CN102804006A - 光纤型光学元件、激光二极管模块及光纤激光器 - Google Patents

光纤型光学元件、激光二极管模块及光纤激光器 Download PDF

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Abstract

具有：沿入射的光的波导方向延伸的芯部（1）；感光层（3a），沿波导方向延伸并环绕芯部（1）的周围，通过规定波长的紫外线的照射而形成光栅（4a），在芯部（1）和感光层（3a）之间，设置有折射率比芯部（1）低、且通过规定波长的紫外线的照射使折射率变化的光敏性比感光层（3a）低的第一包层部（2）。

Description

光纤型光学元件、激光二极管模块及光纤激光器
技术领域
本发明涉及光纤型光学元件，尤其是关于与光纤光栅相关的光纤型光学元件、具有该光纤型光学元件的激光二极管模块及光纤激光器。
背景技术
近年，使用高功率LD（Laser Diode；LD）的LD模块的开发积极地进展。
以往的LD模块主要具有LD和透镜光纤。透镜光纤是光纤的一个端面呈透镜形状（以下称为“透镜部”）的光纤，通过透镜部的聚光功能使从LD激发的激光聚光在芯部。
但是，在使用以往的透镜光纤的LD模块中，不能被透镜部聚光的光作为不要的光或剩余的光而结合到包层部。例如，使用输出功率为10W左右的高功率LD的情况下，有时约0.5W～1W的光结合到包层部。因此，结合到包层部的光被形成在光纤的周围的覆盖部和金属涂层部吸收的情况下，覆盖部和金属涂层部成为高温状态，可能损坏。
为避免这样的问题，在入射到形成有覆盖部和金属涂层部的区域之前，使在包层部中波导的光结合到辐射模，向光纤外辐射即可。作为使在包层部中波导的光结合到辐射模所能利用的技术，有专利文献1公开的光纤及专利文献2公开的光传输光纤。
在专利文献1公开的光纤中，作成由以下部件构成的光纤，即，由低折射率材料构成的内包层、和由以少量空气填满的区域和包含散射体的区域构成的外包层，使外包层中的以少量空气填满的区域沿波导方向局部地坍陷（collapse）。在该专利文献1公开的光纤中，利用外包层所含有的散射体，使漏出到外包层的光散射。
另一方面，专利文献2公开的光传输光纤包含厚度比内侧包层薄且折射率低的外侧包层。该光传输光纤通过适当地设定折射率的值，使沿内侧包层传播的杂散光折射，并被外侧包层捕捉，适当地选择外侧包层的厚度，使捕捉的杂散光向覆盖层扩散。
然而，作为能够有选择地在特定模间发生结合的技术，公知光纤光栅（以下简称为“FG”）。
FG是指沿光纤的波导方向形成有折射率的摄动（以下称为“折射率光栅”）的光纤型光学元件。
通过该FG中的折射率光栅，能够有选择地在特定模间发生结合。
作为这样的FG的制造方法，使用向光纤照射紫外线而通过光折变效应使芯部的折射率变化的方法。这里，光折变效应是指，例如，向作为掺杂物而添加了锗（Ge）的石英玻璃（SiO2）照射波长240nm左右的紫外线时，引起石英玻璃的折射率的上升的现象。根据该FG，具有不需要大幅度变更一般的光纤的基本构造的优点。
在这样的以往的FG相关技术中，在芯部形成折射率光栅的情况较多，专利文献3公开了在芯部和包层部形成光栅的FG。另外，专利文献4公开了在接近芯部的包层部形成折射率光栅的FG。
专利文献1:美国公开专利公报“第2009/169162号公报（公开日：2009年7月2日）”
专利文献2:日本国公开专利公报“特开2008-199025号公报（公开日：2008年8月28日）”
专利文献3:日本国公开专利公报“特开2001-015841号公报（公开日：2001年1月19日）”
专利文献4:国际公开“第1997/026571号说明书（国际公开日：1997年7月24日）”
但是，由于上述以往的专利文献1公开的光纤是利用外包层含有的散射体使光散射这样的特殊构造，所以存在难以使光在波导方向的所期望的位置散射的问题。另外，如上所述，由于是与一般的光纤不同的特殊构造，所以存在光纤彼此的熔敷和透镜加工等的加工困难的问题。
其次，在上述以往的专利文献2公开的光传输光纤中，需要严密地设定内侧包层和外侧包层的折射率差、和内侧包层及外侧包层的厚度，难以加工，难以使光在波导方向的所期望的位置散射，这些方面与上述专利文献1公开的光纤是同样的。
其次，在专利文献3公开的FG中，在芯部和包层部形成折射率光栅。另外，在专利文献4公开的FG中，形成在包层部的折射率光栅接近芯部。由此，折射率光栅成为影响芯模光的干扰，可能使芯模光发生损失。此外，如专利文献3记载的那样，关于通过使光纤蛇行而形成光栅的情况也是同样的。
发明内容
本发明是鉴于所述问题而提出的，其目的是提供一种光纤型光学元件等，能够尽可能地排除对芯模光带来影响的干扰，并且在波导方向的所期望的位置有选择地使包层模光结合到其他模或反射。
本发明的光纤型光学元件为解决所述课题，其特征在于，具有：沿入射的光的波导方向延伸的芯部；感光层，是沿所述波导方向延伸并环绕所述芯部的周围的感光层，在规定波长的紫外线的照射下形成折射率光栅，在所述芯部和所述感光层之间，设置有折射率比芯部低、且在所述规定波长的紫外线的照射下折射率变化的光敏性比所述感光层低的包层部。
根据所述结构，本发明的光纤型光学元件具有沿入射的光的波导方向延伸的芯部、和沿波导方向延伸并环绕芯部的周围的感光层，在芯部和感光层之间设置有包层部。这里，包层部的折射率比芯部的折射率低。
另外，感光层是通过规定波长的紫外线的照射形成折射率光栅的层，包层部的光敏性比通过规定波长的紫外线的照射而折射率变化的感光层低。换言之，感光层是光敏性比包层部高的层。此外，光敏性是通过规定波长的紫外线的照射而折射率变化的性质，被称为光折变效应。
由此，包层部难以受到光折变效应，感光层容易受到光折变效应。因此，能够使通过规定波长的紫外线的照射形成的折射率光栅从芯部分离。因此，对于作为振幅向芯部偏在的波导模、即通过芯和包层的折射率差而满足全反射条件的波导模传播的光（以下称为“芯模光”）来说，折射率光栅不会成为干扰。
此外，折射率光栅中的折射率的摄动优选具有周期性，但不要求严密的周期性。例如，折射率光栅的摄动周期也可以在波导方向恒定，也可以在波导方向连续地变化（啁啾光纤光栅）。另外，折射率光栅也可以是下述的长周期光栅，也可以是下述的布拉格光栅。此外，布拉格光栅也可以是下述的倾斜型的布拉格光栅。
通过调整折射率光栅的形成位置及其折射率的摄动周期，能够在波导方向的所期望的位置，有选择地使规定波长的包层模光结合到其他模（包括辐射模）或反射。另外，若使用这样的FG，不需要使光纤型光学元件的形状变形（弯曲），从而不会受到变形的影响而使芯模光损失。另外，若使用FG，不需要大幅度变更一般的光纤的基本构造，加工容易。
以上，根据本发明的光纤型光学元件，形成在光纤型光学元件上的折射率光栅不会成为对芯模光带来影响的干扰。
因此，能够尽可能地排除对芯模光带来影响的干扰，并且能够在波导方向的所期望的位置有选择地使包层模光结合到其他模或反射。
如上所述，本发明的光纤型光学元件具有：沿入射的光的波导方向延伸的芯部；感光层，是沿所述波导方向延伸并环绕所述芯部的周围的感光层，在规定波长的紫外线的照射下形成折射率光栅，在所述芯部和所述感光层之间，设置有折射率比芯部低、且在所述规定波长的紫外线的照射下折射率变化的光敏性比所述感光层低的包层部。
