性（例如费米能级、能带结构、载流子群体、移动性、隧穿行为、或导电特征）方面与一个第二界定区域（它可能已被或可能未被功能化）不同，并且远离该石墨烯衬底的任何边缘。
对该第一界定区域进行功能化可以包括将该第一区域选择性地暴露于一种化学溶液中，以光刻方式用掩模遮蔽该石墨烯衬底，向该石墨烯衬底施加一个空间上模式化的电势，或向该石墨烯衬底中引入一个缺陷。该第一界定区域和该第二界定区域可以同时功能化，或该第一界定区域可以在该第二界定区域之前功能化。该第二界定区域可以与该第一界定区域重叠。对该第二界定区域进行功能化可以包括使该第二掺杂剂物质与该第一掺杂剂物质共沉积。该第一掺杂剂物质可能排斥该第二掺杂剂物质而使其不沉积在该石墨烯衬底上。该第二界定区域可以包围该第一界定区域，或该第一界定区域可以包围该第二界定区域。
在另一个方面，一种光电子装置包括一个石墨烯衬底，该石墨烯衬底包括一个第一界定区域和一个第二界定区域，该第二界定区域在至少一种电光特性（例如光学增益、透射率、反射率、电容率、磁导率、折射率、或各向异性）方面与该第一界定区域不同。该第一区域用一种第一掺杂剂物质进行化学功能化，并且该第二界定区域用一种第二掺杂剂物质进行化学功能化。
该至少一种电光特性方面的不同可能是功能化的结果。该第一和该第二界定区域可以是一个组件（如激光器、发光二极管、等离子体波导、光波导、光栅、荧光装置、吸光装置、光电子转换器、相移装置、干涉仪、光耦合器、或等离子体耦合器）的部件，并且该光电子装置可以是非线性的或是一个等离子体装置。该装置可以另外包括多个光学地连接到该第一和该第二界定区域上的连接体。该石墨烯衬底可以包括一个单层或一个多层。该石墨烯衬底可以安置在一个基础衬底（例如石墨或一种包含非碳组分的晶体）上。该第一和该第二掺杂剂物质可以使该衬底的一个共同的表面或多个相对的表面功能化，并且任一者或两者都可以包括胺、亚胺、有机自由基、芳香族分子、氮、硼、金、铋、锑、溴、碘、重氮盐、氢、或烷基，并且可以不同或相同。该第一和该第二掺杂剂物质可以在浓度、与石墨烯衬底的附接模式或数密度方面不同。
该第一掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第一结合的部分和一个可去除地连接到该第一结合的部分上的第一自由的部分，在这种情况下，该电光特性方面的不同可能随该自由的部分的特性而变化。该第二掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第二结合的部分和一个可去除地连接到该第二结合的部分上的第二自由的部分，在这种情况下，该第一和该第二结合的部分可以相同或不同。该第一掺杂剂物质可以吸附在该石墨烯衬底上（例如化学吸附或物理吸附）、化学结合到该衬底上（例如共价结合）、或插入在该石墨烯衬底中。该第一掺杂剂物质可以在该第一界定区域内在浓度或附接模式方面变化。该第二界定区域可以包围该第一界定区域。
在另一个方面，一种光电子装置包括一个石墨烯衬底，该石墨烯衬底包括一个第一界定区域和一个第二界定区域，该第二界定区域在至少一种电光特性（例如光学增益、透射率、反射率、电容率、磁导率、折射率、或各向异性）方面与该第一界定区域不同。该第一区域用一种第一掺杂剂物质进行化学功能化，并且不包括该石墨烯衬底的边缘。
该第二界定区域可以用一种第二掺杂剂物质进行化学功能化，该第二掺杂剂物质可以与该第一掺杂剂物质不同。该第一和该第二掺杂剂物质可以在浓度、在石墨烯衬底上的附接模式或数密度方面不同。该第一掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第一结合的部分和一个可去除地连接到该第一结合的部分上的第一自由的部分，在这种情况下，该电光特性方面的不同可能随该自由的部分的特性而变化。该第二界定区域可以用一种第二掺杂剂物质进行化学功能化，该第二掺杂剂物质包括一个附着到该石墨烯衬底上的第二结合的部分和一个可去除地连接到该第二结合的部分上的第二自由的部分，在这种情况下，该第一和该第二结合的部分的组成可以相同或不同。该光电子装置可以包括激光器、发光二极管、等离子体波导、光波导、光栅、荧光装置、吸光装置、光电子转换器、相移装置、干涉仪、光耦合器、或等离子体耦合器，并且该光电子装置可以是非线性的或是一个等离子体装置。该至少一种电光特性方面的不同可能是功能化的结果。该装置可以另外包括多个光学连接到该第一和该第二界定区域上的连接体。该石墨烯衬底可以包括一个单层或一个多层。该石墨烯衬底可以安置在一个基础衬底（例如石墨或一种包含非碳组分的晶体）上。该第一和该第二掺杂剂物质可以将该衬底的一个共同的表面或多个相对的表面功能化，并且任一者或两者都可以包括胺、亚胺、有机自由基、芳香族分子、氮、硼、金、铋、锑、溴、碘、重氮盐、氢、或烷基，并且可以不同或相同。该第一掺杂剂物质可以吸附在该石墨烯衬底上（例如化学吸附或物理吸附）、化学结合到该衬底上（例如共价结合）、或插入在该石墨烯衬底中。该第一掺杂剂物质可以在该第一界定区域内在浓度或附接模式方面变化。该第二界定区域可以包围该第一界定区域。
在另一个方面，一种光电子电路包括一个石墨烯衬底，该石墨烯衬底包括一个第一装置和一个第二装置。该第一装置包括一个第一界定区域和一个第二界定区域，该第二界定区域在至少一种第一电光特性（例如光学增益、透射率、反射率、电容率、磁导率、折射率、或各向异性）方面与该第一界定区域不同，其中该第一区域用一种第一掺杂剂物质进行化学功能化。该第二装置包括一个第三界定区域和一个第四界定区域，该第四界定区域在至少一种第二电光特性（例如光学增益、透射率、反射率、电容率、磁导率、折射率、或各向异性）方面与该第三界定区域不同，其中该第三区域用一种第二掺杂剂物质进行化学功能化。
该第一和该第二掺杂剂物质可以相同或不同。该第一和该第二装置具有实质上相同的电光特征。该电路可以另外包括该石墨烯衬底的一个第五界定区域，该第五界定区域充当该第一和该第二装置之间的一个光连接体。该至少一种第一电光特性和该至少一种第二电光特性可以包括一种共同的电光特性。该至少一种第一电光特性方面的不同可能是该第一和该第二界定区域功能化的结果，或该至少一种第二电光特性方面的不同可能是该第三和第四界定区域功能化的结果。该第一或该第二装置可以是激光器、发光二极管、等离子体波导、光波导、光栅、荧光装置、吸光装置、光电子转换器、相移装置、干涉仪、光耦合器或等离子体耦合器。
该石墨烯衬底可以包括一个单层或一个多层。该第一界定区域与该第二界定区域，或该第三界定区域与该第四界定区域可以是邻接的。该第一或该第二界定区域可以不包括该石墨烯衬底的边缘。该石墨烯衬底可以安置在一个基础衬底（例如石墨或一种包含非碳组分的晶体）上。该第一掺杂剂物质和该第二掺杂剂物质可以使该石墨烯衬底的一个共同的表面或多个相对的表面功能化，并且该第一装置和该第二装置可以定位在该石墨烯衬底的相对的表面上。该第一或该第二掺杂剂物质可以包括以下各物中的至少一者：胺、亚胺、有机自由基、芳香族分子、氮、硼、金、铋、锑、溴、碘、重氮盐、氢、或烷基。
该第二掺杂剂物质可以与该第一掺杂剂物质不同。该第一和该第二掺杂剂物质可以在浓度、与石墨烯衬底的附接模式或数密度方面不同。任何这些掺杂剂物质都可以包括多个互混的掺杂剂子物质，这些子物质可以包括相同或不同的子物质，并且可以在附接模式或相对浓度方面彼此不同。一种或多种掺杂剂子物质可以在该第一界定区域内在浓度方面变化。该第一掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第一结合的部分和一个可去除地连接到该第一结合的部分上的第一自由的部分，在这种情况下，该电光特性方面的不同可能随该自由的部分的特性而变化。该第二掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第二结合的部分和一个可去除地连接到该第二结合的部分上的第二自由的部分，在这种情况下，该第一和该第二结合的部分可以相同或不同。该第一掺杂剂物质可以吸附在该石墨烯衬底上（例如化学吸附或物理吸附）、化学结合到该衬底上（例如共价结合）、或插入在该石墨烯衬底中。该第一掺杂剂物质可以在该第一界定区域内在浓度或附接模式方面变化。该第二界定区域可以包围该第一界定区域。
在另一个方面，一种在石墨烯衬底上形成光电子装置的方法包括用一种第一掺杂剂物质对该石墨烯衬底的一个第一界定区域进行功能化，并且用一种第二掺杂剂物质对该石墨烯衬底的一个第二界定区域进行功能化。该功能化的第一区域在一种电光特性（例如光学增益、透射率、反射率、电容率、磁导率、折射率、或各向异性）方面与该功能化的第二界定区域不同。
该第一掺杂剂物质和该第二掺杂剂物质可以被选择为，向该第一界定区域和该第二界定区域对应地赋予一种第一电光特性和一种第二电光特性。对该第一界定区域进行功能化可以包括将该第一区域选择性地暴露于一种化学溶液中，以光刻方式用掩模遮蔽该石墨烯衬底，或向该石墨烯衬底施加一个空间上模式化的电势。
在另一个方面，一种在石墨烯衬底上形成光电子装置的方法包括用一种第一掺杂剂物质对该石墨烯衬底的一个第一界定区域进行功能化。该功能化的第一区域在一种电光特性（例如光学增益、透射率、反射率、电容率、磁导率、折射率、或各向异性）方面与一个第二界定区域不同，并且远离该石墨烯衬底的任何边缘。
该第一掺杂剂物质可以经过选择以向该第一界定区域赋予一种第一电光特性。对该第一界定区域进行功能化可以包括将该第一区域选择性地暴露于一种化学溶液中，以光刻方式用掩模遮蔽该石墨烯衬底，或向该石墨烯衬底施加一个空间上模式化的电势。
在另一个方面，一种电子装置包括一个石墨烯衬底，该石墨烯衬底包括介于一个n型界定区域与一个p型界定区域之间的一个结。该n型区域用一种第一掺杂剂物质进行化学功能化，并且该p型界定区域用一种第二掺杂剂物质进行化学功能化。
该石墨烯衬底可以另外包括一个中性区域（例如绝缘体、半导体、或金属），该中性区域的自由载流子实质上少于该n型界定区域或该p型界定区域中的任一者。该n型和该p型界定区域可以是一个组件（如二极管、晶体管、开关、电阻器、电容器、感应器、传感器、或连接体）的部件。该装置可以另外包括多个电连接到该n型和该p型界定区域上的连接体。该石墨烯衬底可以包括一个单层或一个多层。该n型和该p型区域中任一者或两者都可以远离该石墨烯衬底的边缘。该装置可以另外包括一个第三界定区域，该第三界定区域在至少一种电子特性方面与该n型和该p型界定区域不同，该第三界定区域可以用一种第三掺杂剂物质进行功能化。
该石墨烯衬底可以安置在一个基础衬底（例如石墨或一种包含非碳组分的晶体）上。该第一和该第二掺杂剂物质可以使该衬底的一个共同的表面或多个相对的表面功能化，并且可以相同或不同。该第一掺杂剂物质可以包括以下各物中的至少一者：胺、亚胺、有机自由基、或芳香族分子，并且该第二掺杂剂物质可以包括以下各物中的至少一者：芳香族分子、硼、金、铋、锑、溴、碘、重氮盐、氢、以及烷基。该第一和该第二掺杂剂物质可以在浓度、与石墨烯衬底的附接模式或数密度方面不同。
任一种或两种掺杂剂物质都可以包括多个互混的掺杂剂子物质，这些子物质可以包括相同或不同的子物质，并且可以在附接模式或相对浓度方面彼此不同。一种或多种掺杂剂子物质可以在该n型或该p型界定区域内在浓度方面变化。该第一掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第一结合的部分和一个可去除地连接到该第一结合的部分上的第一自由的部分，在这种情况下，该电子特性（例如自由载流子群体）方面的不同可能随该自由的部分的一种特性而变化。该第二掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第二结合的部分和一个可去除地连接到该第二结合的部分上的第二自由的部分，在这种情况下，该第一和该第二结合的部分可以相同或不同。该第一或该第二掺杂剂物质可以吸附在该石墨烯衬底上（例如化学吸附或物理吸附）、化学结合到该衬底上（例如共价结合）、或插入在该石墨烯衬底中。该第一或该第二掺杂剂物质可以在该n型或该p型界定区域内在浓度或附接模式方面变化。该p型界定区域可以包围该n型界定区域，或该n型界定区域可以包围该p型界定区域。
在另一个方面，一种电子装置包括一个石墨烯衬底，该石墨烯衬底包括用一种第一掺杂剂物质进行化学功能化的一个第一界定区域。该第一掺杂剂物质的浓度在整个该第一界定区域内变化（例如在整个该界定区域内逐步地变化或在整个该界定区域内平稳地变化）。
该装置可以有至少一种电子特性（例如费米能级、能带结构、载流子群体、移动性、隧穿行为、或导电特征）在整个该第一界定区域内变化，例如作为该第一界定区域功能化的结果。该第一区域可以是一个组件（如二极管、晶体管、开关、电阻器、电容器、感应器、传感器、或连接体）的部件。该装置可以另外包括一个电连接到该第一界定区域的连接体。该石墨烯衬底可以包括一个单层或一个多层。该第一区域可以远离该石墨烯衬底的边缘。该石墨烯衬底可以安置在一个基础衬底（例如石墨或一种包含非碳组分的晶体）上。该第一掺杂剂物质可以包括胺、亚胺、有机自由基、芳香族分子、氮、硼、金、铋、锑、溴、碘、重氮盐、氢、或烷基，并且可以在与石墨烯衬底的附接模式方面变化。
该第一掺杂剂物质可以包括多个互混的掺杂剂子物质。一种或多种掺杂剂子物质可以在该第一界定区域内在浓度方面变化。该第一掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第一结合的部分和一个可去除地连接到该第一结合的部分上的第一自由的部分，在这种情况下，该电子特性方面的不同可能随该自由的部分的一种特性而变化。该第一掺杂剂物质可以吸附在该石墨烯衬底上（例如化学吸附或物理吸附）、化学结合到该衬底上（例如共价结合）、或插入在该石墨烯衬底中。
在另一个方面，一种电子电路包括一个第一装置和一个第二装置。该第一装置包括介于一个第一n型界定区域与一个第一p型界定区域之间的一个第一结，其中该第一n型区域用一种第一掺杂剂物质进行化学功能化，并且该第一p型界定区域用一种第二掺杂剂物质进行化学功能化。该第二装置包括介于一个第二n型界定区域与一个第二p型界定区域之间的一个第二结，其中该n型区域用一种第三掺杂剂物质进行化学功能化，并且该p型界定区域用一种第四掺杂剂物质进行化学功能化。
该第一和该第三掺杂剂物质，或该第二和该第四掺杂剂物质可以相同，并且该第一和该第二装置可以具有实质上相同的电子特征。该电路可以另外包括该石墨烯衬底的一个第五界定区域，该第五界定区域充当该第一和该第二装置之间的一个连接体。该第一或该第二装置可以是二极管、晶体管、开关、电阻器、电容器、感应器、传感器、或连接体。该石墨烯衬底可以包括一个单层或一个多层。
该第一n型或该第一p型界定区域可以不包括该石墨烯衬底的边缘。该石墨烯衬底可以安置在一个基础衬底（例如石墨或一种包含非碳组分的晶体）上。该第一掺杂剂物质和该第二掺杂剂物质可以使该石墨烯衬底的一个共同的表面或多个相对的表面功能化，并且该第一装置和该第二装置可以定位在该石墨烯衬底的多个相对的表面上。该第一掺杂剂物质可以包括以下各物中的至少一者：胺、亚胺、有机自由基、或芳香族分子，并且该第二掺杂剂物质可以包括以下各物中的至少一者：芳香族分子、硼、金、铋、锑、溴、碘、重氮盐、氢、或烷基。