由此，能够发挥以下效果，尽可能地排除对芯模光的干扰，并且在波导方向的所期望的位置有选择地使包层模光结合到其他模或反射。
本发明的其他目的、特征及优点可以通过以下的记载充分地理解。另外，本发明的优点可以通过参照附图的以下说明明确。
附图说明
图1表示本发明的一实施方式的光纤型光学元件的结构，是沿包含芯部的中心轴在内的平面剖切时的剖视图（上段）、所述光纤型光学元件的沿A-A’线的剖视图（中段）及表示A-A’截面上的折射率分布的图表（下段）。
图2表示本发明的其他实施方式的光纤型光学元件的构造，是沿包含芯部的轴在内的平面剖切时的剖视图（上段）、所述光纤型光学元件的沿B-B’线的剖视图（中段）及表示B-B’截面上的折射率分布的图表（下段）。
图3表示本发明的又一实施方式的光纤型光学元件的结构，是沿包含芯部的中心轴在内的平面剖切时的剖视图（上段）、所述光纤型光学元件的沿A-A’线的剖视图（中段）及表示A-A’截面上的折射率分布的图表（下段）。
图4表示本发明的又一实施方式的光纤型光学元件的构造，是沿包含芯部的轴在内的平面剖切时的剖视图（上段）、所述光纤型光学元件的沿B-B’线的剖视图（中段）及表示B-B’截面上的折射率分布的图表（下段）。
图5是用于说明所述光纤型光学元件的制造方法的图，（a）表示用第一覆盖层及第二覆盖层覆盖所述光纤型光学元件的周围的情况，（b）表示除去第二覆盖层的一部分时的情况，（c）表示向除去了第二覆盖层的一部分的部分照射紫外线时的情况，（d）表示向所述第一覆盖层照射紫外光的衍射光时的各结构要素的配置。
图6是表示本发明的又一实施方式的光纤激光器的结构的框图。
图7是表示本发明的又一实施方式的LD模块的结构的图，（a）表示所述LD模块的截面（侧截面）的构造的一例，（b）表示透镜光纤的透镜部的截面（侧截面）的构造的一例。
具体实施方式
以下，基于图1～图7说明本发明的一实施方式。关于以下的特定的实施方式中说明的结构以外的结构，根据情况省略说明，但与其他实施方式中说明的结构相同。另外，为便于说明，各实施方式中的具有相同功能的部件标注相同的附图标记，并适当省略其说明。
〔1.第一实施方式〕
首先，基于图1说明本发明的一实施方式的光纤型光学元件10a。
图1表示光纤型光学元件10a的结构，是沿包含芯部1的中心轴在内的平面剖切时的剖视图（上段）、光纤型光学元件10a的沿A-A’线的剖视图（中段）及表示A-A’截面上的折射率分布的图表（下段）。
如图1所示，光纤型光学元件10a包括：芯部1，A-A’截面为圆形状，沿入射的光的波导方向延伸；第一包层部（包层部）2，A-A’截面为大致圆环状，沿波导方向延伸，环绕芯部1的周围；感光层3a，A-A’截面为大致圆环状，沿波导方向延伸，环绕第一包层部2。
此外，感光层3a中的“感光”是指针对规定波长的紫外线而言的光敏性，“光敏性（光折变效应（photorefractive））”是指因规定波长的紫外线的照射而折射率发生变化的性质。
芯部1主要由石英玻璃（二氧化硅：SiO2）构成，为使折射率比第一包层部2高、且使光敏性比感光层3b小（或不显示），添加约4.0Wt%的铝（Al）。芯径d1为约105μm。此外，掺杂物除了铝以外，也可以是磷（P），但不限于此。
为使折射率比芯部1低、且使光敏性比感光层3b小（或不显示），第一包层部2由无添加的石英玻璃构成。第一包层部2的厚度为7.5μm，第一包层直径d2为120μm。此外，在本实施方式中，第一包层部2是无添加的，但除了掺杂比芯部1浓度低的铝以外，也可以掺杂磷、氟（F）等。
在本实施方式中，感光层3a为了使光敏性比芯部1及第一包层部2大（或显示），添加约2.4Wt%的锗（Ge），其结果，折射率变得比第一包层部2高。但是，感光层3a的折射率也可以根据需要比第一包层部2低。
另外，感光层3a的厚度为约2.5μm，感光层外径d3为约125μm。此外，掺杂物除了锗以外，也可以是氧化钛（TiO2）、硼（B），但不限于此。
此外，表示A-A’截面上的折射率分布的图表，示意地示出了芯部1、第一包层部2及感光层3a的各自的折射率的大小关系，折射率n1、n2及n3分别表示芯部1、第一包层部2及感光层3a的折射率。此外，由于折射率取决于针对石英玻璃的掺杂物的种类及其添加量，所以省略关于折射率n1～n3的具体值。
根据以上的结构，在芯部1和感光层3a之间配置不显示光折变效应的第一包层部2。因此，能够仅在从芯部1分离的感光层3a上发生因规定波长的紫外线的照射而产生的折射率n的摄动。
在本实施方式的光纤型光学元件10a中，仅在感光层3a上形成通过因波长244nm的紫外线（氩气激光的第二谐波）的照射而产生的折射率n的摄动所形成的光栅（折射率光栅）4a。感光层3a中的光栅4a从距离下述的透镜部（一个端面）82约2.5cm的位置开始沿波导方向在约2cm的范围内延伸。
此外，本实施方式的光栅4a是沿波导方向具有周期性的长周期光纤光栅（以下，称为“长周期光栅”），周期PL为几μm～100μm左右。但是，光栅4a也可以不具有严密的周期性。例如，周期PL可以在波导方向上恒定，也可以在波导方向上连续地变化（啁啾FG）。
另外，根据需要，光栅4a也可以采用短周期（1μm以下）的光纤布拉格光栅（以下，称为“布拉格光栅”）。而且，光栅4a也可以如下述的第六实施方式所示的例子那样采用倾斜型的布拉格光栅（以下称为“倾斜型光栅”）。倾斜型光栅能够通过其角度转换效应强力地结合到辐射模。
以上，如图1所示，能够通过调整光栅4a的周期PL，根据需要使第一包层部2中的规定波长的包层模光L1有选择地结合到其他模（例如，辐射模L2）。而且，由于光栅4a从芯部1分离地形成，所以不受光栅4a的影响，而由芯部1和第一包层部2的折射率差而满足全反射条件的波导模（以下称为“芯模光”）损失。
此外，在上述专利文献2的光传输光纤中，在光传输光纤的任意位置漏出杂散光的情况下，需要高位置精度地剥离覆盖层，但这样的加工非常困难，制作精度方面存在问题。而且，由于芯模光向覆盖部漏出，在覆盖部发热，所以需要用于散热的构造，结构的自由度低。但是，根据本实施方式的光纤型光学元件10a，仅照射紫外线，在感光层3a的波导方向的任意位置形成光栅4a，能够使杂散光结合到辐射模，因此光纤的距离的控制是容易的，结构的自由度高。
（关于从芯部和包层部的界面到感光层的距离）
以下，关于从芯部1和第一包层部2的界面到感光层3a的距离（包层部的厚度）Δ〔=（d2-d1）/2；未图示〕进行说明。
一般来说，从所述界面向第一包层部2渗出时的渗出深度为波导模的波长左右。即，距离
Figure BDA00002159833400071
波导模的波长。
即，若距离Δ≥波导模的波长，则振幅向芯部1偏在的波导模（芯模光）几乎不会受到光栅4a的影响。
其次，从光强度的观点出发，若在芯模光的强度变得比最大强度的l/e2小的区域(与单模光纤中的模场直径外的区域相当)形成感光层3b，则可以认为芯模光几乎不受光栅4a的影响。
其次，从功率的观点出发，关于将与受折射率光栅的影响的部分的光相当的功率抑制在从芯部1向第一包层部2漏出的光的功率的1％以下的条件进行说明。
首先，光栅4a对芯模光的影响能够从下式(1)估计。式(1)是设芯径为a、设θ方向的波导模的次数为l时的、芯外(r＞a)的阶跃折射率光纤(step index fiber)的电场分布Ez(r)。Jl(ka)是贝塞尔函数，Kl(γr)是变形贝塞尔函数。