该第二掺杂剂物质可以与该第一掺杂剂物质不同。该第一和该第二掺杂剂物质可以在浓度、与石墨烯衬底的附接模式或数密度方面不同。这些掺杂剂物质中的任一者都可以包括多个互混的掺杂剂子物质，这些子物质可以包括相同或不同的子物质，并且可以在附接模式或相对浓度方面彼此不同。一种或多种掺杂剂子物质可以在该第一界定区域内在浓度方面变化。该第一掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第一结合的部分和一个可去除地连接到该第一结合的部分上的第一自由的部分，在这种情况下，该电子特性方面的不同可能随该自由的部分的一种特性而变化。该第二掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第二结合的部分和一个可去除地连接到该第二结合的部分上的第二自由的部分，在这种情况下，该第一和该第二结合的部分可以相同或不同。该第一或该第二掺杂剂物质可以吸附在该石墨烯衬底上（例如化学吸附或物理吸附）、化学结合到该衬底上（例如共价结合）、或插入在该石墨烯衬底中。该第一或该第二掺杂剂物质可以对应地在该第一n型或该第一p型界定区域内在浓度或附接模式方面变化。该第一p型界定区域可以包围该第一n型界定区域，或该第一n型界定区域可以包围该第一p型界定区域。
在另一个方面，一种在石墨烯衬底上形成电子装置的方法包括用一种第一掺杂剂物质对该石墨烯衬底的一个第一界定区域进行功能化，该第一掺杂剂物质被选择为向该第一界定区域赋予一种n型特征，并且用一种第二掺杂剂物质对该石墨烯衬底的一个第二界定区域进行功能化，该第二掺杂剂物质被选择为向该第二界定区域赋予一种p型特征。
对该第一或该第二界定区域进行功能化可以包括将该第一界定区域选择性地暴露于一种化学溶液中，以光刻方式用掩模遮蔽该石墨烯衬底，向该石墨烯衬底施加一个空间上模式化的电势，或向该石墨烯衬底中引入一个缺陷。该第一界定区域和该第二界定区域可以同时或相继被功能化。该第二界定区域可以与该第一界定区域重叠。对该第一或该第二界定区域进行功能化可以包括使该第二掺杂剂物质与该第一掺杂剂物质共沉积。这些掺杂剂物质中任一者或两者都可能排斥另一者而使其不沉积在该石墨烯衬底上。该第二界定区域可以包围该第一界定区域，或该第一界定区域可以包围该第二界定区域。
在另一个方面，一种电子装置包括一个石墨烯衬底，该石墨烯衬底包括一个第一界定区域和一个第二界定区域，该第二界定区域在至少一种电子特性（例如费米能级、能带结构、载流子群体、移动性、隧穿行为、或导电特征）方面与该第一界定区域不同。用一种第一掺杂剂物质对该石墨烯衬底的一个第一表面上的该第一区域进行化学功能化，并且用一种第二掺杂剂物质对该石墨烯衬底的一个第二表面上的该第二区域进行化学功能化。该第二表面与该第一表面相对。
可以对该石墨烯衬底的相对的表面上该第一区域进行化学功能化。该至少一种电子特性方面的不同可能是该第一和该第二界定区域功能化的结果。该第一和该第二界定区域可以形成一个半导电结，并且可以是一个组件（如二极管、晶体管、开关、电阻器、电容器、感应器、传感器、或连接体）的部件。该装置可以另外包括一个电连接到该第一界定区域上的第一连接体和一个电连接到该第二界定区域上的第二连接体。该石墨烯衬底可以包括一个单层或一个多层。该第一界定区域与该第二界定区域可以是邻接的，并且任一者都可以不包括该石墨烯衬底的边缘。该装置可以另外包括一个第三界定区域，该第三界定区域在至少一种电子特性方面与该第一界定区域和该第二界定区域中的每一者都不同。该第三界定区域可以用一种第三掺杂剂物质进行化学功能化。该第一或该第二掺杂剂物质可以包括以下各物中的至少一者：胺、亚胺、有机自由基、芳香族分子、氮、硼、金、铋、锑、溴、碘、重氮盐、氢、或烷基，并且可以相同或不同。该第一和该第二掺杂剂物质可以在浓度、与石墨烯衬底的附接模式或数密度方面不同。
任一种或两种掺杂剂物质都可以包括多个互混的掺杂剂子物质，这些子物质可以包括相同或不同的子物质，并且可以在附接模式或相对浓度方面彼此不同。一种或多种掺杂剂子物质可以在该第一界定区域内在浓度方面变化。该第一掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第一结合的部分和一个可去除地连接到该第一结合的部分上的第一自由的部分，在这种情况下，该电子特性方面的不同可能随该自由的部分的一种特性而变化。该第二掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第二结合的部分和一个可去除地连接到该第二结合的部分上的第二自由的部分，在这种情况下，该第一和该第二结合的部分可以相同或不同。该第一掺杂剂物质可以吸附在该石墨烯衬底上（例如化学吸附或物理吸附）、化学结合到该衬底上（例如共价结合）、或插入在该石墨烯衬底中。该第一掺杂剂物质可以在该第一界定区域内在浓度或附接模式方面变化。该第二界定区域可以包围该第一界定区域。
在另一个方面，一种电子装置包括一个石墨烯衬底，该石墨烯衬底包括一个第一界定区域和一个第二界定区域，该第二界定区域在至少一种电子特性（例如费米能级、能带结构、载流子群体、移动性、隧穿行为、或导电特征）方面与该第一界定区域不同。在该石墨烯衬底的多个相对的表面上用一种第一掺杂剂物质和一种第二掺杂剂物质对该第一区域进行化学功能化。
该至少一种电子特性方面的不同可能是该第一和该第二界定区域功能化的结果。该第一和该第二界定区域可以形成一个半导电结，并且可以是一个组件（如二极管、晶体管、开关、电阻器、电容器、感应器、传感器、或连接体）的部件。该装置可以另外包括一个电连接到该第一界定区域上的第一连接体和一个电连接到该第二界定区域上的第二连接体。该石墨烯衬底可以包括一个单层或一个多层。该第一界定区域与该第二界定区域可以是邻接的，并且任一者都可以不包括该石墨烯衬底的边缘。该装置可以另外包括一个第三界定区域，该第三界定区域在至少一种电子特性方面与该第一界定区域和该第二界定区域中的每一者都不同。该第三界定区域可以用一种第三掺杂剂物质进行化学功能化。该第一或该第二掺杂剂物质可以包括以下各物中的至少一者：胺、亚胺、有机自由基、芳香族分子、氮、硼、金、铋、锑、溴、碘、重氮盐、氢、或烷基，并且可以相同或不同。该第一和该第二掺杂剂物质可以在浓度、与石墨烯衬底的附接模式或数密度方面不同。
任一种或两种掺杂剂物质都可以包括多个互混的掺杂剂子物质，这些子物质可以包括相同或不同的子物质，并且可以在附接模式或相对浓度方面彼此不同。一种或多种掺杂剂子物质可以在该第一界定区域内在浓度方面变化。该第一掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第一结合的部分和一个可去除地连接到该第一结合的部分上的第一自由的部分，在这种情况下，该电子特性方面的不同可能随该自由的部分的一种特性而变化。该第二掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第二结合的部分和一个可去除地连接到该第二结合的部分上的第二自由的部分，在这种情况下，该第一和该第二结合的部分可以相同或不同。该第一掺杂剂物质可以吸附在该石墨烯衬底上（例如化学吸附或物理吸附）、化学结合到该衬底上（例如共价结合）、或插入在该石墨烯衬底中。该第一掺杂剂物质可以在该第一界定区域内在浓度或附接模式方面变化。该第二界定区域可以包围该第一界定区域。
在另一个方面，一种在石墨烯衬底上形成电子装置的方法包括用一种第一掺杂剂物质在该石墨烯衬底的一个第一侧面上对该石墨烯衬底的一个第一界定区域进行功能化，并且用一种第二掺杂剂物质在该石墨烯衬底的一个相对的第二侧面上对该石墨烯衬底的一个第二界定区域进行功能化。该第一界定区域和该第二界定区域在至少一种电子特性（例如费米能级、能带结构、载流子群体、移动性、隧穿行为、或导电特征）方面不同。
对该第一或该第二界定区域进行功能化可以包括将该第一界定区域选择性地暴露于一种化学溶液中，以光刻方式用掩模遮蔽该石墨烯衬底，向该石墨烯衬底施加一个空间上模式化的电势，或向该石墨烯衬底中引入一个缺陷。该第一界定区域和该第二界定区域可以同时或相继被功能化。该第二界定区域可以与该第一界定区域重叠。这些掺杂剂物质中任一者或两者都可能排斥另一者而使其不沉积在该石墨烯衬底上。该第二界定区域可以包围该第一界定区域，或该第一界定区域可以包围该第二界定区域。
在另一个方面，一种制造电子装置的方法包括以一种第一预先确定的模式向一个石墨烯衬底施加一种第一官能团，并且以一种第二预先确定的模式向用该第一官能团模式化的该石墨烯衬底施加一种第二官能团。该第二预先确定的模式至少部分地根据该第一官能团的施加来确定。
该方法可以另外包括在施加该第二官能团之后，从该石墨烯衬底上去除该第一官能团的至少一部分。该第一或该第二预先确定的模式可以按一种预先确定的关系与该石墨烯衬底的一个结晶方向对齐。施加该第一官能团可以包括将该第一界定区域选择性地暴露于一种化学溶液中，以光刻方式用掩模遮蔽该石墨烯衬底，向该石墨烯衬底施加一个空间上模式化的电势，或向该石墨烯衬底中引入一个缺陷。这些官能团中任一者或两者都可能排斥另一者而使其不沉积在该石墨烯衬底上。
在另一个方面，一种制造电子装置的方法包括向一个石墨烯衬底施加一种第一官能团，并且以一个预先确定的模式向该第一官能团施加一种第二官能团。
该第二官能团可以与该第一官能团键合或交换。在施加该第二官能团之后，该石墨烯衬底可以包括一个第一区域和一个第二区域，该第一区域和该第二区域在至少一种电特性（例如费米能级、能带结构、载流子群体、移动性、隧穿行为、或导电特征）方面不同。该预先确定的模式可以按一种预先确定的关系与该石墨烯衬底的一个结晶方向对齐。施加该第一官能团可以包括将该第一界定区域选择性地暴露于一种化学溶液中，以光刻方式用掩模遮蔽该石墨烯衬底，向该石墨烯衬底施加一个空间上模式化的电势，或向该石墨烯衬底中引入一个缺陷。这些官能团中任一者或两者都可能排斥另一者而使其不沉积在该石墨烯衬底上。
在另一个方面，一种电子装置包括一个石墨烯衬底，该石墨烯衬底包括一个第一界定区域和一个第二界定区域，该第二界定区域在至少一种电子特性（例如费米能级、能带结构、载流子群体、移动性、隧穿行为、或导电特征）方面与该第一界定区域不同。该第一区域用一种第一掺杂剂物质进行化学功能化，并且该第二界定区域用一种第二掺杂剂物质进行化学功能化，并且该第一界定区域具有一个与该石墨烯衬底的一个结晶方向对齐的边界。
该至少一种电子特性方面的不同可能是功能化的结果。该第一和该第二界定区域可以形成一个半导电结，并且可以是一个组件（如二极管、晶体管、开关、电阻器、电容器、感应器、传感器、或连接体）的部件。该装置可以另外包括多个电连接到该第一和该第二界定区域上的连接体。该石墨烯衬底可以包括一个单层或一个多层。该第一和该第二区域可以是邻接的，并且任一者或两者都可以远离该石墨烯衬底的边缘。该装置可以另外包括一个第三界定区域，该第三界定区域在至少一种电子特性方面与该第一和该第二界定区域不同，该第三界定区域可以用一种第三掺杂剂物质进行功能化。该石墨烯衬底可以安置在一个基础衬底（例如石墨或一种包含非碳组分的晶体）上。该第一和该第二掺杂剂物质可以使该衬底的一个共同的表面或多个相对的表面功能化，并且任一者或两者都可以包括胺、亚胺、有机自由基、芳香族分子、氮、硼、金、铋、锑、溴、碘、重氮盐、氢、或烷基，并且可以不同或相同。该第一和该第二掺杂剂物质可以在浓度、与石墨烯衬底的附接模式或数密度方面不同。
任一种或两种掺杂剂物质都可以包括多个互混的掺杂剂子物质，这些子物质可以包括相同或不同的子物质，并且可以在附接模式或相对浓度方面彼此不同。一种或多种掺杂剂子物质可以在该第一界定区域内在浓度方面变化。该第一掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第一结合的部分和一个可去除地连接到该第一结合的部分上的第一自由的部分，在这种情况下，该电子特性方面的不同可能随该自由的部分的一种特性而变化。该第二掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第二结合的部分和一个可去除地连接到该第二结合的部分上的第二自由的部分，在这种情况下，该第一和该第二结合的部分可以相同或不同。该第一掺杂剂物质可以吸附在该石墨烯衬底上（例如化学吸附或物理吸附）、化学结合到该衬底上（例如共价结合）、或插入在该石墨烯衬底中。该第一掺杂剂物质可以在该第一界定区域内在浓度或附接模式方面变化。该第二界定区域可以包围该第一界定区域，或该第一界定区域可以包围该第二界定区域。
在另一个方面，一种电子装置包括一个石墨烯衬底，该石墨烯衬底包括一个第一界定区域和一个第二界定区域，该第二界定区域在至少一种电子特性（例如费米能级、能带结构、载流子群体、移动性、隧穿行为、或导电特征）方面与该第一界定区域不同。该第一区域用一种第一掺杂剂物质进行化学功能化，具有一个与该石墨烯衬底的一个结晶方向对齐的边界，并且远离该石墨烯衬底的任何边缘。
该第二界定区域可以用一种第二掺杂剂物质进行化学功能化，该第二掺杂剂物质可以与该第一掺杂剂物质不同。该第一和该第二掺杂剂物质可以在浓度、在石墨烯衬底上的附接模式或数密度方面不同。任一种或两种掺杂剂物质都可以包括多个互混的掺杂剂子物质，这些子物质可以包括相同或不同的子物质，并且可以在附接模式或相对浓度方面彼此不同。一种或多种掺杂剂子物质可以在该第一界定区域内在浓度方面变化。该第一和该第二掺杂剂物质可以使该衬底的一个共同的表面或多个相对的表面功能化，并且任一者或两者都可以包括胺、亚胺、有机自由基、芳香族分子、氮、硼、金、铋、锑、溴、碘、重氮盐、氢、或烷基，并且可以不同或相同。
该至少一种电子特性方面的不同可能是功能化的结果。该第一和该第二界定区域可以形成一个半导电结，并且可以是一个组件（如二极管、晶体管、开关、电阻器、电容器、感应器、传感器、或连接体）的部件。该装置可以另外包括多个电连接到该第一和该第二界定区域上的连接体。该石墨烯衬底可以包括一个单层或一个多层。该第一和该第二区域可以是邻接的，并且该第二区域可以远离该石墨烯衬底的边缘。该装置可以另外包括一个第三界定区域，该第三界定区域在至少一种电子特性方面与该第一和该第二界定区域不同，该第三界定区域可以用一种第三掺杂剂物质进行功能化。该石墨烯衬底可以安置在一个基础衬底（例如石墨或一种包含非碳组分的晶体）上。该第一掺杂剂物质可以包括一个附着到该石墨烯衬底上的第一结合的部分和一个可去除地连接到该第一结合的部分上的第一自由的部分，在这种情况下，该电子特性方面的不同可能随该自由的部分的一种特性而变化。该第二界定区域可以用一种第二掺杂剂物质进行化学功能化，该第二掺杂剂物质包括一个附着到该石墨烯衬底上的第二结合的部分和一个可去除地连接到该第二结合的部分上的第二自由的部分，在这种情况下，该第一和该第二结合的部分的组成可以相同或不同。该第一掺杂剂物质可以吸附在该石墨烯衬底上（例如化学吸附或物理吸附）、化学结合到该衬底上（例如共价结合）、或插入在该石墨烯衬底中。该第一掺杂剂物质可以在该第一界定区域内在浓度或附接模式方面变化。该第二界定区域可以包围该第一界定区域，或该第一界定区域可以包围该第二界定区域。
以上概述仅是说明性的且并非意图以任何方式进行限制。除上述说明性的方面、实施方案以及特征之外，通过参考附图和以下详细说明，其他的方面、实施方案以及特征也将变得清楚。
附图说明
图1是一个基于石墨烯的电子装置的一个示意图。
图2是一个基于石墨烯的电容器的一个示意图。