[式1]
E z ( r ) < J l ( &kappa;a ) K l ( &gamma;a ) &times; K l ( &gamma;r ) &times; Cos ( 1 &theta; + &phi; l ) &CenterDot; &CenterDot; &CenterDot; ( 1 )
此时，向包层部的衰减由Kl(γr)表示，θ方向的模数越小，衰减常数越小，从而以下考虑基底模(l=0)。此时，基底模的情况下的向包层部的衰减由K0(γr)表示。
另外，k是波数，γ是由下式(2)定义的常数，是初始相位。
[式2]
&gamma; = k 0 n eq 2 - n 2 2 &CenterDot; &CenterDot; &CenterDot; ( 2 )
这里，k0是常数，neq是相对于基底模的波长而言的芯部的等效折射率，n2是包层部的折射率。
通过式(2)可知，多模芯的最高次的波导模的衰减常数变小。
例如，在石英玻璃类的芯部中对900nm左右的波长的光进行波导，芯部的等效折射率neq和包层部的折射率n2之差为10-4时，距离Δ为5μm以上，则受折射率光栅的影响的是与从芯向包层漏出的光的功率的1％以下相当的部分的光。
因此，严密地来说，在距离Δ＝5μm时，与从芯部1向第一包层部2漏出的光的功率的1%以下相当的部分的光受到折射率光栅的影响。
但是，考虑到若芯径充分大，则芯模光几乎向芯部偏在，在距离Δ=5μm时，可以无视折射率光栅对芯模光的影响。
换言之，若距离Δ≥5μm，则与在芯部1中波导的光的功率的99%以上相当的部分不受光栅4a的影响。
以上，更具体地，优选距离Δ≥5μm。
另外，从芯模光的损失的观点出发，光纤型光学元件10a及下述的光纤型光学元件10b～10d优选为，振幅向芯部1偏在的波导模的光的损失大于0dB/mm且在0.3dB/mm以下。
若芯模光的损失为0.3dB/mm以下，则可以认为形成在光纤型光学元件10a～10d上的光栅4a～4d从芯部1充分地分离，不会成为对芯模光带来影响的干扰。
如上所述，根据光纤型光学元件10a，不需要使光纤型光学元件10a变形，感光层3a的光栅4a不会成为干扰而使芯模光受到影响，从而能够尽可能地排除对芯模光带来影响的干扰。
由此，能够尽可能地排除对芯模光带来影响的干扰，在波导方向的任意位置有选择地使第一包层部2中的包层模光结合到其他模（辐射模）或反射。另外，由于使用FG的方法，所以不需要大幅度变更光纤型光学元件10a的基本构造，光纤型光学元件10a的加工容易。
〔2.第二实施方式〕
以下，基于图2说明本发明的其他实施方式的光纤型光学元件10b。
图2表示光纤型光学元件10b的结构，是沿包含芯部1的中心轴在内的平面剖切时的剖视图（上段）、光纤型光学元件10b的沿B-B’线的剖视图（中断）及表示B-B’截面上的折射率分布的图表（下段）。
光纤型光学元件10b是所谓的双包层光纤，如图2所示，包括：芯部1，B-B’截面为圆形状，沿入射的光的波导方向延伸；第一包层部2，B-B’截面为大致圆环状，沿波导方向延伸，环绕芯部1的周围；感光层3b，B-B’截面为大致圆环状，沿波导方向延伸，环绕第一包层部的周围；第二包层部（包层部）5，B-B’截面为大致圆环状，沿波导方向延伸，环绕感光层3b的周围。此外，感光层3b中的“感光”与上述感光层3a的情况相同。另外，关于“光敏性（光折变效应）”，也与上述感光层3a的情况相同。
这里，以下，在具有多个包层部的情况下，例如，从接近芯部1的一方开始依次称为第一包层部2、第二包层部5、···第L包层部...第N包层部（L、N是自然数；L＜N）。
此时，感光层3b也可以接近从第一包层部2～第N包层部中选择的一个包层部的外周侧地设置。
例如，在有选择地使第L包层部的包层模光结合到其他模（包括辐射模）或反射的情况下，感光层3b只要接近第L包层部的外周侧地设置即可。
芯部1主要由石英玻璃构成，为使折射率比第一包层部2高、使光敏性比感光层3b小（或不显示），添加6.0Wt%的铝。芯径d1为20μm。此外，掺杂物除了铝以外，也可以是磷，但不限于此。此外，为了作为光纤激光器中的放大介质利用，在芯部1中，还添加了1000～100000ppm左右的稀土金属即镱（Yb）。此外，作为稀土金属也可以是铥（Tm）或铒（Er），但稀土金属不限于此。
第一包层部2主要由石英玻璃构成，为了使折射率比芯部1低，使光敏性比感光层3b小（或不显示），添加2.5Wt%的铝。第一包层部2的厚度为20μm，第一包层径d2为约60μm。此外，掺杂物除了浓度比芯部1低的铝以外，还可以是磷、氟，但不限于此。
感光层3b为了使折射率比第一包层部2低、使光敏性比芯部1及第一包层部2大（或显示），添加约3.0Wt%的锗。另外，感光层3b的厚度为约140μm，感光层外径d3为约340μm。此外，掺杂物除了锗以外，还可以是氧化钛、硼，但不限于此。
第二包层部5为了使折射率比感光层3b低、使光敏性比感光层3b小，由无添加的石英玻璃构成。第二包层部5的厚度为约30μm，第二包层径d4为约400μm。
此外，表示B-B’截面上的折射率分布的图表，示意地示出了芯部1、第一包层部2、感光层3b及第二包层部5的各自的折射率的大小关系，折射率n1、n2、n3及n4分别表示芯部1、第一包层部2、感光层3b及第二包层部5的折射率。此外，由于折射率取决于针对石英玻璃而言的掺杂物的种类及其添加量，所以省略关于折射率n1～n4的具体值。
根据以上的结构，在芯部1和感光层3b之间配置不显示光折变效应的第一包层部2。因此，能够仅在从芯部1分离的感光层3b上发生由规定波长的紫外线的照射产生的折射率n的摄动。
在本实施方式的光纤型光学元件10b中，仅在感光层3b上形成通过由波长244nm的紫外线的照射而产生的折射率n的摄动所形成的光栅（折射率光栅）4b。感光层3b中的光栅4b从光纤型光学元件10b的一个端面的位置开始沿波导方向在约20mm的范围内延伸。
此外，本实施方式的光栅4b是沿波导方向具有周期性的布拉格光栅，周期PS为约310nm。另外，光栅4a也可以根据需要采用波长的整数倍的布拉格光栅、上述长周期光栅或倾斜型的布拉格光栅。
以上，如图2所示，能够通过调整光栅4b的周期PS，在波导方向的任意位置，根据需要有选择地反射第一包层部2及感光层3b中的规定波长的包层模光L1’作为反射光L2’。而且，由于光栅4b从芯部1分离地形成，所以不会受到光栅4b的影响而使芯模光损失。
此外，从芯部1和第一包层部2的界面到感光层3b的距离Δ（第一包层部2的厚度）与第一实施方式相同。即，若在芯模光的强度比最大强度的1/e2小的区域中形成有感光层3b，则芯模光几乎不受光栅4a的影响。另外，更优选的是，距离Δ≥5μm。
如上所述，根据光纤型光学元件10b，不需要使光纤型光学元件10b变形，感光层3b的光栅4b不会成为干扰而使芯模光受到影响，从而能够尽可能地排除对芯模光带来影响的干扰。
因此，能够尽可能地排除对芯部1带来影响的干扰，在波导方向的所期望的位置有选择地反射第一包层部2中的包层模光。另外，由于使用FG的方法，所以不需要大幅度变更光纤型光学元件10b的基本构造，光纤型光学元件10b的加工容易。
〔3.第三实施方式〕
以下，基于图3说明本发明的一实施方式的光纤型光学元件10c。