图3是一个流程图，描述一种用于形成基于石墨烯的电子装置的方法。
图4是一个基于石墨烯的双侧装置的一个示意图。
具体实施方式
在以下详细说明中，对附图进行参考，这些附图构成本文的一部分。除非上下文另外规定，否则在附图中，相似的符号典型地标识相似的组件。在详细说明、附图以及权利要求书中描述的示意性实施方案并非意在具有限制性。在不背离于此所提供的主题的精神或范围的情况下，可以利用其他实施方案，并且可以进行其他改变。
石墨烯，一种独立式单层石墨，展现出独特的电子特性，包括非常高的导电率和不寻常的量子效应（例如，零有效质量电荷载流子与低散射）。石墨烯薄片可以如下制造：通过使石墨（例如高度定向的热解石墨（HOPG））剥落、通过在其他晶体上生长成外延层并且进行化学蚀刻以去除该石墨烯、或通过对石墨氧化物进行还原。参看例如李（Li）等人，“铜箔上高质量的并且均匀的石墨烯膜的大面积合成（Large-area synthesis ofhigh-quality and uniform graphene films on copper foils）”，科学（Science）324:1312-1314(2009)；盖姆（Geim）等人，“石墨烯的崛起（The rise ofgraphene）”，自然-材料(Nature Mat′ls）6:183-191(2007年3月)；贝那亚德（Benayad）等人，“以Au离子浓度来控制还原过的石墨氧化物的功函数（Controlling work function of reduced graphite oxide with Au-ionconcentration）”，化学物理快报（Chem Phys Lett）,475:91-95(2009)，各自通过引用结合在此。在从石墨或异质衬底上去除之前或之后，可以对石墨烯进行化学功能化以生产电子装置。虽然以下说明集中于单层石墨烯上，但寡层的化学功能化也可以产生令人感兴趣的电子特性。
图1是一个基于石墨烯的电子装置的一个示意图。在该说明性的实施方案中，石墨烯薄片10包括三个掺杂的区域12、14、16。区域12用一种使它相对于原始（纯）石墨烯呈n型的物质进行功能化。区域14用一种使它相对于原始石墨烯呈p型的物质进行功能化，而区域16用一种使它比原始石墨烯更具绝缘性的物质进行功能化。区域18可以是未掺杂的，用一种导电物质进行功能化，或用一种使下层石墨烯比区域16更具导电性的物质进行功能化，以形成多个连接体。在该说明性的实施方案中，该装置充当一个简单的p-n结二极管。根据基于硅的半导电装置类推，p型和n型区域的其他安排可以用来构造晶体管、开关以及其他电子组件。另外，掺杂剂物质和/或浓度可以在一些区域中变化以生产其他组件，如电阻器、电容器、感应器、传感器、或连接体。例如，图2说明一种基于石墨烯的电容器。在一种典型的电容器设计的一个二维类似物中，互相交叉的导电区域30和32由介电区域34分开。例如，在其他实施方案中，导电区域可以形成相对的T形状或双螺旋。例如，一种螺旋构形还可以用于形成感应器。
在图3中说明了一种形成与图1中的装置类似的装置的方法。在该说明性的实施方案中，对一个纯石墨烯薄片进行掩模遮蔽（使用常规光刻法）以仅暴露区域12，然后将其暴露于一种形成n型区域的化学物中。例如，石墨烯在高温下暴露于NH3气体中将倾向于通过共价键结形成n型区域，特别是在边缘和缺陷部位，如万（Wan）等人，科学（Science）324(5928):768-771(2009年5月)中所描述，该文献通过引用结合在此。N-掺杂的石墨烯还可以如下形成：通过NH3与CH4气体的混合物的化学气相沉积，或通过在H2/吡啶或H2/NH3的存在下碳电极的电弧放电。参看例如魏（Wei）等人，“通过化学气相沉积合成N-掺杂的石墨烯以及它的电特性（Synthesis of N-Doped Graphene by Chemical Vapor Deposition and ItsElectrical Properties）”，纳米快报(Nano Lett.）9(5):1752-1758(2009)；潘查克拉（Panchakarla）等人，“硼和氮掺杂的石墨烯的合成、结构以及特性（Synthesis,Structure,and Properties of Boron and Nitrogen DopedGraphene）”，高级材料（Adv.Mat.）,21(46):4726-4730(2009年8月)，各自通过引用结合在此。可以吸附在石墨烯表面上的其他适合的供电子试剂包括有机自由基（例如4-氨基-TEMPO）、具有供电子基的芳香族分子、或供电子高分子（如聚(乙烯亚胺)）。参看例如蔡（Choi）等人，“通过有机自由基对取向附生石墨烯进行化学掺杂（Chemical Doping of EpitaxialGraphene by Organic Free Radicals）”，物理化学快报杂志（J.Phys.Chem.Lett.）2010(1):505-509(2010)；董（Dong）等人，“用芳香族分子掺杂单层石墨烯（Doping Single-Layer Graphene with Aromatic Molecules）”，微小（Small）5(12):1422-1426(2009年6月)；法默（Farmer）等人，“石墨烯装置中的化学掺杂和电子-电洞导电不对称（Chemical Doping andElectron-Hole Conduction Asymmetry in Graphene Devices）”，纳米快报(Nano Lett.）,9(1):388-392(2009)，各自通过引用结合在此。在该说明性的实施方案中，区域12远离石墨烯薄片的任何边缘（即，离边缘足够远以使得供体物质所赋予的电特性仅仅在最低程度上受边缘的存在所影响）。在一些实施方案中，区域12的边界可以与石墨烯的一个结晶方向对齐，而在其他实施方案中，这些边界可以与晶体轴成任何角度。在一些实施方案中，官能团的施加可以包括向石墨烯衬底施加一个电势，例如一个模式化的电势。
在一个实施方案中，可能希望在暴露于NH3（或其他掺杂剂）之前向该区域中引入一个或多个缺陷，NH3（或其他掺杂剂）被认为在缺陷部位具有化学反应性。例如，可以在暴露之前使用聚焦的电子束在区域12处向石墨烯晶格中引入一个或多个缺陷，或可以使掩模遮蔽的区域暴露于氧等离子体中。（在一个实施方案中，可以通过暴露于氧等离子体中来实现对氧化的石墨烯同时进行n掺杂和还原。参看例如李（Li）等人，“对石墨烯氧化物同时进行氮掺杂和还原（Simultaneous Nitrogen-Doping andReduction of Graphene Oxide）”，美国化学学会杂志(J.Am.Chem.Soc.）,131(43):15939-15944(2009)，该文献通过引用结合在此。）还可以通过使用原子力显微镜来引入非常精确地放置的缺陷部位。在一个实施方案中，在充分良好地控制的缺陷引入和化学功能化的情况下，有可能消除对用掩模遮蔽该区域的需要，从而通过将缺陷选择性地引入石墨烯晶格中来界定该掺杂的区域。在一个实施方案中，有可能在掺杂后对此类缺陷进行退火或其他修复。