图3表示光纤型光学元件10c的结构，是沿包含芯部1的中心轴在内的平面剖切时的剖视图（上段）、光纤型光学元件10c的沿A-A’线的剖视图（中段）及表示A-A’截面上的折射率分布的图表（下段）。
如图3所示，光纤型光学元件10c包括：芯部1，A-A’截面为圆形状，沿入射的光的波导方向延伸；第一包层部（包层部）2，A-A’截面为大致圆环状，沿波导方向延伸，环绕芯部1的周围；感光层3c，A-A’截面为大致圆环状，沿波导方向延伸，环绕第一包层部2。
此外，感光层3c中的“感光”及“光敏性（光折变效应）”与上述感光层3a及感光层3b的情况相同。
芯部1为了使光敏性比感光层3c小（或不显示），而由无添加的石英玻璃构成。芯部1的折射率比第一包层部2高。芯径d1为约105μm。
第一包层部2为了使折射率比芯部1低、使光敏性比感光层3c小（或不显示），向石英玻璃添加约2.0Wt%的氟（F）。
第一包层部2的厚度为7.5μm，第一包层径d2为120μm。此外，此外，掺杂物除了上述氟以外，也可以是铝或磷，但不限于此。
在本实施方式中，感光层3c为了使光敏性比芯部1及第一包层部2大（或显示），添加约2.4Wt%的锗（Ge），其结果，折射率变得比第一包层部2高。但是，感光层3c的折射率也可以根据需要比第一包层部2低。
另外，感光层3c的厚度为约2.5μm，感光层外径d3为约125μm。此外，掺杂物除了锗以外，也可以是氧化钛（TiO2）、硼（B），但不限于此。
此外，表示A-A’截面上的折射率分布的图表，示意地表示芯部1、第一包层部2及感光层3c的各自的折射率的大小关系，折射率n1、n2及n3分别表示芯部1、第一包层部2及感光层3c的折射率。此外，由于折射率取决于针对石英玻璃而言的掺杂物的种类及其添加量，所以省略折射率n1～n3的具体值。
根据以上的结构，在芯部1和感光层3a之间配置有不显示光折变效应的第一包层部2。因此，能够仅在从芯部1分离的感光层3c上发生因规定波长的紫外线的照射产生的折射率n的摄动。
在本实施方式的光纤型光学元件10a中，仅在感光层3c上形成通过因波长244nm的紫外线（氩气激光的第二谐波）的照射而产生的折射率n的摄动所形成的光栅（折射率光栅）4c。感光层3c中的光栅4c从距离下述的透镜部（一个端面）82约2.5cm的位置开始沿波导方向在约2cm的范围内延伸。
此外，本实施方式的光栅4c是上述长周期光栅，周期PL为几μm～100μm左右。但是，光栅4c也可以不具有严密的周期性。例如，周期PL也可以相对于波导方向恒定，也可以相对于波导方向连续地变化（啁啾FG）。
另外，根据需要，光栅4c也可以采用上述布拉格光栅。而且，光栅4c也可以如下述的第六实施方式所示的例子那样采用上述倾斜型光栅。
以上，如图3所示，能够通过调整光栅4c的周期PL，根据需要有选择地使第一包层部2中的规定波长的包层模光L1结合到其他模（例如，辐射模L2）。而且，由于光栅4c从芯部1分离地形成，所以不会受光栅4c的影响而使芯模光损失。
此外，在上述专利文献2的光传输光纤中，在光传输光纤的任意位置漏出杂散光的情况下，需要高位置精度地剥离覆盖层，但这样的加工非常困难，制作精度方面存在问题。而且，由于芯模光向覆盖部漏出，覆盖部发热，所以需要用于散热的构造，结构的自由度低。但是，根据本实施方式的光纤型光学元件10c，由于能够仅照射紫外线，在感光层3c的波导方向的任意位置形成光栅4c，使杂散光结合到辐射模，所以光纤的距离的控制容易，结构的自由度高。
此外，从芯部1和第一包层部2的界面到感光层3c的距离Δ（第一包层部2的厚度）与第一实施方式相同。即，若在芯模光的强度比最大强度的1/e2小的区域形成感光层3c，则芯模光几乎不受光栅4c的影响。另外，更优选的是，距离Δ≥5μm。
另外，从芯模光的损失的观点出发，光纤型光学元件10c优选为，振幅向芯部1偏在的波导模的光的损失大于0dB/mm且在0.3dB/mm以下。
若芯模光的损失在0.3dB/mm以下，则可以认为形成在光纤型光学元件10c上的光栅4c从芯部1充分地分离，不会成为对芯模光带来影响的干扰。
如上所述，根据光纤型光学元件10c，由于不需要使光纤型光学元件10c变形，感光层3c的光栅4c不会成为干扰使芯模光受到影响，能够尽可能地排除对芯模光带来影响的干扰。
因此，能够尽可能地排除对芯模光带来影响的干扰，在波导方向的任意位置有选择地使第一包层部2中的包层模光结合到其他模（辐射模）或反射。另外，由于使用FG的方法，所以不需要大幅度变更光纤型光学元件10c的基本构造，光纤型光学元件10c的加工容易。
〔4.第四实施方式〕
以下，基于图4说明本发明的其他实施方式的光纤型光学元件10d。
图4表示光纤型光学元件10d的结构，是沿包含芯部1的中心轴在内的平面剖切时的剖视图（上段）、光纤型光学元件10d的沿B-B’线的剖视图（中断）及表示B-B’截面上的折射率分布的图表（下段）。
光纤型光学元件10d是所谓的双包层光纤，如图4所示，包括：芯部1，B-B’截面为圆形状，沿入射的光的波导方向延伸；第一包层部2，B-B’截面为大致圆环状，沿波导方向延伸，环绕芯部1的周围；感光层3d，B-B’截面为大致圆环状，沿波导方向延伸，环绕第一包层部的周围；第二包层部（包层部）5，B-B’截面为大致圆环状，沿波导方向延伸，环绕感光层3d的周围。此外，感光层3d中的“感光”及“光敏性（光折变效应）”与上述感光层3a～3c的情况相同。
这里，以下，在具有多个包层部的情况下，例如，从接近芯部1的一方开始依次称为第一包层部2、第二包层部5、…第L包层部...第N包层部（L、N是自然数；L＜N）。
此时，感光层3d也可以接近从第一包层部2～第N包层部中选择的一个包层部的外周侧地设置。
例如，有选择地使第L包层部的包层模光结合到其他模（包括辐射模）或反射的情况下，感光层3d接近第L包层部的外周侧地设置即可。
芯部1为了使光敏性比感光层3d小（或不显示），而由无添加的石英玻璃构成。芯径d1为20μm。此外，在本实施方式中，芯部1是无添加的，但也可以将铝、磷、氟（F）等作为掺杂物。
另外，为了作为光纤激光器中的放大介质利用，向芯部1再添加1000～100000ppm左右的稀土金属即镱（Yb）。此外，作为稀土金属也可以是铥（Tm）或铒（Er），但稀土金属不限于此。
第一包层部2主要由石英玻璃构成，为了使折射率比芯部1低、使光敏性比感光层3d小（或不显示），向石英玻璃添加约2.0Wt%的氟（F）。
第一包层部2的厚度为20μm，第一包层径d2为约60μm。此外，掺杂物除了铝以外，也可以是磷，但不限于此。
感光层3d为了使折射率比第一包层部2低、使光敏性比芯部1及第一包层部2大（或显示），添加约3.0Wt%的锗。另外，感光层3d的厚度为约140μm，感光层外径d3为约340μm。此外，掺杂物除了锗以外，也可以是氧化钛、硼，但不限于此。
第二包层部5为了使折射率比感光层3d低、使光敏性比感光层3d小，而由无添加的石英玻璃构成。第二包层部5的厚度为约30μm，第二包层径d4为约400μm。
此外，表示B-B’截面上的折射率分布的图表，示意地示出了芯部1、第一包层部2、感光层3d及第二包层部5的各自的折射率的大小关系，折射率n1、n2、n3及n4分别表示芯部1、第一包层部2、感光层3d及第二包层部5的折射率。此外，由于折射率取决于针对石英玻璃而言的掺杂物的种类及其添加量，所以省略折射率n1～n4的具体值。
根据以上的结构，在芯部1和感光层3d之间配置不显示光折变效应的第一包层部2。因此，能够仅在从芯部1分离的感光层3d上发生由规定波长的紫外线的照射产生的折射率n的摄动。
在本实施方式的光纤型光学元件10d中，仅在感光层3d上形成通过因波长244nm的紫外线的照射而产生的折射率n的摄动所形成的光栅（折射率光栅）4d。感光层3d中的光栅4d从光纤型光学元件10d的一个端面的位置开始沿波导方向在约20mm的范围内延伸。
此外，本实施方式的光栅4d是沿波导方向具有周期性的布拉格光栅，周期PS为约310nm。另外，光栅4d也可以根据需要采用波长的整数倍的布拉格光栅、上述长周期光栅或倾斜型的布拉格光栅。
以上，如图4所示，能够通过调整光栅4d的周期PS，在波导方向的任意位置根据需要有选择地使第一包层部2及感光层3d中的规定波长的包层模光L1’反射并作为反射光L2’。而且，由于光栅4d从芯部1分离地形成，所以不会受到光栅4d的影响而使芯模光损失。
此外，从芯部1和第一包层部2的界面到感光层3d的距离Δ（第一包层部2的厚度）与第一实施方式相同。即，若在芯模光的强度比最大强度的1/e2小的区域形成感光层3d，则芯模光几乎不受光栅4d的影响。另外，更优选的是，距离Δ≥5μm。
如上所述，根据光纤型光学元件10d，由于不需要使光纤型光学元件10d变形，感光层3d的光栅4d不会成为干扰而使芯模光受到影响，所以能够尽可能地排除对芯模光带来影响的干扰。
由此，能够尽可能地排除对芯部1带来影响的干扰，在波导方向的所期望的位置有选择地使第一包层部2中的包层模光反射。另外，由于使用FG的方法，所以不需要大幅度变更光纤型光学元件10d的基本构造，光纤型光学元件10d的加工容易。
〔5.关于折射率光栅的形成方法〕
以下，基于图5的（a）～图5的（d）说明上述光栅4a～4d的形成方法。此外，这里说明的折射率光栅的形成方法与上述第一～第四实施方式以及以下说明的第五及第六实施方式相同。另外，折射率光栅的形成方法不限于这里说明的方法。
首先，图5的（a）是表示用第一覆盖层20及第二覆盖层30覆盖光纤型光学元件10a～10d的周围的情况的立体图。
另外，图5的（b）是表示除去了第二覆盖层30的一部分时的情况的立体图。
其次，图5的（c）是表示对除去了第二覆盖层30的一部分的部分照射紫外线时的情况的立体图。
而且，图5的（d）是表示向第一覆盖层20照射紫外光的衍射光时的各结构要素的配置的结构图。
如图5的（a）所示，光纤型光学元件10a～10d的外周侧被第一覆盖层20及第二覆盖层30覆盖，成为包覆光纤40。
第一覆盖层20由紫外线（以下也有称为“UV光”的情况）的透光率高的热固化型的有机硅树脂形成的。具体来说，可以列举二甲基硅树脂等。热固化型的有机硅树脂相对于波长244nm的紫外线具有约90%左右的透光率。因此，从由该有机硅树脂形成的第一覆盖层20上方照射紫外线，紫外线也能到达光纤型光学元件10a～10d。因此，在光纤型光学元件10a～10d形成光栅4a～4d时，不需要除去第一覆盖层20。
作为该第一覆盖层20的厚度优选为1～10μm。小于1μm时，不能得到光纤型光学元件10a～10d的保护功能，大于10μm时，光栅4a～4d形成时的紫外线的吸收增大。
其次，第二覆盖层30可以使用通常的光纤的覆盖中所使用的、按照紫外线吸收性波长244nm的紫外线吸收率在约10%以下的紫外线固化型树脂，优选使用环氧类或氨酯丙烯酸酯类的紫外线固化型树脂。
作为该第二覆盖层30的厚度优选为51.5～61.5μm。小于51.5μm时，不能给包覆光纤40提供充分的强度，大于61.5μm时，在光纤型光学元件10a～10d形成光栅4a～4d时的第二覆盖层30的除去变得困难，另外，包覆光纤40的操作性恶化。
由于该第二覆盖层30的紫外线固化型树脂的紫外线透光率对于244nm的紫外线为约10%以下，所以不需要如以往的仅将紫外线透光率高的紫外线固化型树脂用于覆盖层的光纤的制造方法那样地使制造速度降低，能够以通常的制造速度制造光纤型光学元件10a～10d。由于第二覆盖层30如上所述地紫外线透光率低，所以在FG的制造时需要除去，但能够容易地除去该第二覆盖层30。
例如，通过将紫外线束以脉冲状照射第二覆盖层30，紫外线固化型树脂吸收紫外线被加热，通过该热而燃烧，简单地引起消融（abrasion），从而能够容易地除去。该紫外线的照射能够通过将例如准分子激光等的紫外线束以脉冲状向第二覆盖层30照射而实现。这样，通过照射紫外线，能够除去第二覆盖层30，从而不会对光纤型光学元件10a～10d带来损伤。另外，第二覆盖层30的除去能够使用紫外线照射装置容易地进行，从而在FG的制造工序中，不需要准备特别的装置。
另外，由于被除去了第二覆盖层30的包覆光纤40其表面被紫外线透光率高的第一覆盖层20覆盖，所以从其上方照射紫外线能够形成光栅4a～4d。因此，在这样的包覆光纤40中，在光栅4a～4d形成过程中，光纤型光学元件10a～10d不会产生微裂纹，从而在光栅4a～4d形成后，光纤型光学元件10a～10d的强度不会劣化。
以下，对光栅4a～4d的形成方法的详细情况进行说明。首先，在100个大气压、50℃的氢气环境中保存5天，提高光纤型光学元件10a～10d的紫外线灵敏度（氢处理工序）。
然后，如图5的（b）及图5的（c）所示，在包覆光纤40的中途的形成光栅的部分，以脉冲状照射紫外线激光来除去第二覆盖层30。作为此时的紫外线照射装置能够使用与光栅所使用的装置相同的装置，除了氩离子激光的第二谐波（244nm）以外，还可以使用准分子激光、Q开关YAG（钇-铝-石榴石）激光的3次谐波等。另外，作为紫外线的波长优选为190～400nm，作为能量密度优选为0.5～10.0mJ/mm2，作为脉冲数优选为10～200Hz/10～1000sec。
然后，从第一覆盖层20上方向，对被除去了第二覆盖层30的包覆光纤40照射紫外线（UV光），在光纤型光学元件10a～10d形成光栅4a～4d。作为长周期光栅发挥功能的长周期的光栅4a～4d，能够使用以与要形成的光栅4a～4d的周期相同的周期形成有狭缝的散射掩膜（未图示）来形成。另一方面，作为布拉格光栅发挥功能的短周期的光栅4a～4d，能够使用图5的（d）所示的相位掩膜6如图5的（d）所示地实施。
此外，图5的（d）示出了图5的（b）所示的包覆光纤40中的包含光栅形成部50的第二覆盖层30的除去部分。另外，在相位掩膜6的一面以规定的周期（310nm）形成多个格子7。
为了形成作为布拉格光栅发挥功能的短周期的光栅4a（或4b～4d），如图5的（d）所示，从包覆光纤40的侧面经由相位掩膜6，从紫外线照射装置（未图示）照射氩离子激光的第二谐波（波长244nm的紫外线）。
此外，关于长周期光栅的光栅4a（或4b～4d），照射约20分钟的波长244nm的紫外线，关于布拉格光栅的光栅4b（或4a、4c、4d），照射约10分钟。
此外，在形成布拉格光栅的情况下，紫外线通过相位掩膜6的格子7衍射，+1次衍射光和-1次衍射光发生干涉而产生干涉条纹。另外，产生该干涉条纹的部分的光纤型光学元件10a～10d的感光层3a～3d的折射率因光折变效应而变化。此外，作为紫外线的衍射光也可以使用2次以上的衍射光。
另外，光栅4a～4d也可以是倾斜型光栅。倾斜型光栅通过其角度转换效应能够强力地结合到辐射模。为得到倾斜型光栅，利用光折变效应时，例如，在图5的（d）所示的形成在相位掩膜6的一面上的周期性的格子7相对于包覆光纤40的轴向倾斜地设置的状态下，经由该相位掩膜6向包覆光纤40照射紫外光即可。