在已经形成区域12后，可以根据标准光刻技术对衬底进行清洁并且再遮蔽，然后暴露于一种不同的电子供体物质中，以形成p型区域14。例如，硼取代到石墨烯骨架中将倾向于形成一个p型区域，溴、碘、包括吸电子基的芳香族结构、或重氮盐（例如4-溴苯四氟重氮）的吸附（或插入在石墨烯寡层中）或者金、铋或锑的沉积同样如此（在一些实施方案中，继而进行退火）。参看例如潘查克拉（Panchakarla）等人，“硼和氮掺杂的石墨烯的合成、结构以及特性（Synthesis,Structure,and Properties of Boronand Nitrogen Doped Graphene）”，高级材料(Adv.Mat.）,21(46):4726-4730(2009年8月)；郑（Jung）等人，“少层石墨烯的电荷转移化学掺杂：电荷分布和能带隙形成（Charge Transfer Chemical Doping of Few LayerGraphenes:Charge Distribution and Band Gap Formation）”，Nano Lett.（纳米快报),9(12):4133-4137(2009)；董（Dong）等人,”用芳香族分子掺杂单层石墨烯（Doping Single-Layer Graphene with Aromatic Molecules）”，微小（Small）5(12):1422-1426(2009年6月)；法默（Farmer）等人，“石墨烯装置中的化学掺杂和电子-电洞导电不对称（Chemical Doping andElectron-Hole Conduction Asymmetry in Graphene Devices）”，纳米快报(Nano Lett.）,9(1):388-392(2009)；吉尔斯（Gierz）等人,“石墨烯的原子电洞掺杂（Atomic Hole Doping of Graphene）”，纳米快报（Nano Lett.）8(12):4603-4607(2008)，各自通过引用结合在此。对于这些物质中的任一者而言，在一些实施方案中，可能优选如以上描述地向石墨烯中引入缺陷。
在已经形成区域14后，可以对衬底进行清洁并且再遮蔽，然后暴露于一种不同的物质中，以形成区域16。例如，石墨烯暴露于原子氢（例如呈等离子体形式）中将倾向于形成一个绝缘区域（“石墨烷”）。（p型区域还可以通过对通过暴露于氢等离子体中所形成的石墨烷区域进行退火来生产。）参看例如伊莱亚斯（Elias）等人，“通过可逆的氢化来控制石墨烯的特性：关于石墨烷的证据（Control of Graphene's Properties by ReversibleHydrogenation:Evidence for Graphane）”，科学（Science）323:610-613(2009)，该文献通过引用结合在此。总体而言，石墨烯的碳原子从sp2态选择性再杂化到sp3态将倾向于打开能带隙，因而生产出半导电或绝缘区域。例如，烷基化或芳基化也可以生产半导电或绝缘区域。任选地，在形成区域16之后，还可以通过光刻法来形成区域18。作为替代方案，区域18可以基本上由原始石墨烯组成。应理解，形成这些不同区域的步骤可以按任何方便的顺序来进行。例如，如果生产n型区域所要求的条件可能倾向于降解同一薄片上的p型区域，那么可以优选牢固生产n型区域，并且继而生产p型区域。
纳米平板印刷术中的一个挑战是在同一衬底上使用连续的掩模时的校准（registration）。在一个实施方案中，校准“记号”可以按可容易地检测到的官能团（其在最终的电子装置中可能具有或可能不具有任何功能）的形式放置在石墨烯衬底上。例如，电致发光聚合物（例如低聚物），如聚(对苯撑乙烯)，可能非常适合用作标志物，从而形成大的刚性结构，这些结构可以通过它们的光子发射进行检测。在一个实施方案中，X射线发射极可以放置在衬底上，但需要小心以避免最终产物被所发射出的X射线降解。
在一个实施方案中，可能希望用一种物质对整个薄片（或薄片的一部分）进行功能化、而不是如以上描述的用一种不同的掺杂剂物质对石墨烯薄片的各区域单独地进行功能化，并且然后通过交换整个功能分子或通过加入赋予所希望的特性的新官能团（作为连接到一个附着到衬底上的结合的部分上的一个自由的部分）以光刻方式建立所希望的区域。在一个实施方案中，可以通过此类方法使得石墨烯电路部分地或完全地可重写。例如，已经通过Cu(I)催化的叠氮化物-炔的环化加成反应（“点击（click）”化学）用电化学活性的二茂铁基团对碳纳米纤维进行改性。参看例如兰迪斯（Landis）等人，“经由‘点击’化学将氧化还原活性的分子共价接枝到垂直对齐的碳纳米纤维阵列上（Covalent grafting of redox-active molecules tovertically aligned carbon nanofiber arrays via‘click’chemistry）”，化学材料（Chem.Mater.）,21(4):724-730(2009)，该文献通过引用结合在此。预期这种方法还适用于对用叠氮化物功能化的石墨烯进行改性。在一个实施方案中，官能团可以吸附（例如物理吸附或化学吸附）到石墨烯表面上，而不是共价键结。一些掺杂剂物质还可以插入在石墨烯衬底的寡层中。
虽然已经结合被绝缘体包围的单一p-n结的生产描述了以上方法，但可以通过遵循相同步骤来生产更复杂的几何结构（例如包括许多个连接体的装置），例如通过使用包括多个开口的掩模以形成各自具有所希望的载流子密度的许多区域。总体而言，预期硅装置的掺杂的区域的几乎任何二维安排都具有石墨烯类似物。
另外，描述以上方法时参考了单一掺杂剂物质在各区域中的沉积。在一些实施方案中，多种掺杂剂物质可以施加到单一区域中。这些掺杂剂物质可以共沉积（以自发有序的、部分有序的或无序的构形），或者一种物质的沉积可能排斥另一者到石墨烯表面上的键合。在后一种情况下，排斥作用可以用来改进多个区域的校准。例如，如果电子供体掺杂剂物质也具有排斥电子受体掺杂剂物质的特性，那么就可以首先生产p型区域14。随后用于生产区域12的掩模遮蔽作用将不需要在区域12与14之间的边界处精确地对齐，但可以形成一定程度的重叠，而对受体物质的排斥将产生两个邻接但不重叠的区域。
已知某些物质以有序的模式沉积在石墨烯上，这些有序的模式取决于它们与碳所成的键的特征而且取决于空间因素。这些作用可以用于连续的反应中以便以有序的方式在小于完全饱和的情况下使其他的物质沉积。例如，已计算出对于11%的覆盖密度，苯基在石墨烯上的最佳覆盖率是每个具有18个石墨烯碳原子的单位晶胞有2个苯基。参看例如贝克亚洛娃（Bekyarova）等人,固态物理：研究快报（Phys.Status Solidi RRL）,3(6):187-189(2009)，该文献通过引用结合在此。可以用苯基以这种密度覆盖石墨烯衬底，并且随后暴露于物理上更小的掺杂剂物质（例如金属或卤化物），预期其可沉积在这些苯基之间。最后，可以任选地去除苯基，留下低于完全饱和浓度的该更小的掺杂剂物质。在一个实施方案中，苯基可以吸附而不是共价键合到石墨烯上，以有助于去除。还可以设想用于掺杂的更复杂的多步骤过程，例如在去除苯基之后，用不置换第一不饱和小掺杂剂物质的另一种小掺杂剂物质进行掺杂，从而获得一个模式化的共沉积的层。这些技术还可以用于例如生产包括两个掺杂的区域的石墨烯衬底，这两个掺杂的区域各自用相同的相互混合的共掺杂剂进行掺杂，但浓度、数密度或附接模式不同。掺杂剂还可以按在整个区域呈梯度的浓度、随机浓度或以任何其他适合的模式进行沉积，在该模式中，浓度在一个区域内变化。掺杂剂的混合物也可以同时共沉积在单一区域中，在这种情况下，掺杂剂可以无序地、以部分有序的方式、或以完全有序的方式（例如通过自发性自组装到一个有序阵列中）沉积。
在一个实施方案中，自由的石墨烯薄片的一侧或两侧都可以被功能化。例如，在图4中示出的实施方案中，区域40用一种第一掺杂剂物质进行功能化，并且区域42用一种第二掺杂剂物质在石墨烯薄片的相对侧上进行功能化。区域44代表这些功能化的区域之间的重叠区，预期该重叠区具有与不重叠的功能化的区域中的任一者都不同的电子特性。
在一个实施方案中，代替于或附加于对衬底进行光刻式掩模遮蔽，还可以通过在衬底附近施加一个模式化的电场或磁场来控制沉积。