以上的结果，能够制造沿光纤型光学元件10a～10d的波导方向形成有光栅4a～4d的FG。此时的周期为短周期的情况下成为光纤布拉格光栅，在长周期的情况下成为长周期光纤光栅。然后，作为脱氢工序，进行约12小时的120℃的热处理。
〔6.第五实施方式〕
以下，基于图6说明本发明的又一实施方式的光纤激光器70的结构。图6是表示光纤激光器70的结构的框图。本实施方式的光纤激光器70具有作为布拉格光栅发挥功能的第二或第四实施方式的光纤型光学元件10b或10d。
如图6所示，光纤激光器70具有光纤型光学元件10b或10d、脉冲光源71、泵浦合束器72及合计4个的LD73。
脉冲光源71使例如脉冲宽度50ns、峰值功率60W、重复频率20kHz、波长1.06μm的脉冲（信号光）经由泵浦合束器72入射到光纤型光学元件10b或10d的芯部1。
另外，LD73使波长980nm的激发光（激光）经由泵浦合束器72入射到光纤型光学元件10b或10d的第一包层部2及感光层3b或3d。
在本实施方式中，入射到芯部1的信号光和入射到第一包层部2及感光层3b或3d的激发光，经由泵浦合束器72入射到光纤型光学元件10b或10d。
光纤型光学元件10b或10d采用图2所示的双包层构造。由此，芯1作为对信号光进行波导的波导路发挥功能，第一包层2及感光层3b或3d作为对激发光进行波导的波导路（内包层）发挥功能。第二包层5用于将激发光封入内包层。在光纤型光学元件10b或10d中，光栅4b或4d形成在对激发光进行波导的感光层3b或3d的与泵浦合束器72侧相反的一侧的端部。由此，未被镱的激发中使用的激发残留光（的一部分）能够在与泵浦合束器72侧相反的一侧的端部反射，再用于镱的激发。
〔7.第六实施方式〕
以下，基于图7的（a）及图7的（b）说明本发明的又一实施方式的LD模块80的结构。本实施方式的LD模块80具有作为长周期光纤光栅发挥功能的第一实施方式的光纤型光学元件10a或10c。
图7的（a）是表示LD模块80的结构的框图，图7的（b）是表示光纤型光学元件10a或10c（作为透镜光纤）的透镜部82的构造的一例的示意图。
如图7的（a）所示，LD模块80具有高功率LD81、透镜部82、基座83、副底座84、珀耳帖元件（Peltier device）85、金属管嘴（ferrule）86及激光射出口87。
高功率LD81的输出功率为10W左右，输出光（激光）的波长为915nm。
高功率LD81为了提高散热特性，以结（Junction-down）的配置被固定在副底座84上。
透镜部82是将光纤型光学元件10a或10c的一个端面制成透镜形状的部分，如图7的（b）所示，楔角θ为约115°，透镜径r为约15μm。由此，从高功率LD81出射的激光有效地聚光在光纤型光学元件10a或10c的芯部1。
另外，光纤型光学元件10a或10c在被精密调芯之后，通过YAG焊接而被固定在基座83上。在基座83的下方安装有珀耳帖元件85（thermoelectric cooler:TEC），能够恒定地控制高功率LD81的温度。
此外，金属管嘴86用于固定光纤型光学元件10a或10c的光出射端侧，激光从激光射出口87出射。
在本实施方式的光纤型光学元件10a或10c中，贯穿金属管嘴86的部分被实施金属涂层。因此，优选在被实施金属涂层的区域的近前侧，使包层模光向光纤型光学元件10a或10c的外部辐射，防止金属涂层的过热。因此，在本实施方式所示的例子中，感光层3a或3c中的光栅4a或4c从距离透镜部82约为2.5cm的位置开始沿波导方向在约2cm的范围内作为倾斜角为10度的倾斜型光栅形成。此外，光栅4a或4c的周期PL为约750nm。另外，倾斜角是指光栅方向（与引起折射率上升的面垂直的方向）和光纤型光学元件10a或10c的轴向所成的角。
另外，本发明还能够如下地表现。
即，本发明的光纤型光学元件中，所述感光层优选存在于振幅向所述芯部偏在的波导模的光强度比最大强度的1/e2小的区域。另外，包层部的厚度也可以为5μm以上。
根据所述结构，本发明的光纤型光学元件中，可视为振幅向芯部偏在的波导模的振幅的几乎全部，存在于光强度成为最大强度的1/e2的区域内（或包层部的厚度不超过5μm的范围内），而在光强度比最大强度的1/e2小的区域（或包层部的厚度为5μm以上的范围）中不存在芯模光的振幅，从而能够不对芯模光带来影响地抑制包层模光直接传播。
此外，单模的情况下，光强度为最大强度的1/e2的区域的直径成为所谓的模场直径（Mode Field Diameter；MFD）。
以上，由于芯部和感光层充分分离，所以能够避免折射率光栅成为对芯模光的干扰。
另外，本发明的光纤型光学元件也可以设置沿所述波导方向延伸并环绕所述感光层的周围的其他的包层部。
根据所述结构，能够将本发明适用于具有多个包层部的光纤型光学元件。
以下，在具有多个包层部的情况下，例如，从接近芯部的一方开始依次称为第一包层部、第二包层部、...第L包层部...第N包层部（L、N是自然数；L＜N）。
此时，感光层也可以接近从第一包层部～第N包层部中选择的一个包层部的外周侧地设置。
例如，在有选择地使第L包层部的包层模光结合到其他模（包括辐射模）或反射的情况下，感光层接近第L包层部的外周侧地设置即可。
另外，本发明的光纤型光学元件中，所述折射率光栅也可以是使规定波长的波导模结合到辐射模的长周期光栅，也可以是反射规定波长的波导模的布拉格光栅。
若折射率光栅是长周期光纤光栅（以下称为长周期光栅），则能够使规定波长的波导模结合到辐射模。
另外，若是短周期光纤光栅或光纤布拉格光栅（以下称为布拉格光栅），则能够反射规定波长的波导模。
另外，本发明的光纤型光学元件中，所述布拉格光栅也可以是倾斜型的光栅。
倾斜型的光栅能够通过其角度转换效应，使规定波长的波导模强力地结合到辐射模。
另外，本发明的激光二极管模块也可以是具有所述光纤型光学元件中的任意一个的激光二极管模块。
根据所述结构，例如，将折射率光栅形成在波导方向的所期望的位置，并设为长周期光栅，由此，能够在所期望的位置使包层部中的不要的光或剩余的光结合到辐射模，从而得到能够防止覆盖光纤型光学元件的覆盖部或金属涂层部成为高温状态并损坏等的效果。
另外，本发明的光纤激光器也可以是具有所述光纤型光学元件中的任意一个的光纤激光器。
根据所述结构，例如，通过将折射率光栅设为布拉格光栅，能够将不能对芯模光的放大作出贡献的激光的一部分在所期望的位置反射，得到能够对芯模光的放大再次作出贡献等的效果。
〔附记〕
本发明不限于上述各实施方式，在权利要求书的范围内能够进行各种变更，关于适当组合不同的实施方式所公开的技术手段而得到的实施方式也包含于本发明的技术范围。
工业实用性
本发明能够被用于光纤激光器或LD模块等所使用的光纤型光学元件。尤其，能够良好地用于要求振幅向芯部偏在的波导模的损失低的光纤型光学元件、光纤激光器及LD模块等。
附图标记的说明
1芯部
2第一包层部（包层部）
3a、3b、3c、3d感光层
4a、4b、4c、4d光栅（折射率光栅、长周期光栅、布拉格光栅）
5第二包层部（其他包层部）
6相位掩膜
7格子
10a、10b、10c、10d光纤型光学元件
20第一覆盖层
30第二覆盖层
40包覆光纤
50光栅形成部