在一个实例中，图1的构形中的p-n结是如下形成的。通过从HOPG上剥落来形成原始石墨烯衬底。用光刻掩模对衬底进行遮蔽，从而暴露区域16，并且将衬底暴露于冷的氢等离子体（0.1mbar 10%氢气-90%氩气混合物，30cm，2小时）中，以在该区域中形成石墨烷。（参看伊莱亚斯等人，同上。）然后去除掩模。
用水-和乙醇-相容性光刻掩模对衬底进行遮蔽，这使区域14暴露，并且然后将衬底在300K下浸在4-溴苯四氟硼酸重氮于1:1水/甲醇混合物中的1mM溶液中2小时，并且用水和甲醇冲洗，从而用重氮掺杂该区域以生产一个p型区域。（参看法默等人，同上。）然后去除光刻掩模。
最后，然后用使光刻掩模对衬底进行遮蔽，这使区域12和14暴露。使用具有叠氮基三甲基硅烷（ATS）的直接投料器（借助于一种可变的漏泄阀进行控制）向表面进行投料，叠氮基三甲基硅烷经由氮烯自由基吸附到石墨烯表面上。（参看蔡等人，同上。）已经掺杂的区域14排斥ATS，所以仅区域12被掺杂而生产出一个n型区域。然后去除掩模。在这个实例中，区域18尚未暴露于石墨烯改性程序中的任一者，并且因而仍然是原始的金属或半导电石墨烯。
在另一个实例中，氮掺杂的SiC衬底上的外延生长的石墨烯层具有固有的n型特征。掩模遮蔽石墨烯以使区域14暴露，并且在室温下使用努森池（Knudsen cell）使金沉积。然后在700°C下将衬底退火5分钟，这同时允许金键合到石墨烯层上（形成一个p型区域）并且分解抗蚀剂。（参看吉尔斯等人，同上。）然后对该层进行再遮蔽以覆盖区域12和14并且使区域16暴露，并且暴露于4-硝基苯基四氟硼酸重氮的溶液中，此形成一个绝缘区域。（参看贝克亚洛娃等人，同上。）然后去除抗蚀剂，留下被一个绝缘区域包围的一个p-n结。
在一个实施方案中，除以上描述的载流子群体以外，还可以选择掺杂剂以调节石墨烯的其他电子特性，如费米能级、能带结构、移动性、隧穿行为、或导电特征。例如，以下文献中论述了吸附物对费米能级和费米速度的影响：霍米亚科夫（Khomyakov）等人，“石墨烯与金属之间相互作用和电荷转移的第一原理研究（First-principles study of the interaction andcharge transfer between graphene and metals）”，物理评论B(Phys Rev B）,79:195425(2009)；焦万内蒂（Giovannetti）等人，“用金属接触对石墨烯进行掺杂（Doping graphene with metal contacts）”，物理评论快报(Phys RevLett）,101:026803(2008)；贝那亚德等人，“以Au离子浓度控制还原过的石墨氧化物的功函数（Controlling work function of reduced graphite oxidewith Au-ion concentration）”，化学物理快报（Chem Phys Lett）,475:91-95(2008)；以及陶保斯托（Tapaszto）等人，“通过离子照射来调谐石墨烯的电子结构（Tuning the electronic structure of graphene by ion irradiation）”，物理评论B(Phys Rev B）,78:233407(2008)，各自通过引用结合在此。
在一个实施方案中，替代于或附加于如以上论述地调节电荷载流子群体，还可以选择掺杂剂物质来改变石墨烯的光学或电光特性，如光学增益、透射率、反射率、电容率、磁导率、折射率、或各向异性，例如以形成等离子体装置（发射激光或被动式）或其他非线性电光装置。发现原始的石墨烯吸收πα=2.3%的入射白光，尽管该原始的石墨烯具有一个原子的厚度（其中α是精细结构常数，约1/137）。如在石墨烯氧化物中所观察的，石墨烯的sp2网络的破环（例如通过sp3键形成）降低透明度。参看例如奈尔（Nair）等人，“精细结构常数定义石墨烯的视觉透明度（Fine structureconstant defines visual transparency of graphene）”，科学(Science)，320:1308(2008)；金（Kim）等人，“用于可拉伸的透明的电极的石墨烯膜的大规模模式生长（Large-scale pattern growth of graphene films for stretchabletransparent electrodes）”，自然(Nature）,457:706-710(2009)；颁予申（Shin）等人的美国公开申请号2009/0146111；饶（Rao）等人，“石墨烯的一些新颖的属性（Some novel attributes of graphene）”.物理化学快报杂志(J PhysChem Lett）;1:572-580(2010)，各自通过引用结合在此。通过根据基于硅或其他的已知装置（如激光器、发光二极管、等离子体波导、光波导、光栅、荧光装置、吸光装置、光电子转换器、相移装置、干涉仪、光耦合器、或等离子体耦合器）类推，本领域的普通技术人员将认识到如何使用这些光学或电光特性来构造不同的基于石墨烯的光电子装置。
虽然在此已经披露了不同的方面和实施方案，但基于在此的传授的内容，本领域的普通技术人员应清楚其他的方面和实施方案。在此披露的不同的方面和实施方案是出于说明的目的，并且不希望具有限制性，而真正的范围和精神是由所附权利要求书指明。
虽然已经展示并且说明了在此描述的本发明主题的多个具体方面，但基于在此的教授的内容，本领域的普通技术人员应清楚，在不背离在此描述的这个主题以及其更广泛方面的情况下，可以进行更改和变换，并且因此所附权利要求书将在其范围内涵盖所有此类更改和变换，如同在此处描述的这个主题的真正精神和范围内。
虽然在此已经披露了不同的方面和实施方案，但本领域的普通技术人员应清楚其他的方面和实施方案。在此披露的不同的方面和实施方案是出于说明的目的，并且不希望具有限制性，而真正的范围和精神由所附权利要求书指明。
应理解，总体而言，在此、并且尤其是在所附权利要求书中所使用的术语通常希望作为“开放的”术语（例如术语“包括着”应解释为“包括着但不限于”，术语“具有”应解释为“至少具有”，术语“包括”应解释为“包括但不限于”等）。另外应理解，如果意指特定数目的一种所介绍的权利要求陈述物，那么将在该权利要求中明确陈述这种意思，并且在无这类陈述物的存在下，不呈现这种意思。例如，为帮助理解，所附权利要求书可以包含使用介绍性短语，如“至少一个（种）”或者“一个（种）或多个（种）”，以介绍多个权利要求陈述物。然而，使用这类短语不应被视为暗示由不定冠词“一个（种）”介绍的一个权利要求陈述物会将包含这类所介绍的权利要求陈述物的任何特别权利要求限制成仅包含一个这类陈述物的发明，即使当同一权利要求包括介绍性短语“一个（种）或多个（种）”或“至少一个（种）”以及不定冠词（如“一个（种）”）时（例如“一种官能团”典型地应解释为意味着“至少一种官能团”）；这对用于介绍权利要求陈述物的定冠词的使用同样成立。另外，即使明确陈述特定数目的一种所介绍的权利要求陈述物，也应认识到这类陈述物典型地应解释为意味着至少所陈述的数目（例如，“两种官能团”或“多种官能团”而无其他修饰语的裸陈述典型地意味着至少两种官能团）。此外，在使用短语，如“A、B以及C中的至少一者”、“A、B或C中的至少一者”或“一个（种）选自下组的[项目]，该组由A、B以及C组成”的情况下，总体而言希望这类结构是分离性的（例如这些短语中任一者都将包括但不限于具有以下各情况的系统：单独的A、单独的B、单独的C、A和B一起、A和C一起、B和C一起，或者A、B以及C一起，并且可以另外包括多于一个A、B或C，如A1、A2以及C一起；A、B1、B2、C1以及C2一起；或B1和B2一起）。另外应理解，事实上介绍两个或更多个替代性术语的任何分离性词语或短语，无论是在说明书、权利要求书还是附图中，都应理解为涵盖以下可能性：包括一个这些术语、这些术语中的任一个、或两个术语。例如，短语“A或B”应理解为包括以下可能性：“A”、或“B”、或“A和B”。此外，“可以”和“任选地”以及其他的许可性术语在此用于描述不同的实施方案的任选特征。除非上下文另外规定，否则这些术语通常同样描述可选择的或可配置的特征。
在此描述的方面描绘包含在多个不同的其他组件内的或与多个不同的其他组件连接的多个不同组件。应理解，这类所描绘的构造仅仅是示例性的，并且事实上，可以实施许多实现相同功能性的其他构造。在概念性意义上，用于实现相同功能性的组件的任何安排都是有效地“关联的”，以便实现所希望的功能性。因此，在此被组合以实现特别功能性的任何两个组件都可以看作彼此是“关联的”，以便实现所希望的功能性，而不管是构造还是中间组件。同样地，如此关联的任何两个组件还可以被视作是彼此“可操作地连接的”或“可操作地联接的”的，以实现所希望的功能性。能够被如此关联的任何两个组件还可以被视作是彼此“可操作地可联接”的，以实现所希望的功能性。可操作地可联接的特定实例包括但不限于物理上可配合或相互作用的组件或者以无线方式相互作用的组件。

Claims (43)

1.一种电子装置，包括：
一个石墨烯衬底，该石墨烯衬底包括一个第一界定区域和一个第二界定区域，该第二界定区域在至少一种电子特性方面与该第一界定区域不同，其中该第一界定区域用一种第一掺杂剂物质进行化学功能化，并且该第二界定区域用一种第二掺杂剂物质进行化学功能化。
2.如权利要求1所述的装置，其中该至少一种电子特性包括以下各项中的至少一项：费米能级、能带结构、载流子群体、移动性、隧穿行为、以及导电特征。
3.如权利要求1所述的装置，其中该至少一种电子特性方面的不同是该第一和该第二界定区域的功能化的结果。
4.如权利要求1所述的装置，其中该第一和该第二界定区域形成一个半导电结。
5.如权利要求1所述的装置，另外包括一个电连接到该第一界定区域上的第一连接体和一个电连接到该第二界定区域上的第二连接体。
6.如权利要求1所述的装置，其中该第一界定区域与该第二界定区域是邻接的。
7.如权利要求1所述的装置，另外包括一个第三界定区域，该第三界定区域在至少一种电子特性方面与该第一界定区域和该第二界定区域中的每一者都不同。
8.如权利要求1所述的装置，其中该第一掺杂剂物质和该第二掺杂剂物质使该石墨烯衬底的多个相对的表面功能化。
9.如权利要求1所述的装置，其中该第二掺杂剂物质与该第一掺杂剂物质不同。
10.如权利要求1所述的装置，其中该第一掺杂剂物质和该第二掺杂剂物质在浓度方面不同。
11.如权利要求1所述的装置，其中该第一掺杂剂物质和该第二掺杂剂物质在与该石墨烯衬底的附接模式方面不同。
12.如权利要求1所述的装置，其中该第一掺杂剂物质包括多个互混的掺杂剂子物质。
13.如权利要求1所述的装置，其中该第一掺杂剂物质包括一个附着到该石墨烯衬底上的第一结合的部分和一个可去除地附接到该第一结合的部分上的第一自由的部分。
14.如权利要求1所述的装置，其中该电子特性方面的不同随该自由的部分的一种特性而变化。
15.如权利要求1所述的装置，其中该第一掺杂剂物质插入在该石墨烯衬底中。
16.如权利要求1所述的装置，其中该第一掺杂剂物质在该第一界定区域内在附接模式方面变化。
17.如权利要求1所述的装置，其中该第一掺杂剂物质在该第一界定区域内在浓度方面变化。
18.如权利要求1所述的装置，其中该第二界定区域包围该第一界定区域。
19.一种电子装置，包括：
一个石墨烯衬底，该石墨烯衬底包括一个第一界定区域和一个第二界定区域，该第二界定区域在至少一种电子特性方面与该第一界定区域不同，其中该第一区域用一种第一掺杂剂物质进行化学功能化，并且其中该第一区域远离该石墨烯衬底的任何边缘。
20.如权利要求19所述的装置，其中该第二界定区域用一种第二掺杂剂物质进行化学功能化。
21.如权利要求20所述的装置，其中该第一掺杂剂物质和该第二掺杂剂物质使该石墨烯衬底的多个相对的表面功能化。
22.如权利要求19所述的装置，其中该至少一种电子特性方面的不同是该第一界定区域功能化的结果。
23.如权利要求19所述的装置，其中该第一和该第二界定区域形成一个半导电结。
24.如权利要求19所述的装置，其中该第二界定区域不包括该石墨烯衬底的边缘。
25.如权利要求19所述的装置，其中该第一掺杂剂物质包括一个附接到该石墨烯衬底上的第一结合的部分和一个可去除地连接到该第一结合的部分上的第一自由的部分。
26.一种电子电路，包括：
一个石墨烯衬底，该石墨烯衬底包括：
一个第一装置，该第一装置包括该石墨烯衬底的一个第一界定区域和该石墨烯衬底的一个第二界定区域，该第二界定区域在至少一种第一电子特性方面与该第一界定区域不同，其中该第一区域用一种第一掺杂剂物质进行化学功能化；以及
一个第二装置，该第二装置包括该石墨烯衬底的一个第三界定区域和该石墨烯衬底的一个第四界定区域，该第四界定区域在至少一种第二电子特性方面与该第三界定区域不同，其中该第三区域用一种第二掺杂剂物质进行化学功能化。
27.如权利要求26所述的电路，其中该第一和该第二装置具有实质上相同的电子特征。
28.如权利要求26所述的电路，另外包括该石墨烯衬底的一个第五界定区域，该第五界定区域充当该第一和该第二装置之间的一个连接体。
29.如权利要求26所述的装置，其中该第一和该第二界定区域形成一个半导电结。
30.如权利要求26所述的装置，其中该第一掺杂剂物质和该第二掺杂剂物质使该石墨烯衬底的多个相对的表面功能化。
31.如权利要求26所述的装置，其中该第一装置和该第二装置定位在该石墨烯衬底的多个相对的表面上。
32.如权利要求26所述的装置，其中该第二掺杂剂物质与该第一掺杂剂物质不同。
33.一种在石墨烯衬底上形成电子装置的方法，包括：
用一种第一掺杂剂物质对该石墨烯衬底的一个第一界定区域进行功能化；并且
用一种第二掺杂剂物质对该石墨烯衬底的一个第二界定区域进行功能化，该功能化的第一区域在一种电特性方面与该功能化的第二界定区域不同。
34.如权利要求33所述的方法，其中对该第一界定区域进行功能化包括将该第一区域选择性地暴露于一种化学溶液中。
35.如权利要求33所述的方法，其中对该第一界定区域进行功能化包括以光刻方式用掩模遮蔽该石墨烯衬底。
36.如权利要求33所述的方法，其中对该第一界定区域进行功能化包括向该石墨烯衬底施加一个空间上模式化的电势。
37.如权利要求33所述的方法，其中对该第一界定区域进行功能化包括向该石墨烯衬底中引入一个缺陷。
38.如权利要求33所述的方法，其中该第一界定区域和该第二界定区域同时被功能化。
39.如权利要求33所述的方法，其中该第一界定区域在该第二界定区域之前被功能化。
40.如权利要求39所述的方法，其中该第二界定区域与该第一界定区域重叠。
41.如权利要求40所述的方法，其中对该第二界定区域进行功能化包括使该第二掺杂剂物质与该第一掺杂剂物质共沉积。
42.如权利要求40所述的方法，其中该第一掺杂剂物质排斥该第二掺杂剂物质使其不沉积在该石墨烯衬底上。
43.一种在石墨烯衬底上形成电子装置的方法，包括：
用一种第一掺杂剂物质对该石墨烯衬底的一个第一界定区域进行功能化，该功能化的第一区域在一种电特性方面与一个第二界定区域不同，该功能化的第一区域远离该石墨烯衬底的任何边缘。
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