70光纤激光器
71脉冲光源
72泵浦合束器
73LD
80LD模块（激光二极管模块）
81高功率LD
82透镜部
83基座
84副底座
85珀耳帖元件
86金属管嘴
87激光射出口
d1芯径
d2第一包层径
d3感光层外径
d4第二包层径
L1、L1’包层模光
L2辐射模
L2’反射光
n、n1～n4折射率
PL、PS    周期

Claims (9)

1.一种光纤型光学元件，其特征在于，具有：
沿入射的光的波导方向延伸的芯部；
感光层，该感光层是沿所述波导方向延伸并环绕所述芯部的周围的感光层，在规定波长的紫外线的照射下形成折射率光栅，
在所述芯部和所述感光层之间设置有包层部，该包层部为折射率比芯部低、且在所述规定波长的紫外线的照射下折射率变化的光敏性比所述感光层低的包层部。
2.如权利要求1所述的光纤型光学元件，其特征在于，所述感光层存在于振幅向所述芯部偏在的波导模的光强度比最大强度的1/e2小的区域。
3.如权利要求1或2所述的光纤型光学元件，其特征在于，设置有沿所述波导方向延伸并环绕所述感光层的周围的其他包层部。
4.如权利要求1~3中任一项所述的光纤型光学元件，其特征在于，所述折射率光栅是将规定波长的波导模结合于辐射模的长周期光栅。
5.如权利要求1~3中任一项所述的光纤型光学元件，其特征在于，所述折射率光栅是反射规定波长的波导模的布拉格光栅。
6.如权利要求5所述的光纤型光学元件，其特征在于，所述布拉格光栅是倾斜型的光栅。
7.如权利要求1~6中任一项所述的光纤型光学元件，其特征在于，所述包层部的厚度为5μm以上。
8.一种激光二极管模块，其特征在于，具有权利要求1~7中任一项所述的光纤型光学元件。
9.一种光纤激光器，其特征在于，具有权利要求1~7中任一项所述的光纤型光学元件。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105659125A (zh) * 2013-08-07 2016-06-08 科拉克蒂夫高科技公司 空间调制的包层模剥离器及其光纤
CN107864672A (zh) * 2015-05-13 2018-03-30 斯特拉斯堡大学 激光处理装置和包括此装置的工作站
TWI667853B (zh) * 2017-12-26 2019-08-01 國家中山科學研究院 High power fiber laser beam combining component

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103229370B (zh) * 2011-06-29 2015-06-10 松下电器产业株式会社 光纤维激光器
US9366810B2 (en) * 2012-08-29 2016-06-14 Ofs Fitel, Llc Double-clad, gain-producing fibers with increased cladding absoroption while maintaining single-mode operation
US9366806B2 (en) 2012-08-29 2016-06-14 Ofs Fitel, Llc Gain-producing fibers with increased cladding absorption while maintaining single-mode operation
JP5771586B2 (ja) * 2012-10-16 2015-09-02 株式会社フジクラ 光ファイバ及びそれを用いたファイバレーザ装置
US9482824B2 (en) * 2013-03-15 2016-11-01 Ofs Fitel, Llc Removing unwanted light from high-power optical systems
US9091800B2 (en) * 2013-03-15 2015-07-28 Ofs Fitel, Llc Glass buffers
JP6033200B2 (ja) * 2013-08-27 2016-11-30 オーエフエス ファイテル，エルエルシー シングルモード動作を維持したままクラッド吸収を増加させた利得をもたらすファイバ
CN103811985B (zh) * 2014-03-05 2017-01-18 中国科学院半导体研究所 一种小型化的铒镱共掺超荧光光纤光源
JP2016189406A (ja) * 2015-03-30 2016-11-04 Kddi株式会社 光増幅器
US10101630B2 (en) 2016-04-28 2018-10-16 Analog Photonic Llc Optical waveguide device
US10495816B2 (en) 2017-03-16 2019-12-03 Ofs Fitel, Llc Cladding mode stripper for use with optical systems and methods of forming the same
JP2019095466A (ja) * 2017-11-17 2019-06-20 住友電気工業株式会社 光ファイバおよびスラント型ファイバグレーティング
DK3757635T3 (da) * 2018-02-20 2023-11-27 Sumitomo Electric Industries Fremgangsmåde til fremstilling af optisk fiber
EP3850408A4 (en) 2018-09-10 2022-05-18 nLIGHT, Inc. OPTICAL FIBER SPLICE ENCAPSULATED BY SHEATH MODE LIGHT SUPPRESSOR
EP3841411A4 (en) * 2018-09-21 2022-06-01 NLIGHT, Inc. LIGHT STRIPPER FOR THE COAT OF AN OPTICAL FIBER
US11061186B2 (en) * 2018-11-26 2021-07-13 Globalfoundries U.S. Inc. Waveguide structures
US20210367391A1 (en) * 2020-05-20 2021-11-25 UNIVERSITé LAVAL Pump reflectors for cladding-pumped optical fiber systems
JP7441129B2 (ja) 2020-06-25 2024-02-29 株式会社フジクラ ファイバレーザ装置
JPWO2022196124A1 (zh) * 2021-03-18 2022-09-22

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001021772A (ja) * 1999-07-08 2001-01-26 Mitsubishi Electric Corp レーザダイオードモジュール
CN1407357A (zh) * 2001-08-31 2003-04-02 株式会社藤仓 纤维型光学元件
JP2003167137A (ja) * 2001-11-29 2003-06-13 Fujikura Ltd スラント型短周期光ファイバグレーティング及びその製造方法
CN1476541A (zh) * 2000-06-19 2004-02-18 ��ʽ�����ٲ� 倾斜型短周期光栅
US20040151467A1 (en) * 2002-04-30 2004-08-05 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Optical fiber and fiber grating type filter including the same
US6842566B2 (en) * 2001-07-13 2005-01-11 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Optical fiber with built-in grating and optical fiber for forming grating therein
JP2008158094A (ja) * 2006-12-21 2008-07-10 Hamamatsu Photonics Kk 光学部品及び光学装置
JP2009282468A (ja) * 2008-05-26 2009-12-03 Fujitsu Ltd 光ファイバ、光レセプタクル及びレセプタクル型光モジュール

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3929495B2 (ja) * 1996-01-18 2007-06-13 ブリティッシュ・テレコミュニケーションズ・パブリック・リミテッド・カンパニー 光感応性屈折率クラッドを備えた光導波路
JP4212724B2 (ja) 1999-06-28 2009-01-21 株式会社フジクラ 光増幅器
US6400865B1 (en) * 2000-05-31 2002-06-04 Fitel Usa Corp. Article comprising a Bragg grating in a few-moded optical waveguide
US6836607B2 (en) * 2001-03-14 2004-12-28 Corning Incorporated Cladding-pumped 3-level fiber laser/amplifier
US7376307B2 (en) * 2004-10-29 2008-05-20 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd Multimode long period fiber bragg grating machined by ultrafast laser direct writing
DE502005003668D1 (de) 2005-09-29 2008-05-21 Trumpf Laser Gmbh & Co Kg Optische Faser und Verfahren zu ihrer Herstellung
US7440176B2 (en) * 2006-02-17 2008-10-21 Newport Corporation Bi-directionally pumped optical fiber lasers and amplifiers
US7349596B2 (en) * 2006-03-16 2008-03-25 Northrop Grumman Corporation System and method to remove light from cladding
US7437046B2 (en) 2007-02-12 2008-10-14 Furukawa Electric North America, Inc. Optical fiber configuration for dissipating stray light
FR2930997B1 (fr) * 2008-05-06 2010-08-13 Draka Comteq France Sa Fibre optique monomode

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001021772A (ja) * 1999-07-08 2001-01-26 Mitsubishi Electric Corp レーザダイオードモジュール
CN1476541A (zh) * 2000-06-19 2004-02-18 ��ʽ�����ٲ� 倾斜型短周期光栅
US6842566B2 (en) * 2001-07-13 2005-01-11 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Optical fiber with built-in grating and optical fiber for forming grating therein
CN1407357A (zh) * 2001-08-31 2003-04-02 株式会社藤仓 纤维型光学元件
JP2003167137A (ja) * 2001-11-29 2003-06-13 Fujikura Ltd スラント型短周期光ファイバグレーティング及びその製造方法
US20040151467A1 (en) * 2002-04-30 2004-08-05 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Optical fiber and fiber grating type filter including the same
JP2008158094A (ja) * 2006-12-21 2008-07-10 Hamamatsu Photonics Kk 光学部品及び光学装置
JP2009282468A (ja) * 2008-05-26 2009-12-03 Fujitsu Ltd 光ファイバ、光レセプタクル及びレセプタクル型光モジュール

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105659125A (zh) * 2013-08-07 2016-06-08 科拉克蒂夫高科技公司 空间调制的包层模剥离器及其光纤
CN107864672A (zh) * 2015-05-13 2018-03-30 斯特拉斯堡大学 激光处理装置和包括此装置的工作站
TWI667853B (zh) * 2017-12-26 2019-08-01 國家中山科學研究院 High power fiber laser beam combining component

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Publication number Publication date
US20130016742A1 (en) 2013-01-17
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